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Fターム[4G072GG02]の内容

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Fターム[4G072GG02]に分類される特許

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中空シリカ粒子を作製する方法および組成物が開示される。前記粒子はテトラアルコキシシラン、トリアルコキシシランおよびそれらの誘導体、ジアルコキシシランおよびそれらの誘導体、アルコキシシランおよびそれらの誘導体、シリコーンオリゴマー、オリゴマー性シルセスキオキサン、およびシリコーンポリマーからなる群から選択されるシリコン含有化合物を含む組成物を、ポリマーテンプレートコアの全体を覆って分配させ、前記粒子からコアを取り除いて、作製される。本発明の粒子は、実質的に均一な粒子径を有し、液体に対する低い透過を示す。
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本発明は、(a)固体の、水不溶性の粒子状物体を、水性媒体中で陽イオン性添加剤と接触させて、正のゼータ電位を持つ前記粒子状物体の分散物を得ること;(b)前記固体の、水不溶性の粒子状物体の表面上に、金属酸化物塩を析出させることにより金属酸化物層を形成させて、前記粒子状物体を被覆すること;及び(c)前記被覆層を熟成させること、を含む、固体の、水不溶性の粒子状物体を金属酸化物で被覆する方法に関する。本発明は、更に、本方法により得られた被覆された粒子状物体、及び金属酸化物層で被覆された、固体の、水不溶性の粒子状物体である、皮膚科の活性薬剤又は農薬を含む組成物に関する。本発明は、更に、金属酸化物層で被覆された、固体の、水不溶性の皮膚科的に活性な薬剤を含む組成物を用いる、患者の表面状態の処置方法に関する。 (もっと読む)


一局面において、本発明は、相変化材料を含有する粒子に混合された断熱エアロゲル材料を含有する粒子と、混合された粒子を保持するマトリックスを形成するバインダとを含む素地を提供する。別の局面において、本発明は断熱体を形成する方法を提供し、第1の流体および第2の流体を基板上に塗布するステップを備え、第1の流体はバインダを含み、第2の流体はエアロゲル材料を含有する粒子を含み、相変化材料を同時に基板上に塗布する。
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【課題】
人体用又は動物用害虫忌避剤組成物が有する使用中に経時的に不快感をもたらす皮脂や汗によるべたつき感を軽減乃至排除する手段を開発すること
【解決手段】
害虫忌避剤と、無機珪酸多孔質微粒子及び(又は)イオン交換粒子とを含有する組成物であって、且つその組成物の下記一般式で表されるイオン交換特性tが1.5より大きいものである害虫忌避剤組成物
t = A−B
(但しAは組成物の精製水に対する10重量%の分散液のpH値をAとする。またBは同様に組成物の1重量%食塩水に対する10重量%分散液のpH値を示す) (もっと読む)


【課題】多孔性微粒子を分散媒に分散させた分散体であって、多孔性微粒子の問題がなく、長期保存安定性に優れた新規な多孔性微粒子分散体を提供する。
【解決手段】多孔性微粒子が分散媒に分散してなる分散体において、多孔性微粒子の細孔容積をTPV(ml/g)、分散体中の多孔性微粒子濃度をC(重量%)としたとき、50/(1.8+TPV)≦C≦100/(1.8+TPV)の関係を満たす多孔性微粒子分散体。分散体の固形分濃度を多孔性微粒子の細孔容積に応じた濃度とすることにより、多孔性微粒子が沈殿を形成せず、保存安定性に優れた多孔性微粒子分散体を得ることができる。 (もっと読む)


研磨組成物の製造法、更に詳しくは、優れた清掃性能と低研磨性を有する沈降シリカ研磨組成物の製造法を提供する。該製造法は、研磨粒子の反応器後サイジングを直接湿式粉砕及び遠心分離によって実施し、所望によりその後、真空脱水及び解凝集と組み合わせた水圧チャンバプレスフィルタリングを行う。特定の粒径範囲を標的にすることにより、高い被膜清掃レベルが、シリカ製品自体の象牙質研磨性まで増大することなく達成できることが分かった。その結果、特に望ましい清掃利益を示すそのような分級研磨シリカ製品を含む歯磨剤が、歯の硬質表面に悪影響を及ぼすことなく改良された歯磨き、ホワイトニングなどのために提供できる。本発明はまた、この選択的プロセススキームによる製品及びそのような特製及び分級シリカ製品を含有する歯磨剤も包含する。 (もっと読む)


【課題】建築用材料の製造に要する水を減少させる組成物の提供。特にバーミキュライト及び他の繊維状の軽量の材料と共にセメントに添加することが可能で、最小限の水しか含まない建築用材料の製造に用いられる混和剤の製造方法の提供。更に望ましくは、材料に使用されるバーミキュライト及び他の繊維状の軽量の材料を飽和させる目的で、液体又はゲル状の湿潤剤が添加される建築用材料を製造の製造方法の提供。更に望ましくは、特定の幾つかの反応成分を、それらの間で起こるいかなる反応をも最小化又は除去することが可能な態様で組み合わせ、建築用材料に添加することを特徴とする方法の提供。
【解決手段】シリコンベースの酸化物のナノ粒子及び非イオン系界面活性剤を含んでなる組成物であって、前記ナノ粒子及び前記界面活性剤が混合され、前記界面活性剤中に前記ナノ粒子が均一に懸濁している組成物。 (もっと読む)


本発明は、表面のゾル-ゲル被覆のためのゾルに関し、前記ゾルは重量パーセントで、a)3〜30%、好ましくは5〜20%、より好ましくは7〜15%、さらにより好ましくは8〜15%、さらにより好ましくは10〜13%、例えば10.8%または12%の少なくとも1つのジルコニウム、アルミニウム、またはチタンの有機金属化合物;b)5〜50%、好ましくは5〜40%、より好ましくは10〜40%、さらにより好ましくは15または20〜30%、例えば22%または23%の少なくとも1つの有機シラン化合物;c)1〜15%、好ましくは2〜10%、より好ましくは2〜8%、例えば5%の酸、塩基、グリコールおよびエトキシエタノールから選択される、少なくとも1つの化合物;d)100%までの残りの部分の脱イオン水または蒸留水を含み、a)およびb)の合計量が30%超、好ましくは31.2、31.5、32または33%超であり、より好ましくは35%超、さらにより好ましくは40%超、とりわけさらに好ましくは50%超である。また本発明は、液体形態でゾルの成分a)、c)およびd)を含む第1パートAを保持する第1容器と、液体形態でゾルの成分b)を含む第2パートBを保持する第2容器とを含むキットに関する。本発明はさらに、前記ゾルを使用するゾル-ゲル被覆の調製方法および得られた被覆、ならびに少なくとも1つのかかるゾル-ゲルを用いて被覆した基材に関する。また本発明は、基材の表面上に幾つかの層を含み、前記層の少なくとも1つが、本発明の方法によって調製したゾル-ゲル被覆である、被覆の調製方法に関する。 (もっと読む)


本発明は、当初、0.2 ppma〜10 ppmaのホウ素と0.1 ppma〜10 ppmaのリンを含有する珪素供給原料から、太陽電池用のウエファーを製造するための、指向的に凝固させたチョクラルスキー、フロートゾーン又は多結晶質珪素インゴット又は薄いシート又はリボンを製造する方法に関する。珪素供給原料のホウ素含有量がリン含有量より大きい場合には、溶融珪素に非連続的に、連続的に又は実質的に連続的にホウ素を添加して、指向的凝固プロセス中、溶融珪素中のホウ素含有量をリン含有量より高く保持することにより、p−型材料として凝固する、指向的に凝固させたインゴット又は薄いシート又はリボンの部分を伸長させる。珪素供給原料のリン含有量がホウ素含有量より大きい場合には、溶融珪素に非連続的に、連続的に又は実質的に連続的にリンを添加して、指向的凝固プロセス中、溶融珪素中のリン含有量をホウ素含有量より高く保持することにより、n−型材料として凝固するインゴット又は薄いシート又はリボンの部分を伸長させる。 (もっと読む)


アルカリ金属水酸化物を含む水溶液にヒュームド・シリカを溶解してアルカリ性ケイ酸塩溶液を製造し、イオン交換を介してアルカリ金属を除去してケイ酸溶液を製造し、ケイ酸溶液の温度、濃度及びpHを、核生成と粒子成長を始めるのに十分な値に調整し、そしてケイ酸溶液を、コロイダルシリカ分散体を製造するのに十分な速度で冷却することによるコロイダルシリカ分散体の製造方法。コロイダルシリカ分散体中のコロイダルシリカ粒子は、約2nmから約100nmの平均粒子サイズを有する。また、基材と、本発明による複数のコロイダルシリカ粒子及びこれらの粒子を懸濁させるための媒体を含む組成物を接触させることによる、基材表面の化学機械研磨方法も供される。この接触は、基材を平坦化するために十分な温度と時間で行われる。 (もっと読む)


【課題】 耐熱衝撃性の他、塩水はもとより、塩酸、硫酸、硝酸のような強酸に対しても優れた耐食性を発揮する、アモルファスSiO2膜を被覆形成してなる部材、およびその形成方法を提案すること。
【解決手段】 鏡面仕上げした金属製基材の表面に、ポリシラザン化合物を加熱焼成することにより形成したアモルファスSiO2膜被覆部材において、前記記金属製基材の表面は、Ra:0.2μm以下またはRa:0.2μmかつRz:0.5μm以下の表面粗さであること、前記アモルファスSiO2膜の膜厚は、0.05〜5μmであること、前記金属製基材が、普通炭素鋼、特殊鋼、Niおよびその合金、Tiおよびその合金、Alおよびその合金、Cuおよびその合金、またはこれらの金属・合金からなるめっき膜、物理蒸着法あるいは化学蒸着法で得られる蒸着膜のうちのいずれか1種の皮膜で覆われた金属製基材であること。 (もっと読む)


本発明は変性された酸素含有無機粒状物質を調製する方法であって:a)酸素含有無機粒状物質の水性懸濁物及び式(I)によるアルコキシル化アルコール、ここでRはC〜Cのアルキル、C〜Cのシクロアルキル又はフェニルであり、Rは水素又はメチルであり、かつnは1乃至5の整数である、の混合物を調製すること;b)任意的に、第1の樹脂及び/又は第1の樹脂前駆体を添加すること;c)1以上のカップリング剤を該混合物に添加すること;d)任意的に、第2の樹脂及び/又は第2の樹脂前駆体を得られた混合物に添加すること;並びにここで、任意的に、工程b)、c)若しくはd)の前若しくは間に、又は工程d)の後に、該混合物から少なくとも部分的に水が除去され;かつ任意的に、工程c)の前、間、若しくは後に該第1の樹脂前駆体を該第1の樹脂に転化し、かつ/又は工程d)の後に該第2の樹脂前駆体を該第2の樹脂に転化する、の工程を含む上記方法に関する。
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【課題】透明基板の表面上に設けた際に十分反射を防止できるシリカ系被膜を提供する。
【解決手段】シリカ系被膜は、シリカ系被膜形成用組成物を透明基板の表面上に塗布して塗布膜を形成する工程と、塗布膜に含まれる溶媒を除去して乾燥膜を得る工程と、乾燥膜を焼成する工程を有する。その屈折率が1.41以下である。具体的には、まずシリコンウェハー上に、シリカ系被膜を形成するためのシリカ系被膜形成用組成物をスピンコートで塗布する。そして組成物の溶媒を除去し、窒素雰囲気下で硬化することによりシリコンウェハー上に被膜を形成する。 (もっと読む)


本願発明は、0.005〜5質量%の少なくとも1種のアルカリ金属酸化物を含有する、孔不含の一次粒子のアグリゲートの形でのアルカリ金属酸化物−金属酸化物混合酸化物粉末に関し、この場合、この粉末は、100〜350m/gのBET表面積を有し、金属酸化物成分のみを有する粉末と同じかまたはそれを上廻る比DBP数(比表面積1m当たりのDBP数として示される)を有し、一次粒子のコア中および表面上に分布したアルカリ金属酸化物を有する。また本願発明は、アルカリ金属酸化物−金属酸化物混合酸化物粉末を含有するシリコーンゴムに関する。 (もっと読む)


【課題】 電子デバイスや光学デバイスとして有用であり、化学的に不活性な二酸化珪素膜で被覆された複合ナノワイヤー及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 インジウム粉末と一酸化ケイ素粉末の混合物を、不活性ガス気流中で、1200〜1600℃の温度範囲において、0.3〜2時間加熱することにより、厚さ8nmの二酸化珪素膜で被覆された長さ数十μm、直径約200nmのインジウムナノワイヤーの先端と長さ数μm、直径約200nmの珪素ナノワイヤーの先端同士が接合した複合ナノワイヤーを製造する。 (もっと読む)


【課題】塗料組成物とした場合、屈折率傾斜を有する低屈折率塗膜を形成することより反射防止性能が高くかつ彩度の低い反射防止膜を得ることができる、中空状SiO2の分散液を提供する。
【解決手段】中空状SiO2の1次微粒子の凝集体からなる凝集体粒子を分散媒体に分散してなり、その平均粒子径が60〜400nmの範囲にあり、かつ、当該平均粒子径が、当該シリカの平均1次粒子径の1.5倍以上の範囲にあるシリカ微粒子を分散液とする。当該分散液を含む塗料組成物とする場合、マトリックス成分が金属酸化物の前駆物質、又は有機樹脂からなることが好ましい。この塗料組成物を基材に塗布することにより反射防止塗膜付き基材が得られる。 (もっと読む)


【課題】極性基を有さないオレフィン系樹脂に対して多量の無機微粒子を容易にかつ均一に分散させるとともに、得られた熱可塑性樹脂組成物及び光学素子における透明性及び屈折率の温度依存性の向上を図る。
【解決手段】オレフィン系樹脂0.1〜20重量部及び樹脂添加剤0.1〜10重量部の少なくとも1つと、無機微粒子100重量部と、表面処理剤5〜20重量部とを含有する無機微粒子分散組成物と、環状ポリオレフィン樹脂とを混合させ、熱可塑性樹脂組成物を作製し、さらにこの熱可塑性樹脂組成物を用いて光学素子を作製する。 (もっと読む)


【課題】 希望の比誘電率を達成でき、かつ樹脂の特性変化や反応性の変化の少ない誘電率調整剤及びそれを用いた樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 多孔質材料の細孔内に、初めに有機物を細孔容量全体の1〜99容積%充填し、次いで有機物固定用樹脂を前記細孔容量の残存容積の30〜100容積%充填した誘電率調整剤。有機物と有機物固定用樹脂とを混合した混合物を多孔質材料の細孔容量全体の5〜100容積%充填した誘電率調整剤。誘電率調整剤1〜700質量部を樹脂100質量部中に分散させたことを特徴とする樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】組成物は、表面上に、活性水素又はその前駆体、特にヒドロキシル基及び/又はエポキシ基を有する基を持つ有機基を有する表面改質ナノスケール固体粒子、及びイソシアネート基がブロックされ得るイソシアネートの少なくとも1種を含むと記載される。
【解決手段】該組成物によって得ることが可能な成形体又は被覆基材は、高い透明性及び高い耐摩耗性(attrition resistance)を示し、従って、特に光学用途に好適である。 (もっと読む)


低吸水性で例えばシリコーン基材の強化充填材として使用できる沈降シリカを提供する。沈降シリカ又は沈降シリカ懸濁物の製造における解砕中にカルボン酸を使用する。 (もっと読む)


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