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Fターム[4G072GG03]の内容

珪素及び珪素化合物 (39,499) | 発明のカテゴリー (4,870) | 方法 (2,025)

Fターム[4G072GG03]に分類される特許

201 - 220 / 2,025


【課題】予め選択された平均凝集体粒子直径を有する凝集体金属酸化物粒子の分散体を調製する方法を提供する。
【解決手段】金属酸化物粒子の平均凝集体粒子直径における所望の低下百分率を予め選択する工程、凝集体金属酸化物粒子の分散体に関する分散標準であって(i)該分散体の固体濃度と(ii)該分散体が高せん断ミキサーにおいて粉砕された場合に起こる凝集体金属酸化物粒子の凝集体粒子直径における低下百分率とを関連付ける分散標準を提供する工程、並びに凝集体金属酸化物粒子の分散体を該標準によって決定された固体濃度の10%以内の固体濃度で高せん断粉砕装置において調製及び粉砕し、所望の平均凝集体粒子直径を有する凝集体金属酸化物粒子の分散体を提供する工程を含む方法が提供される。さらに、凝集体金属酸化物粒子の平均凝集体粒子直径を低減するための方法及び当該方法によって調製された分散体が提供される。 (もっと読む)


【課題】基体上に低反射膜を形成するための、単層膜において低屈折率且つ低反射率を有し、より簡便な方法で大面積の成膜が容易な低反射膜形成用塗布液およびその調製方法およびそれを用いた低反射部材を提供する。
【解決手段】基材に低反射膜を形成するための低反射膜形成用塗布液であって、コロイダルシリカに対して、酸化物換算で5質量%以上、40質量%以下のタンタル化合物を含む分散液からなることを特徴とする低反射膜形成用塗布液。長径5nm以上、100nm以下の棒状コロイダルシリカ、粒径5nm以上、50nm以下の球状コロイダルシリカ、およびタンタル化合物を用いる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、焼成工程を必要としないシリカナノチューブの製造方法を提供すること、更には、様々な大きさのシリカナノチューブを選択的に製造する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】その目的を達成するために、本発明は、ノニオン界面活性剤及び自己反応性を有するシリカ前駆体化合物によりミエリン像を形成し、該シリカ前駆体化合物を反応させた後、溶媒洗浄にて該ノニオン界面活性剤を除去する精製工程を行うことを特徴とするシリカナノチューブの製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】ポリマーが熱により変質することを抑制してポリマーの表面に好適に成膜できる成膜方法及び成膜装置を提供する。
【解決手段】超臨界流体に酸化剤のオゾンガスと酸化物用原料のTEOSとを供給し、構造体1及びその周囲を200℃の温度で加熱することによって、酸化物であるSiO2を生成させ、このSiO2によって構造体1のマイクロ流路3の内壁全面(従ってポリマーであるPDMS膜9の表面)に酸化物層5であるSiO2層を形成する。これにより、従来に比べて低い温度で酸化物層5を形成できるので、ポリマーが変質する等の問題が生じないという顕著な効果を奏する。また、ポリマー表面を隙間無く覆う様に酸化物層5を形成できるので、親水性やガス透過防止性を高めることができるという利点もある。 (もっと読む)


【課題】共通に使用できる表面修飾方法を用いて、水と有機溶媒を交換することなく有機修飾されたゲルを製造する方法を提供する。
【解決手段】a)シリカ系ヒドロゲルをpH3以上で形成し、次いでb)得られたヒドロゲルの表面をシリル化剤で処理して修飾して表面修飾ゲルとなし、次いでc)得られた表面修飾ゲルを、臨界温度・圧力に至らない条件下に乾燥する。 (もっと読む)


【課題】高比表面積を有するシリカ含有含水酸化チタンの製造方法を提供する。
【解決手段】微粒子シリカとシリカゾルから選ばれる少なくとも1種のシリカ材料の存在下に、このシリカ材料に対してハロゲン化チタンを酸化チタン換算にてTiO2/SiO2 重量比で90/10〜50/50の範囲にて含むハロゲン化チタン水溶液を60〜95℃の範囲の温度に加熱し、上記ハロゲン化チタン水溶液のpHが1.0以下にあるように上記ハロゲン化チタン水溶液にアルカリ性物質を加えながら、上記ハロゲン化チタンを熱加水分解すると共に、上記ハロゲン化チタンの熱加水分解によって生成するハロゲン化水素を上記アルカリ性物質で中和して、沈殿物を生成させ、この後、得られた反応混合物に更に上記アルカリ性物質を加えて、その反応混合物のpHを3〜7の範囲とし、次いで、上記沈殿物を濾過し、水洗し、乾燥することによって、高比表面積のシリカ含有含水酸化チタンを得る。これを焼成すれば、高比表面積のアナターゼ型酸化チタンを得る。 (もっと読む)


【課題】空隙率が高く、強度の高いシリカ系の中空粒子を得る中空粒子の製造方法、該中空粒子を用いた光学材料及び断熱材料を提供することにある。
【解決手段】コア粒子を有する溶液中にシリカ系材料を添加して乾燥を行った後、該コア粒子を除去することで、該シリカ系材料を有する中空粒子を製造する中空粒子の製造方法であって、該シリカ系材料を添加した後、該コア粒子を除去する前に、該シリカ系材料を架橋する架橋剤及び酸を添加することを特徴とする中空粒子の製造方法。 (もっと読む)


【課題】比較的安価な無機ケイ酸塩をシリカの前駆体として用いて、セルロースとシリカ系材料の特性を併せ持つナノ複合材料の製造方法の提供。
【解決手段】 (i)含水率80%以上の再生セルロースゲル;及び(ii)低分子ケイ酸ナトリウム;由来の複合材料の製造方法であって、(A−1)前記再生セルロースゲルを準備する工程;(A−2)前記低分子ケイ酸ナトリウムの水溶液に、前記再生セルロースゲルを浸漬し、前記低分子ケイ酸ナトリウムが含浸された再生セルロースゲルを得る工程;(A−3)上記(A−2)で得られたゲルを無機酸水溶液に浸漬し、前記低分子ケイ酸ナトリウムを脱水縮合することによりシリカとする工程;及び(A−4)上記(A−3)で得られたゲルを水洗後、乾燥する工程;を有する、上記方法により、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】ホウ素化合物量を低減した多結晶シリコンの製造装置および製造方法を提供する。
【解決手段】本発明においては、トリクロロシラン(TCS)タンク2aと一連の蒸留ユニット4〜6とを接続するトリクロロシラン(TCS)ライン22においてArガスを供給する。蒸留ユニット4〜6は、圧力変換器4e〜6eと、蒸留ユニット4〜6からのベントガスを排出する排気ライン26上に位置づけられた圧力独立制御弁(PIC−V)4f〜6fとを有する。Arガスは、PIC−V4f〜6fを開放するよう設定された圧力より高い圧力を有するTCSライン22へと供給される。ベントガスを蒸留ユニット4〜6から連続的に排出しつつ、TCSは蒸留ユニット4〜6により蒸留される。 (もっと読む)


【課題】低流動性の珪酸ナトリウム水溶液等をシリカ源とせず、反応性の高い非晶質シリカの供給源を低コストで確保するための殻物殻からの非晶質シリカの純化方法、この方法を利用した無機硬化性組成物の製造方法および無機硬化体の製造方法の提供。
【解決手段】非晶質のシリカが多く含まれる殻物殻を、所定の条件で燃焼させることにより、非晶質シリカの状態を維持したまま取り出し、これをシリカ源とすることで、低い流動性の珪酸ナトリウム水溶液等をシリカ源として使用する必要がなく、この流動性の問題が解決することができる。 (もっと読む)


【課題】優れた強度と耐熱性を有し、かつ、大きな面積又は大きな体積となるフォトニック結晶、フォトニック結晶ウエハ及びフォトニック結晶の製造方法を提供する。
【解決手段】実施の形態に係るフォトニック結晶の製造方法は、二酸化ケイ素球3と、ガリウム1及びヒ素2と、を密封容器5に封入する工程と、密封容器5を加熱してガリウム1及びヒ素2を融解させてヒ化ガリウム融液13を生成した後、密封容器5の下方から鉛直上方に向けてヒ化ガリウム融液13を固化させてヒ化ガリウム固体14を生成し、二酸化ケイ素球3とヒ化ガリウム固体14からなる混合体15を得る工程と、混合体15が得られた密封容器5を部分的に加熱することによって混合体15の上部に溶融帯19を形成し、溶融帯19を鉛直下方に向けて移動させてヒ化ガリウム固体14中に二酸化ケイ素球3を並べた混合体150を生成する工程と、を含むフォトニック結晶の製造方法。 (もっと読む)


【課題】粗粉の発生が少ないシリカ粒子が得られるシリカ粒子の製造方法を提供すること。
【解決手段】シリカ粒子とアルコール及び水を含む溶媒とを含有するシリカ粒子分散液を準備する工程と、超臨界二酸化炭素を前記シリカ粒子分散液に接触させて、前記溶媒を除去する工程と、を有するシリカ粒子の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】シリコンスラッジ中の固形分に含まれるグリコールの低濃度化が容易かつ安価に図れ、製鋼用の成分調整用添加剤原料として再利用が可能なワイヤソースラッジからのグリコール除去方法を提供する。
【解決手段】シリコンスラッジを、固形分のグリコール濃度が3重量%以下となる量の純水に分散させて希釈するので、固形分に含まれるグリコールの低濃度化が容易かつ安価に図れる。その後、シリコンスラッジを固液分離し、グリコールが除去された固形分を回収する。これにより、固形分が製鋼用の成分調整用添加剤原料として再利用ができる。 (もっと読む)


【課題】拡散ブロッキング構造、透明導電構造及びその製造方法を提供する。
【解決手段】透明導電構造は、基板ユニット、第1のコーティングユニット、拡散ブロッキング構造、第2のコーティングユニット、第3のコーティングユニット及び導電ユニットを備える。基板ユニットは、プラスチック基板を有する。第1のコーティングユニットは、プラスチック基板上に形成された第1のコーティングを有する。拡散ブロッキング構造は、第1のコーティングに形成され、複数の第1の酸化層を有する第1の酸化ユニットと、複数の第2の酸化層を有する第2の酸化ユニットを備え、前記複数の第2の酸化層と前記複数の第1の酸化層とは交互に積層されている。第2のコーティングユニットは、拡散ブロッキング構造に形成された第2のコーティングを有する。第3のコーティングは、第2のコーティングに形成された第3のコーティングを有する。導電ユニットは、第3のコーティング上に形成された透明導電構造を有する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、非球状シリカ微粒子を簡便に製造できる方法を提供する。
【解決手段】動的光散乱法によって測定される粒子径が10〜300nmである非球状シリカ微粒子の製造方法であって、加水分解することによりアンモニアを生成する化合物(成分A)と、加水分解性シラン化合物(成分B)と、水性溶媒(成分C)とを含む混合液中で、前記加水分解性シラン化合物(成分B)の加水分解反応及び縮合反応を行う工程を含み、前記混合液に含まれる全成分混合直後の前記混合液のpHが5〜8である非球状シリカ微粒子の製造方法。 (もっと読む)


【課題】極めて微細な中空シリカ粒子、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】〔1〕レーザ回折/散乱法によって測定される体積平均粒子径が0.05〜0.45μmで、最大粒子径が体積平均粒子径の5倍以内であり、空孔率が20〜70体積%、BET比表面積が30m2/g未満、98質量%以上がSiO2である中空シリカ粒子、及び〔2〕疎水性有機化合物(a)と、第四級アンモニウム塩(b)、及び加水分解によりシラノール化合物を生成するシリカ源(c)を含有する水溶液を調製する工程(I)、得られた水溶液を10〜100℃の温度で撹拌して、シリカから構成される外殻を有し、かつ核に疎水性有機化合物(a)を有するコアシェル型シリカ粒子の水分散液を調製する工程(II)、得られたコアシェル型シリカ粒子を分離し、950℃以上の温度で焼成して、中空シリカ粒子を得る工程(III)を有する中空シリカ粒子の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】コア材の成形欠陥発生を抑制することができる断熱材を提供する。
【解決手段】シリカを含む第一の無機化合物からなり、平均粒子径Dが5nm以上50nm未満であり、比重がCである複数の小粒子と、第二の無機化合物からなり、平均粒子径Dが50nm以上100μm以下であり、比重がCである複数の大粒子と、を含むコア材と、コア材を収容する外被材と、を備え、複数の小粒子の質量の合計値Mと複数の大粒子の質量の合計値Mとの比率M/Mが0.035C/C以上3以下である、断熱材。 (もっと読む)


【課題】鋳造されたインゴット中の酸素濃度および炭素濃度を低減することができるシリコンインゴットの電磁鋳造方法を提供する。
【解決手段】シリコンインゴットの鋳造を行う前にチャンバー内の雰囲気を不活性ガス雰囲気に置換するにあたり、置換処理を1回以上行い、置換処理は、チャンバー内の雰囲気を排出してチャンバー内の圧力を所定の真空圧とする真空引き工程S1と、チャンバー内の圧力を前記真空圧に維持しつつチャンバー内の雰囲気を排出する真空圧維持工程S2と、チャンバー内に不活性ガスを供給してチャンバー内の圧力を所定の設定圧とする復圧工程S3と、チャンバー内に不活性ガスを供給するとともにチャンバー内の雰囲気を排出して、チャンバー内の圧力を前記設定圧に維持する設定圧維持工程S4とを含み、真空圧維持工程S2および設定圧維持工程S4でアフターヒーターを空焼きすることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】比較的低純度のシリコン原料からボロンおよびその他の不純物を効率的に除去でき、且つ連続的な処理が可能で、且つコンパクトな装置構成で量産が可能なシリコン原料の精製方法を提供する。
【解決手段】原料となるシリコンまたはシリカの粉末1を落下させ、その粉末をオゾンを含む高温領域8を通過させる。高温領域中のオゾンにより粉末に含まれるボロンが酸化され、酸化物として気化して除去される。高温領域8を通過した粉末が冷却され、ボロンを除去した粉末として回収する。高温領域8を高周波誘導熱プラズマまたはレーザビーム照射にて形成する。また、ボロンを除去した粉末を水素を含む高温領域28を通過させ、高温領域中の水素により粉末に含まれる二酸化硅素成分を還元してシリコンとなす。 (もっと読む)


【課題】シリコン融液が浸み出すことなく、長期に亘って多数回の繰返し使用が可能であり、しかも、搬送中におけるシリコン融液の飛沫の発生を抑制することができるシリコン融液の搬送部材を提供する。
【解決手段】C/Cコンポジット材により一端開口筒体状に形成され、開口側には入口開口が形成されていると共に外周部の平坦側面部には側面方向に向けて開口する出口開口を有し、底面側には入口開口から流入したシリコン融液の流れ方向を出口開口に向けて変える底流案内部を有する方向変更部材と、C/Cコンポジット材により溝状又は筒状に形成された樋部材とを有し、使用時には、樋部材の上方に方向変更部材をその底流案内部が重なり合うように配置し、方向変更部材の入口開口から流入したシリコン融液の流れを樋部材のシリコン融液流れ方向に案内するシリコン融液の搬送部材である。 (もっと読む)


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