【課題】対向拡散ＣＶＤにより形成されるシリカ膜を備えたガス分離材の製造方法において、欠陥が存在する多孔質基材を用いても、良好な性能を有するシリカ膜を安定して形成することができるガス分離材の製造方法を提供すること。
【解決手段】多孔質基材１２とシリカ膜とを備えるガス分離材を製造する方法が提供される。該方法は、多孔質基材１２を用意する工程と、前記基材１２の一方の面側１２ａにシリカ源含有ガス２として不活性ガスと共に供給される気化したシリカ源と、該基材１２の他方の面側１２ｂに供給される酸素含有ガス３とを反応させる化学蒸着法によって、該基材１２にシリカ膜２１を形成する工程と、前記シリカ膜２１を形成する工程において排出されるガス組成をガスクロマトグラフィーにてモニタリングすることによって、前記シリカ膜２１の形成の終了点を決定する工程を包含する。 （もっと読む）

【課題】｛１１０｝面からの傾斜角度が小さくてもヘイズレベルが良好で、かつシリコン単結晶エピタキシャル層の層厚均一性も良好であり、更に表面欠陥の少ないシリコンエピタキシャルウェーハの製造方法を提供する。
【解決手段】シリコン単結晶基板の主表面上にシリコン単結晶エピタキシャル層を気相成長させるシリコンエピタキシャルウェーハの製造方法であって、前記シリコン単結晶基板として、主表面が｛１１０｝面または｛１１０｝面からのオフアングル角度が０．５度未満のものを用い、かつ前記気相成長工程では、前記シリコン単結晶基板温度を１１７０℃〜１１９０℃として気相成長することを特徴とするシリコンエピタキシャルウェーハの製造方法。 （もっと読む）

【課題】シリカ粒子を含有する分散液をガラス容器中で時間をかけて沈殿させる場合では、シリカ粒子を沈殿させるまでに長時間かかってしまい工数が長くなること、あるいは、ガラスなどの撥水性基板の面上に、シリカなどの微粒子を含む液体を滴下し、凝集させて付着させる場合は、液滴の大きさの範囲内でしかオパール調の模様を形成できないこと。
【解決手段】吸液性基材と、シリカ粒子からなるシリカ層とを有するオパール装飾品であって、前記シリカ層は、前記吸液性基材上に位置し、前記シリカ粒子が少なくとも不規則な配列を有する第１層と、前記第１層上に位置し前記シリカ粒子が規則配列した第２層とを有すること。 （もっと読む）

【課題】基材の面粗度に関係なく、優れた耐食性を十分に発揮できる複合膜、およびその形成方法を提供する。
【解決手段】基板２０上に設けられた、シリカと樹脂を含有するコーティング膜１１と、該コーティング膜１１上に設けられたシリカ膜１２とを備えたことを特徴とする複合膜１０、および基材２０上に、ポリシラザンと、樹脂と、ポリシラザンとは反応せず、かつポリシラザンが溶解する溶媒とを含有する混合液を塗布し、乾燥させてコーティング膜１１を形成するコーティング膜形成工程と、前記コーティング膜１１上に、ポリシラザン溶液を塗布し、乾燥させてポリシラザン膜を形成するポリシラザン膜形成工程と、前記ポリシラザン膜中のポリシラザンをシリカに転化して、シリカ膜１２を形成するシリカ膜形成工程とを有することを特徴とする複合膜の形成方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ナノ細孔膜、かかるナノ細孔膜を製造する方法、およびその使用を提供する。
【解決手段】膜を製造する方法では、フォトリソグラフィーがコロイドリソグラフィーと組み合わされて使用され、これによってナノサイズ細孔を短時間で大規模に製造できる。結果として生じる膜の細孔は狭いサイズ分布を有し、無作為に配置される。さらに、細孔間距離は変化をほとんど示さない。 （もっと読む）

【課題】クロロシランを効率良く金属で還元して高純度の多結晶シリコンを製造する方法を提供する。
【解決手段】工程（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を有することを特徴とする多結晶シリコンの製造方法。
（Ａ）温度Ｔ１で下式（１）
原料である、ＳｉＨ_nＣｌ_4-n （１）
（式中、ｎは０〜３の整数。）
で示されるクロロシランを金属で還元して、シリコン化合物を得る工程、
（Ｂ）該シリコン化合物を温度Ｔ２（Ｔ１＞Ｔ２の関係にある。）の部分に移送する工程、
（Ｃ）該温度Ｔ２の部分に多結晶シリコンを析出させる工程、ここで
温度Ｔ１が、金属の融点（絶対温度）の１．２９倍以上であり、
温度Ｔ２が、金属の塩化物の昇華点又は沸点より高い。 （もっと読む）

【目的】球状シリカ粒子の従来の製造手法の中で、大粒の粒子と小粒の粒子の比率、これらの粒子の平均粒子径を特定範囲内で制御することを可能とする独立２峰性の粒径分布を有する球状シリカ粒子懸濁溶液とその製造方法、および球状シリカ粒子を提供する。
【構成】独立２峰性の粒径分布）を有する球状シリカ粒子の懸濁溶液であって、該懸濁溶液の調製が３５℃以上溶媒の沸点以下で行われ、大粒粒子の平均粒子径（Ｄｌ）が９００〜１８００ｎｍ、小粒粒子の平均粒子径（Ｄｓ）が５０〜４００ｎｍであり、ＤｌとＤｓの比（Ｄｌ／Ｄｓ）が５〜２０であり、小粒粒子の占める体積割合が２０〜４０％であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、イオン交換性の無機粒子からなる防錆材において、より高い防錆性を有し、該防錆効果の安定性、持続性にも高度に優れたものを開発することを目的とする。
【解決手段】 第４級又は第３級アンモニウム基、ピリジニウム基、イミダゾリウム基等の陰イオン交換基を有する重合体、好適には、イオン交換容量が０．００５〜４ｍｍｏｌ／ｇであり、架橋されたものからなる陰イオン交換基を有する重合体により、シリカ等の無機粒子が被覆されてなることを特徴とする防錆材。 （もっと読む）

本発明は、表面処理されていない基質にプローブを固定するためのゾル−ゲルバイオチップ用のゾル組成物のスクリーニング方法、前記方法によりスクリーニングされたゾル組成物及び前記ゾル組成物が固定されているゾル−ゲルバイオチップに関する。本発明によりスクリーニングされたゾル組成物はプローブと混合して既存のバイオアッセイに広く用いられる９６ウェルプレートに表面処理なしに集積することができ、固定されたプローブの変形が少なくて優れた分析結果が得られる。
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【課題】膜表面が平坦で、かつ、薄い膜厚でも十分な強度を有する多孔質シリカ膜の形成方法、及びこの多孔質シリカ膜を用いた表示装置用窓部材を提供する。
【解決手段】本発明の多孔質シリカ膜の形成方法は、多孔質シリカ材料の前駆体溶液と有機溶媒とを用い、粘度が９．３×１０^-4〜１４．０×１０^-4Ｐａ・ｓの多孔質シリカ膜形成用塗布液を調製する調製工程（Ｓ１）と、塗布対象物を所定の周速で回転させつつ、この塗布対象物に対して所定のエア圧で塗布液を噴霧し、塗布対象物上に塗布液の塗布膜を形成する塗布工程（Ｓ２）と、この塗布膜を焼成する工程（Ｓ３）とを含むものである。 （もっと読む）

【課題】本発明は、得られるシリカ系薄膜の屈折率を制御することが可能なシリカ系薄膜の製造方法を提供する。
【解決手段】アルコキシシラン及び／又はアルキルアルコキシシランとともに有機物質を含有させたコーティング液からなる薄膜を、前記有機物質が揮発又は分解する条件下で熱処理を行うことにより多孔質シリカ系薄膜を形成させる工程を含み、形成される多孔質シリカ系薄膜の空隙率を制御することによって多孔質シリカ系薄膜の屈折率を制御することを特徴とする屈折率が制御された多孔質シリカ系薄膜の製造方法である。 （もっと読む）