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Fターム[4G072GG03]の内容

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Fターム[4G072GG03]に分類される特許

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【課題】粗面の割合が低い、高純度シリコンからの多結晶ロッドを、より経済的に製造する。
【解決手段】反応器壁、少なくとも20本のフィラメントロッド、並びに反応器チャンバー内での反応ガス用のガス取り込み口を有する反応器チャンバーを包含する、多結晶シリコンを析出させるための装置であって、その際、各々のフィラメントロッドには、反応器壁付近のフィラメントロッドを除いて、150〜450mmの間隔で、更に別の3本の隣接するフィラメントロッドと、1つ乃至3つの隣接するガス取り込み口とが存在している、多結晶シリコンを析出させるための装置によって解決される。 (もっと読む)


【課題】高純度且つ球状のシリカ粒子であって、単分散性が良好(CV値が20以下)な球状のシリカ粒子とその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】1)ナトリウム、2)カルシウム及びマグネシウムから選ばれるアルカリ土類金属、3)鉄、チタン、ニッケル、クロム、銅、亜鉛、鉛、銀、マンガン及びコバルトから選ばれる重金属類並びに4)ヒドロキシ陰イオン以外の陰イオンの含有量がそれぞれ1重量ppm以下であり、且つ、下記式(1):
CV=(σ/D)×100 (1)
〔式中、Dは平均粒子径を示し、σは標準偏差を示す。〕
により算出されるCV値が20以下である、
ことを特徴とする球状の高純度単分散シリカ粒子。 (もっと読む)


【課題】(1)絶縁性があり、(2)耐熱性があり、(3)金属などの基材に塗布および熱処理して用いることができ、(4)基材との熱膨張係数差が大きくても剥離および破壊しない膜状の材料を得ること。
【解決手段】Al、Mg、Si、Ti、Zr、Beのいずれかからなる金属アルコキシドが加水分解および脱水重合されて形成される無機物質中にフィラーを分散した材料で、フィラーの粒子は結晶面の一つが完全なへき開面を有する無機物を含んだものとし、さらにフィラーの粒子のへき開面は膜の面方向に対して並行に略整列とすることにより解決した。 (もっと読む)


【課題】ナノオーダーの微細な粒径を有していながら、高い疎水性を示し、透明樹脂に対しての分散性が著しく高められた表面処理シリカ系粒子を提供する。
【解決手段】電子顕微鏡で測定して平均粒子径が1〜50nmの範囲あるシリカ系粒子であって、個々の粒子が、疎水性シランカップリング剤により表面処理されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】人工水晶原石から切り出した水晶片のα値を、赤外線分光光度計を用いずに、水晶片が含有する所定の複数の不純物元素濃度から、予め作成した線量計を用いて推定し、JIS C 6704を用いて対応する赤外Q値を評価し等級分けした水晶片を提供する。
【解決手段】人工水晶原石を所定のα値別に複数種類準備し、不純物元素の含有濃度をX軸にα値、Y軸に測定された該含有濃度をそれぞれ前記所定の不純物元素毎にプロットして、不純物濃度との相関関係を示す検量線を準備する工程と、測定された前記水晶片に含有される前記所定の複数の所定の不純物濃度を、それぞれ前記検量線と対照して前記水晶片のα値を推定する工程と、前記α値をJISに規定する等級と対照させて赤外Q値を評価する工程と、から赤外Q値を評価し等級分けしたことを特徴とする水晶片。 (もっと読む)


【課題】多結晶シリコンの回収時間が短い多結晶シリコンの製造方法を提供すること。
【解決手段】反応炉内で四塩化珪素と亜鉛を反応させて、反応炉内に多結晶シリコンを生成させる第一工程と、907〜1200℃で、該反応炉内に、四塩化珪素のみを供給するか、又は四塩化珪素に対する亜鉛のモル比が、該第一工程でのモル比よりも小さくなる供給量で、四塩化珪素及び亜鉛を供給する第二工程と、を有することを特徴とする多結晶シリコンの製造方法。 (もっと読む)


【課題】結晶基板の上に、膜厚みの均一性に優れた凹凸膜が形成されたウエハを提供する。また、結晶基板の上に、膜厚みの均一性に優れた凹凸膜が形成されたウエハの製造方法を提供する。
【解決手段】結晶基板に凹凸膜が形成された凹凸膜付きウエハであって、該凹凸膜は、最大厚みの平均が0.05〜5μmであり、シロキサンオリゴマーを含み、X線光電子分光(XPS)測定による炭素、酸素、ケイ素の各原子数の合計に対するケイ素原子の含有率が5〜33atom%であり、残膜厚みの均一性が25%以下であることを特徴とする凹凸膜付きウエハ。
凹凸形状を表面に有する支持体フィルムの上に、最大厚みの平均が0.05〜5μmであり、シロキサンオリゴマーを含み、X線光電子分光(XPS)測定による炭素、酸素、ケイ素の各原子数の合計に対するケイ素原子の含有率が5〜33atom%である凹凸膜が積層された転写フィルムから、結晶基板の上に前記凹凸膜を転写することを特徴とする凹凸膜付きウエハの製造方法。 (もっと読む)


【解決課題】反応炉内に析出した多結晶シリコンの反応炉内からの取り出しが容易であり、製造効率が高い多結晶シリコンの製造方法を提供すること。
【解決手段】反応炉内で四塩化珪素と亜鉛を反応させて、反応炉内に多結晶シリコンを生成させる第一工程と、907〜1200℃で、該反応炉内に、四塩化珪素のみを供給するか、又は四塩化珪素に対する亜鉛のモル比が、該第一工程でのモル比よりも小さくなる供給量で、四塩化珪素及び亜鉛を供給する第二工程と、該反応炉内の温度が800℃以上で、反応炉内を不活性ガス雰囲気にし、次いで、多結晶シリコンを、800℃以上の反応炉内から、該反応炉に繋がる不活性ガス雰囲気の冷却空間へ移動させることにより、多結晶シリコンを反応炉内から反応炉外へ取り出し、冷却する第三工程と、を有することを特徴とする多結晶シリコンの製造方法。 (もっと読む)


【課題】表面移行性を維持しつつ塗膜形成時の面状欠陥が少なく、また層間の密着性が良好な塗料組成物、および前記塗料組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも下記の原料(a)〜(e)を含む分散液を、下記条件1,2を共に満たす反応温度の下で原料(b)の残存率が20%以下、原料(c)の残存率が50%以下となるまで反応させるポリマー修飾無機粒子の製造方法。原料(a)被修飾無機粒子、原料(b)下記式(I)で表されるシリコーン化合物、X−R−SiR(OR3−n・・・(I)、原料(c)少なくとも1つのフルオロ化合物含有基と反応性二重結合とを有するフッ素化合物、原料(d)加水分解触媒、原料(e)ラジカル重合開始剤。条件1:原料(b)の残存率が50%となる時間が10〜80分、条件2:原料(c)の反応率が50%に達する時間が15〜60分。 (もっと読む)


【課題】粗粉が少なく、且つ固形分濃度が高いシリカ粒子分散液の製造方法を提供すること。
【解決手段】シリカ粒子と溶媒とを含有するシリカ粒子分散液を準備する分散液準備工程と、シリカ粒子分散液を濃縮する一次濃縮工程と、一次濃縮工程後、シリカ粒子分散液に、疎水化処理剤を添加する添加工程と、添加工程後、シリカ粒子分散液を濃縮する二次濃縮工程と、を有するシリカ粒子分散液の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】超臨界二酸化炭素を接触させる工程を経て得られるシリカ粒子の特性バラツキを抑制したシリカ粒子の製造方法を提供すること。
【解決手段】シリカ粒子分散液又はシリカ粒子が収容された処理槽に、超臨界二酸化炭素を導入・排出して、前記シリカ粒子分散液又は前記シリカ粒子に前記超臨界二酸化炭素を接触させる第1工程と、前記処理槽から排出した超臨界二酸化炭素の情報を検出し、前記検出した情報に基づいて、前記第1工程を停止する第2工程と、
を有するシリカ粒子の製造方法。
である。 (もっと読む)


【課題】高い水蒸気吸着能を備える多孔体の製造方法を提供する。
【解決手段】界面活性剤の存在下、製造しようとする多孔体の骨格原料を構成する金属酸化物の金属原子の、溶液中における濃度が0.4mol/l以下、(界面活性剤/骨格原料の骨格構成金属原子)のモル比が0.07以上25以下である溶液中で、前記骨格原料を縮合させる工程と、縮合物から界面活性剤を除去する工程と、縮合物を、酸又は3価以上の金属イオンと酸との塩の溶液に接触させる工程、とを備える。前記縮合物を得る工程をアルカリ条件下で行い、テトラアルコシキシシラン又はアルキルアルコキシシランを骨格原料とする。 (もっと読む)


【課題】高湿環境下における凝集の発生と共に、低湿環境下での帯電性の悪化が抑制されたゾルゲルシリカ粒子を提供すること。
【解決手段】温度50℃で30分乾燥させた後のBET比表面積をSA(m/g)とし、温度200℃で30分乾燥させた後のBET比表面積をSB(m/g)としたとき、下記条件式(1)及び(2)を満たすゾルゲルシリカ粒子である。
・条件式(1):35≦SA≦50
・条件式(2):5≦|SA−SB|≦15 (もっと読む)


【課題】転化炉の転化反応ガスからホウ素化合物等の不純物を効果的に除去して高純度のトリクロロシランを製造する。
【解決手段】転化炉2内の反応により得られたトリクロロシランを含む転化反応ガスを蒸留してテトラクロロシランを分離した後、該テトラクロロシランを分離した後の混合流体をポリマーに接触させて反応させ、その反応により生じたホウ素化合物を含む反応流体を蒸留することにより、トリクロロシランを分離精製する。 (もっと読む)


【課題】ソリが少なく横断面形状の真円度も高い良好な形状を有する多結晶シリコン棒を、生産効率を落とすことなく得ることを可能とする技術を提供すること。
【解決手段】多結晶シリコン製造装置が備える反応炉に設けられる原料ガス供給ノズル9と金属電極(電極対)10は下記の配置関係を満足する。すなわち、円盤状底板5の中央に中心を有する仮想の同心円C(半径c)は、面積S0の底板5の半分の面積S=S0/2を有している。また、同心円Aおよび同心円Bはそれぞれ、同心円Cと中心を同じくする半径aおよび半径b(a<b<c)の仮想同心円である。本発明では、電極対10は上述の仮想の同心円Cの内側であって仮想の同心円Bの外側に配置され、ガス供給ノズル9は何れも上述の仮想の同心円Aの内側に配置される。また、同心円Bの半径bと同心円Aの半径aの差は、20cm以上で50cm以下とされる。 (もっと読む)


【課題】良好な多孔質シリカ内包粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】(a)多孔質シリカを準備する工程と、(b)多孔質シリカと金属または前記金属を元素組成として有する化合物を含有する液とを接触させ、多孔質シリカの孔内に前記液を含浸させる工程と、(c)前記(b)工程の後、熱処理を施すことにより、前記多孔質シリカの孔内において前記金属または前記金属化合物を含有する微細粒子を形成する工程と、を有する。また、無溶媒系でアルコキシシランの加水分解することにより多孔質シリカを合成すれば、微細な孔径を有する多孔質シリカの合成が可能であり、この多孔質シリカを鋳型とすることで、バルクの状態では見られない特異な性質を示す粒子(例えば、W、Cu、Cr、Mn、Fe、CoまたはNiやこれらの金属酸化物)も容易に形成することができる。 (もっと読む)


【課題】金属イオンを吸着したシリカおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】金属イオンを吸着したシリカは、過硫酸塩で修飾された金属イオンを吸着したシリカである。この製造方法は、以下のステップを含む。まず、シリカおよび過硫酸塩を含む溶液を提供する。続いて、溶液を加熱して、シリカと過硫酸塩を反応させ、過硫酸塩で修飾されたシリカを得る。それから、溶液中に金属イオン源を加えて、金属イオン源から金属イオンを解離させ、過硫酸塩で修飾されたシリカに金属イオンを吸着させて、金属イオンを吸着したシリカを得る。 (もっと読む)


【課題】粗粉が少なく、高疎水化度の疎水性シリカ粒子が得られる疎水性シリカ粒子の製造方法を提供すること。
【解決手段】親水性シリカ粒子とアルコール及び水を含む溶媒とを含有するシリカ粒子分散液を準備する分散液準備工程と、超臨界二酸化炭素を流通させ、シリカ粒子分散液の溶媒を除去する溶媒除去工程と、溶媒除去工程と連続して、超臨界二酸化炭素中で、疎水化処理剤により親水性シリカ粒子の表面を疎水化処理する疎水化処理工程と、を有する疎水性シリカ粒子の製造方法
である。 (もっと読む)


【課題】従来の金属酸化物ナノ粒子の製造方法では、中間体が凝集し、得られる金属酸化物ナノ粒子の粒径が大きくなるという問題があった。そのため、凝集が抑制された金属酸化物ナノ粒子の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】シリカ粒子のような無機酸化物担体の表面に担持された金属水酸化物を、前記無機酸化物担体と共に亜臨界状態または超臨界状態の水の存在下で水熱反応させる工程を含む金属酸化物ナノ粒子の製造方法。 (もっと読む)


【目的】
ゾルーゲル法によってシリカ系の湿潤ゲルを合成する際に、シリカ末端のOH基に疎水化反応をさせるシラン系表面処理剤を添加する方法において、所望の疎水化された湿潤ゲルを得、最終的に疎水性に優れたナノ構造を有する多孔質体を提供することを目的とする。
【構成】
本発明は、テトラアルコキシシランにシラン系表面処理剤を添加し、アルカリ触媒下でのゾルーゲル法で湿潤ゲルを得、得られた湿潤ゲルを超臨界炭酸ガス乾燥法によって乾燥して得られるナノ構造多孔質体の製造方法であって、前記シラン系表面処理剤は、Si(OCH)4−n(n=2〜3、X=アルキル基)の化学式で表されるものであり、かつ、モル比率でテトラアルコキシシラン/シラン系表面処理剤=9/1〜2/8の範囲で添加されることを特徴とする。 (もっと読む)


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