説明

Fターム[4G072FF07]の内容

珪素及び珪素化合物 (39,499) | 薄膜基材 (239) | 有機材料 (42)

Fターム[4G072FF07]に分類される特許

1 - 20 / 42


【課題】反射光の低減とガスバリア性を共に付与せることが可能なシリカ膜前駆体材料、これを用いたシリカ膜及び前記シリカ膜を形成させたガスバリア防眩成形体を、提供する。
【解決手段】シリカ前駆体であるシラザン化合物、層状粘土鉱物及び有機溶剤を含むシリカ膜前駆体材料を基材上に塗布し、加熱処理、加湿処理、紫外線照射処理、又は、前記加熱処理と紫外線照射処理とを同時に行う処理の何れかによりシリカ膜を形成し、ガスバリア防眩成形体とする。 (もっと読む)


【課題】 本発明では、分散安定性に優れ、硬度の高いフィルムを調整する際に好ましく用いることのできるシリカ粒子の製造方法、及び当該シリカ粒子が分散された分散体を含む硬化性樹脂組成物の硬化物である硬度の高いフィルムを提供することを課題とする。
【解決手段】 上記の課題を解決するため、(メタ)アクリロイル基を有する化合物、及びトリアルキルシリル基を有する化合物で表面処理されたシリカ粒子の製造方法を提供することにより上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】空隙率が高く、小粒径で、かつ温湿度等の環境変化に強い球状の中空粒子、これを用いた赤外線反射フィルム及び赤外線反射体を提供することにある。
【解決手段】シェルがシリカ(SiO)と金属酸化物(MOx)を含有し、その組成がモル比で、
1<(Si/M)<100
で、かつ体積換算平均粒子径が、10〜200nmであることを特徴とする中空粒子。
(式中、Mは第3族、第4族、第5族、第13族またはSiを除く第14族の金属元素を表す。) (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、新規な半導体シリコン膜及びそのような半導体シリコン膜を有する半導体デバイス、並びにそれらの製造方法を提供することである。
【解決手段】本発明の半導体シリコン膜(160)は、複数の細長シリコン粒子(22)が短軸方向に隣接してなる半導体シリコン膜である。ここでは、細長シリコン粒子(22)は、複数のシリコン粒子の焼結体である。また、このような半導体シリコン膜(160)を製造する本発明の方法は、第1のシリコン粒子分散体を、基材(100)上に塗布し、乾燥し、光(200)を照射して、第1の半導体シリコン膜(130)を形成する工程、第2のシリコン粒子分散体を、第1の半導体シリコン膜(130)に塗布し、乾燥し、光(200)を照射する工程を含む。ここで、この方法では、第1のシリコン粒子分散体の第1のシリコン粒子の分散が5nm以上である。 (もっと読む)


【課題】本発明によれば、カーボンナノチューブの分散性を維持しつつ高い導電性を示す導電性複合体の製造方法を提供する。
【解決手段】分子内にスルホン酸基を有する分散剤(A)とカーボンナノチューブを含有する組成物(B)を基材上へ製膜する第一の工程、および組成物(B)が製膜された面にオーバーコート剤を積層する第二の工程を含む導電性複合体の製造方法であって、第一の工程における導電層の表面抵抗値Rと第二の工程を経た後の導電層の表面抵抗値Rとの関係がR>Rとなることを特徴とする導電性複合体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】ポリマーが熱により変質することを抑制してポリマーの表面に好適に成膜できる成膜方法及び成膜装置を提供する。
【解決手段】超臨界流体に酸化剤のオゾンガスと酸化物用原料のTEOSとを供給し、構造体1及びその周囲を200℃の温度で加熱することによって、酸化物であるSiO2を生成させ、このSiO2によって構造体1のマイクロ流路3の内壁全面(従ってポリマーであるPDMS膜9の表面)に酸化物層5であるSiO2層を形成する。これにより、従来に比べて低い温度で酸化物層5を形成できるので、ポリマーが変質する等の問題が生じないという顕著な効果を奏する。また、ポリマー表面を隙間無く覆う様に酸化物層5を形成できるので、親水性やガス透過防止性を高めることができるという利点もある。 (もっと読む)


【課題】シラザン化合物を用いることで高価な真空装置を使用せず、低温処理ができ且つ短時間の処理で、蒸着法によるシリカ膜に匹敵する酸素ガスバリア性能を、合成樹脂成形体に付与させた酸素ガスバリア成形体を提供する。
【解決手段】合成樹脂成形体1と、この合成樹脂成形体表面の一部又は全部に設けられるシリカ膜2とを備え、前記シリカ膜が、シラザン化合物を前駆体とするものであって、前記シラザン化合物に、紫外線照射を行うと同時に加熱処理を行うことで形成され、酸素ガス透過度が、0.5ml/m・day未満である酸素ガスバリア成形体。 (もっと読む)


【課題】ガスバリア性が高く、屈曲後や経時保存後も高いガスバリア性を維持し、生産性が高く安価に製造可能なガスバリア性フィルムとその製造方法、及び該ガスバリア性フィルムを有する有機電子デバイスを提供することである。
【解決手段】金属酸化物を含むガスバリア層を有するガスバリア性フィルムの製造方法において、該ガスバリア性フィルムを絶対湿度が0.001〜3g/mの環境下において、水と反応する材料を該ガスバリア層表面に接触させることを特徴とするガスバリア性フィルムの製造方法。 (もっと読む)


【課題】低温で且つ迅速にSiO系セラミックス膜を形成する方法により、効率良くガスバリアフィルムを得て、最終的に得られるセラミックス膜のガスバリア性、耐傷性等の膜特性を向上したガスバリアフィルム及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ポリ珪素化合物を含有する塗工液をプラスチックフィルム支持体に塗布した後、該塗布されたポリ珪素化合物をVUV光によりセラミックに転化させたガスバリアフィルムであって、該ポリ珪素化合物の下記数式で定義する分散度が、3.00以上20.00以下であることを特徴とするガスバリアフィルム及びその製造方法。 (もっと読む)


【課題】金属珪素と二酸化珪素の蒸着用材料は、加熱時に蒸気圧が高いために蒸発しにくく、さらに溶融型の蒸着用材料であるため、より大きい熱衝撃が必要となり、蒸着用材料が飛散してスプラッシュが発生しやすい。また蒸着速度の低下の問題、蒸着膜のバリア性の低下の問題もある。本発明の課題は、スプラッシュ現象の発生を抑制し、高いガスバリア性を付与できる蒸着用材料を提供することである。
【解決手段】金属珪素と、二酸化珪素と、酸化マグネシウム粉末とを含有してなる加熱方式の蒸着用材料であって、珪素とマグネシウムの合計の原子数と、酸素の原子数の比(O/(Si+Mg))が1.0〜1.8であり、マグネシウムと珪素の原子数の比(Mg/Si)が0.02〜0.50であることを特徴とする蒸着用材料。 (もっと読む)


【課題】異物による成膜不良を抑制し良好な成膜を実現する成膜方法を提供する。
【解決手段】長尺の基材100を連続的に搬送しながら、プラズマ反応を用いて当該基材100の成膜面100aに連続的に薄膜層を形成する成膜方法であって、基材100の搬送経路に沿って、有機ケイ素化合物と酸素とを含む成膜ガスの放電プラズマを、プラズマ強度が主として有機ケイ素化合物の完全酸化反応を生じる強度である第1の空間と、主として有機ケイ素化合物の不完全酸化反応を生じる強度である第2の空間と、が交互に連続するように生じさせ、第1の空間および第2の空間と重なるように基材100を搬送し、第1の空間または第2の空間を通過した後に、表面が基材100より柔らかい搬送ロール22,23で成膜面100aを保持しながら、基材100を搬送する。 (もっと読む)


【課題】ガスバリア性が高く、屈曲後も高いガスバリア性を維持する、安定性の高いガスバリア性フィルムを提供すること、生産性が高く安価に製造可能な該ガスバリア性フィルムの製造方法を提供すること、及び、該ガスバリア性フィルムを有する有機電子デバイスを提供する。
【解決手段】支持体側から第1の高ガスバリア性領域、水分トラップ領域、第2の高ガスバリア性領域をこの順に有するガスバリア性フィルムにおいて、支持体から第1の高ガスバリア性領域までのJIS K 7129B法に従って測定した水蒸気透過率(水蒸気透過度:25±0.5℃、相対湿度(90±2)%RH)(WVTR(g/m/day))が2×10−2〜1×10−3のガスバリア性を有し、第2の高ガスバリア性領域がケイ素化合物層、水分トラップ領域がシラザン化合物由来の窒素原子を含有するケイ素化合物層、からなることを特徴とするガスバリア性フィルム。 (もっと読む)


【課題】 温度が60℃で湿度が90%(RH)という様な過酷な湿熱環境下でもバリア性が劣化せずに表示デバイス内部に水が浸入しないという良好なバリア性を有すると共に、端面からの酸素及び水蒸気の浸入をも防ぐことができるガスバリア性フィルム積層体を提供することを目的とする。
【解決手段】 プラスチック材料からなる基材フィルムの一方の面に、第1の耐候性コート層、蒸着層、及び、第2の耐候性コート層を、この順に設けたガスバリア性フィルム積層体において、該第1の耐候性コート層、及び又は、第2の耐候性コート層が、架橋性基を有するフッ素含有共重合体と該架橋性基と反応する硬化剤とにより形成されたフッ素系樹脂からなることを特徴とするガスバリア性フィルム積層体を提供することにより上記目的を達成する。 (もっと読む)


【課題】保護層に無機層状化合物を含有するが、保護層塗布液中での凝集沈降が無く、レーザー露光により効率よく画像を形成でき、しかも耐刷性と、着肉性及び機上現像性に優れる平版印刷版原版、並びにそれを用いた平版印刷方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、重合開始剤及びラジカル重合性化合物を含有する画像記録層、並びに無機層状化合物を含有する保護層を有する平版印刷版原版において、アンモニウムまたはホスホニウムを有する特定の官能基と特定の(メタ)アクリルアミド単位を有するポリマーを画像記録層及び保護層の少なくともいずれかに含有することを特徴とする平版印刷版原版。 (もっと読む)


【課題】基材と多孔質シリカ膜との密着性が高く、可視光線透過率が高い、多孔質シリカ膜を有する積層体を提供する。
【解決手段】Tgが200℃以下の透光性基材上に、屈折率が1.20〜1.35である多孔質シリカ膜を有する積層体であって、ミルスペックMIL−CCC−c−440に記載のチーズクロスを荷重500g/cmで前記多孔質シリカ膜表面上を20往復させる耐摩耗性試験において、前記積層体の可視光線透過率の変化量が、試験前の前記積層体の可視光線透過率に対して5%未満であることを特徴とする積層体。 (もっと読む)


【課題】局所的な凝集が発生せず分散安定性に優れた被膜用シリカゾルを提供し、また耐擦傷性、耐薬品性が良好な被膜を形成し得る組成物を提供し、さらに前記組成物を硬化させて形成する被膜、及び樹脂積層体を提供する。
【解決手段】(a−1)中空シリカ微粒子40〜90質量%と、(a−2)特定のシラン化合物60〜10質量%と極性溶媒とを含む混合物を加熱する第1の工程、固形分濃度が35質量%以下にある前記混合物に前記極性溶媒の沸点より高い沸点を有する非極性溶媒を添加する第2の工程、加熱を行い極性溶媒を揮発させ、前記固形分濃度を30質量%〜80質量%とする第3の工程、前記混合物中、縮合反応させる第4の工程を有する被膜用シリカゾルの製造方法。 (もっと読む)


【課題】充放電時の体積変化による影響を緩和して、良好な充放電サイクル特性を発現することが可能なリチウムイオン二次電池用負極活物質を提供する。
【解決手段】少なくともシリコンと酸素とを構成元素中に含む物質からなるリチウムイオン二次電池用の負極活物質であって、厚みが30〜500nmであり、かつ、平均長径/厚みの比が10〜100である鱗片状の粉末からなり、酸素含有量が5〜38wt%であるようにした。 (もっと読む)


【課題】低濃度の均一相を有するブタノール溶液から、ブタノールが高濃度で相分離しない均一相のブタノールを効率よく分離濃縮する方法を提供する。
【解決手段】低濃度の均一相を有するブタノール水溶液から、浸透気化分離法により、その濃度が80wt%以上の均一相のブタノール水溶液を得ることができ、浸透気化法に用いる膜として、25℃以上で3時間20分以上撹拌して調製した合成ゲルを用いて、種結晶を塗布した多孔質基板上に水熱合成を施すことでシリカライト膜を形成し、さらにその上にシリコンゴムコーティングを施すことにより製造されたものが用いられる。 (もっと読む)


【課題】高い屈折率と低い光触媒活性を有する金属酸化物微粒子を含む水分散ゾルの調製方法並びにその水分散ゾル、および該金属酸化物微粒子を含む有機溶媒分散ゾル並びに塗料組成物を提供する。
【解決手段】チタニウムと、スズおよび/またはケイ素とを含む複合酸化物からなるチタン系微粒子の表面を、シリカ系酸化物またはシリカ系複合酸化物で被覆してなる表面被覆チタン系微粒子集合体を乾燥・焼成し、得られた該集合体の焼結物を水の存在下で粉砕してなる金属酸化物微粒子を含む水分散ゾルの調製方法並びにその水分散ゾル、および該金属酸化物微粒子を含む有機溶媒分散ゾル並びに塗料組成物。 (もっと読む)


【課題】pHが3.0〜6.0の酸性域で安定であり、塗料組成物および該塗料組成物より得られる塗膜中での安定性、透明性などに優れるシリカ系微粒子分散ゾルを提供する。
【解決手段】(1)水に分散可能なシリカ微粒子を含み、しかもpHが9.0〜11.5の範囲にあるアルカリ性シリカゾルに、アルミン酸塩の水溶液を、該シリカゾル中に含まれるケイ素成分をSiO2で表し、さらに該アルミン酸塩中に含まれるアルミニウムをAl23で表したとき、そのモル比(Al23/SiO2)が0.005〜0.050となるような割合で混合する工程、(2)前記工程(1)で得られた混合液を60〜200℃の温度に加熱して、0.5〜20時間、撹拌する工程、(3)前記工程(2)で得られた混合液を陽イオン交換樹脂と接触させて、該混合液中に含まれるアルカリ金属イオンをイオン交換除去して、該混合液のpHを3.0〜6.0の範囲に調整する工程を含む。 (もっと読む)


1 - 20 / 42