説明

Fターム[4G072GG03]の内容

珪素及び珪素化合物 (39,499) | 発明のカテゴリー (4,870) | 方法 (2,025)

Fターム[4G072GG03]に分類される特許

121 - 140 / 2,025


【課題】金属級シリコン材料からボロンおよびその他の不純物を効率的に除去でき、且つ連続的な処理が可能で、且つコンパクトな装置構成で、高純度シリコンの量産が可能なシリコンの精製方法を提供する。
【解決手段】金属級シリコンまたはシリカ粉末1を、2400℃程度のオゾン含有酸素ガス雰囲気のプラズマ領域8に投入し、前記粉末に含まれるボロンを酸化して気化物として除去し、粉末1aとして回収し、ボロン除去後の粉末1aを、還元性雰囲気のプラズマ領域28に投入し、還元処理により酸素を除去して、シリコン粉末1bとして回収し、前記シリコン粉末を加熱して溶湯1cとなし、電磁石35の磁場中に前記溶湯を流すことで、金属不純物元素をトラップして除去する。さらに、金属不純物元素を除去したシリコンの溶湯1cを、遠心噴霧によりシリコンの粉末1dとなして回収する。 (もっと読む)


【課題】優れた分散性を実現しつつ帯電量の十分な経時安定性を実現し、且つ画像形成装置のクリーニングの作業性を向上することができる疎水性シリカ微粒子を提供する。
【解決手段】本発明の疎水性シリカ微粒子は、シリコーンオイルで疎水化処理された疎水性シリカ微粒子であり、粉末表面に残存する炭素含有量が5.0〜10wt%であり、疎水率が95%以上であって、平均一次粒子経が7〜25nm、遊離炭素量が3.0〜5.0wt%であるもの又は平均一次粒子経が25〜40nm、遊離炭素量が1.0〜3.0wt%であるもの。 (もっと読む)


【課題】 残留炭素に起因する黒色粒子のない高純度シリカ粉末を生産性・操作性良く製造し、該粉末を溶融して得られる高純度、且つ、高品質の石英ガラスを提供する。
【解決手段】 テトラメトキシシランを加水分解する際、水/テトラメトキシシラン(モル比)が7以上20以下であり、反応時の最高温度を40℃以上64℃未満に調節し、温度が低下し始めた後に静置し、得られた湿潤シリカゲル体を粉砕した後に乾燥して、該シリカゲル粉末を焼成する。 (もっと読む)


【課題】リチウムマンガンシリケート系化合物を含み、かつ、正極材料として用いたときにリチウムイオン二次電池の充放電特性の低下を抑制し得る材料、この材料を用いた非水電解質二次電池用正極、およびこの材料を用いた非水電解質二次電池を提供すること。
【解決手段】リチウムマンガンシリケート系化合物からなる芯部を耐フッ酸化合物、フッ素吸収化合物から選ばれる少なくとも一種およびカーボン系材料からなる被覆層で覆う。 (もっと読む)


【課題】多結晶シリコンを所望の大きさの塊に破砕して、最大目的寸法の管理ができるとともに、破砕時に微粉の発生を抑えることができる、多結晶シリコン破砕物の製造方法および多結晶シリコンの破砕に適した破砕装置を提供する。
【解決手段】破砕装置1は、塊状の多結晶シリコンを破砕する1次破砕手段10と、1次破砕手段により破砕された多結晶シリコン破砕物のうち、サイズの大きい多結晶シリコン破砕物を破砕する2次破砕手段20とを有しており、1次破砕手段10の各ロール3に設けられる破砕歯5は、その先端面55が球面状に形成されるとともに、側面56が円錐面状に形成され、2次破砕手段20の各ロール3に設けられる破砕歯5は、その先端面55が球面状に形成されるとともに、側面56が円柱面状に形成されている。 (もっと読む)


【課題】水を還元する能力の大きな低下なしに大気中で容易に扱われ得るアルカリ金属シリサイド組成物を提供する。
【解決手段】アルカリ金属とケイ素とを混合する工程、および、生じる混合物を温度約475℃以下に加熱する工程を包含する、アルカリ金属シリサイド組成物の製造方法、およびこの方法により得られる組成物。組成物は乾燥Oと反応しない。約18.2、28.5、29.5、33.7、41.2、47.4、および56.2から選択される2θ角を有する少なくとも三つのピークを含有する粉末X線回折パターンおよび約18ppmにおいて固体状態23Na MAS NMRスペクトルピークを有する。組成物は水と反応して水素ガスを発生させる。 (もっと読む)


【課題】シリコン芯線の芯線ホルダへの装着が容易であり、芯線ホルダにシリコン芯線を充分な強度で保持させるまでの時間を短くし、転倒を防止するとともに、多結晶シリコンの析出反応初期における成長速度抑制時間の短縮化を可能とする多結晶シリコン製造技術を提供すること。
【解決手段】芯線ホルダ20には本体の上面に開口部22をもち下面側に向かう芯線挿入孔21が形成されており、この芯線挿入孔21にシリコン芯線5が挿入される。また、芯線挿入孔21の中心軸Cを含む仮想平面Pに沿うスリット状の間隙部60が形成されており、このスリット状間隙部60は、芯線挿入孔21からホルダ20の本体の外側面にまで至る間隙部となっている。芯線挿入孔21に挿入されたシリコン芯線5は、例えばボルト・ナット方式の固定部材31によってホルダ20の本体の上部が側面から締め付けられることにより、間隙部60の間隔が狭まるように締め付けられて固定される。 (もっと読む)


【課題】 不純物濃度が低く、かつ成形性が良好であるシリコン−成形助剤複合粉の製造方法、およびその複合粉を原料とした多結晶シリコン焼結体の製造方法を提供すること。
【解決手段】 非酸化性ガス雰囲気の第1の炉内にシリコン生成ガスを導入してシリコンを析出する工程、及び第2の炉内に前記析出したシリコンを導入するとともに、成形助剤の蒸気を固化することにより、シリコン粉末と成形助剤の複合粉を生成する工程を具備することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、新規な半導体シリコン膜及びそのような半導体シリコン膜を有する半導体デバイス、並びにそれらの製造方法を提供することである。
【解決手段】本発明の半導体シリコン膜(160)は、複数の細長シリコン粒子(22)が短軸方向に隣接してなる半導体シリコン膜である。ここでは、細長シリコン粒子(22)は、複数のシリコン粒子の焼結体である。また、このような半導体シリコン膜(160)を製造する本発明の方法は、第1のシリコン粒子分散体を、基材(100)上に塗布し、乾燥し、光(200)を照射して、第1の半導体シリコン膜(130)を形成する工程、第2のシリコン粒子分散体を、第1の半導体シリコン膜(130)に塗布し、乾燥し、光(200)を照射する工程を含む。ここで、この方法では、第1のシリコン粒子分散体の第1のシリコン粒子の分散が5nm以上である。 (もっと読む)


【課題】シリコン芯線の芯線ホルダへの装着が容易であり、芯線ホルダにシリコン芯線を充分な強度で保持させるまでの時間を短くし、転倒を防止するとともに、多結晶シリコンの析出反応初期における成長速度抑制時間の短縮化を可能とする多結晶シリコン製造技術を提供すること。
【解決手段】芯線ホルダ20には本体の上面に開口部22をもち下面側に向かう芯線挿入孔21が形成されている。また、ホルダ20の本体上部には孔部(固定部材挿入孔)が形成されており、当該孔部にボルト状の部材(固定軸)が通される。芯線挿入孔21に挿入されたシリコン芯線5は、このようなボルト・ナット方式の固定部材31によってホルダ20の本体の上部が側面から締め付けられることにより固定される。 (もっと読む)


【課題】シリカ材料表面に均一に炭素被覆ができ且つ炭素被覆の厚さが調整できる簡単且つ効率的な製造方法を提供する。
【解決手段】有機シリル化剤により表面がシリル化されたシリカ材料を、有機シリル化剤の有機基が離脱する温度で加熱し、次いで、CVDで処理することを特徴とする炭素被覆シリカ材料の製造方法。 (もっと読む)


【課題】
シリコン基材から、表面安定性の高い、粒径が少なくとも数百nm以下のシリコン(Si)微細粒子を形成し、それを用いて太陽電池を創製する。
【解決手段】
シリコン基材から粉砕後、ビーズミル法で粉砕して得た,少なくとも粒径数百nm以下のSi微細粒子を、フッ化水素酸水溶液(HF)のみに分散させて処理することで、処理直後のSi粒子表面のSiO層がほぼゼロ、また、大気中で1ヶ月放置しても、そのSiO層厚は高々0.6nm程度と、自然酸化膜成長の小さい、表面安定性の高いSi微細粒子が実現でき、それを用いて太陽電池を創製した。 (もっと読む)


【課題】カーボンヒータにより加熱されたシリコン芯線の熱が電極側へと放熱される程度を抑制し、析出反応開始時通電開始時においてシリコン芯線の温度を効率よく高める技術を提供すること。
【解決手段】金属製の電極10は、上部にアダプタ14を載置できる構造になっている。アダプタ14の上部には芯線ホルダ13が固定され、さらに、芯線ホルダ13にはシリコン芯線11が固定される。本発明の多結晶シリコン製造装置は、少なくとも、シリコン芯線11を保持する炭素製の芯線ホルダ13と、シリコン芯線11に通電するための電極10とを備えており、電極10からシリコン芯線11に至る導電経路の少なくとも一か所に断熱シート17が配置されている。そして、この断熱シート17の厚み方向の熱伝導度は芯線ホルダ13の熱伝導度よりも低いものとされる。 (もっと読む)


【課題】ナトリウムを内包したII型のシリコンクラスレートを安定して大量に製造する方法を提供する。
【解決手段】本発明のシリコンクラスレートの製造方法は、シリコンウエハとNaとを混合して650℃以上の温度で加熱し、SiとNaとからなる化合物を生成する陽圧加熱処理工程と、生成されたSiとNaとからなる化合物を、10−2Pa以下の陰圧下で300℃以上450℃以下の温度により1時間以上加熱する陰圧加熱処理工程とを備えている。Naは、シリコンクラスレートを生成するために用いられるSiに対するモル比が1.0よりも大きくなるように供給されることが好ましい。 (もっと読む)


【解決手段】A2MF6(MはSi、Ti、Zr、Hf、Ge及びSnから選ばれる1種以上、AはLi、Na、K、Rb及びCsから選ばれる1種以上)で表される複フッ化物を、Mのフッ化物を含む第1溶液、及びAのフッ化物、フッ化水素塩、硝酸塩、硫酸塩、硫酸水素塩、炭酸塩、炭酸水素塩及び水酸化物から選ばれる化合物を含む第2溶液及び/又はAの化合物の固体の各々を準備し、第1溶液と第2溶液及び/又は固体とを混合してMのフッ化物とAの化合物とを反応させ、固体生成物を固液分離して回収することにより製造する。
【効果】0〜100℃の低温において、溶液の混合による固体生成物の生成と、それに引き続く固液分離によって、複フッ化物及び複フッ化物蛍光体を製造することができ、この製造方法は、安全衛生上の問題も生じにくく、生産性も高い。また、得られる蛍光体の粒子径、粒子形状も揃っており、発光特性も良好である。 (もっと読む)


【課題】硬化性樹脂に添加してアンダーフィル材としバンプ接続などに供した際に、バンプ間への噛み込みが起こりにくく良好な導通を確保できる非晶質シリカ粒子を提供する。
【解決手段】本発明の非晶質シリカ粒子は、アンダーフィル材に用いる非晶質シリカ粒子であって、圧縮試験において粒子の直径が10%変位したときの荷重値(10%荷重値)と平均粒子径とが下記式(I)
10%荷重値(mN)/平均粒子径(μm)>1.20 (I)
を満足することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】Siインゴット結晶の製造に際し、融液内成長においてSiインゴット結晶を大きく成長させることができるとともに、歪みが十分低減され、かつ生産効率が良いSiインゴット結晶の製造方法を提供する。
【解決手段】Siインゴット結晶のルツボ融液内成長において、融液上部よりも下部の方が高温となる温度分布を有するSi融液の表面近傍でSi種結晶を用いて核形成させ、Si種結晶からSi融液の表面に沿って又は内部に向かってインゴット結晶を成長させる第1の工程と、成長したインゴット結晶の一部を融液内から融液と分離しない程度に引き上げる第2の工程と、融液内に残った結晶からSi融液の表面に沿って又は内部に向かってインゴット結晶を引き続き成長させる第3の工程とを含み、上記第2及び第3の工程を順次複数回繰り返してインゴット結晶を成長させる。 (もっと読む)


【課題】シリコン芯線と他の導電部材の間での火花放電の発生を抑制し、多結晶シリコンの生産性の向上を図ること。
【解決手段】シリコン芯線は単結晶シリコン又は多結晶シリコンの円柱形状のインゴットから切り出され(S101)、切断化工時に生じた残留歪を除去する目的で、取りしろが通常50μm〜200μm程度となるようなフッ酸と硝酸の混酸溶液によるエッチング処理が行われ(S102)、そのエッチングの後に多結晶シリコンの析出反応に用いられる(S103)。エッチング処理の工程でシリコン芯線表面に厚い酸化膜が形成され、これが火花放電を引き起こす原因となる。そこで、本発明では、シリコン芯線をフッ酸と硝酸の混酸溶液でエッチングして表面の加工歪みを除去する工程に続いて、シリコン芯線の表面をフッ酸溶液で洗浄して表面酸化膜を除去する工程(S104)を備える。 (もっと読む)


【課題】 シリコン析出のために十分な熱と流動ガスとを均一に供給することができ,多結晶シリコンの大量生産が可能であり、組み立て、設置及びメンテナンスが容易な流動層反応器を提供する。
【解決手段】 反応管と、独立的に制御して流動ガスを前記反応管の内部に供給する流動ガス供給部と、前記反応管の内部に反応ガスを供給する反応ガス供給部と、を含む。 (もっと読む)


【課題】 連続的に、かつ安定的に多結晶シリコンを製造することができ、生産性を高め、製造原価を下げることができる流動層反応器を提供する。
【解決手段】 内部にシリコン粒子を含む反応管と、前記反応管内のシリコン粒子に流動ガスを供給する流動ガス供給部と、前記反応管で発生されたガスを排出するガス排出部と、前記ガス排出部あるいは前記流動ガス供給部内に装着された圧力センサーと、前記圧力センサーで測定された圧力が基準圧力値以上の場合、前記反応管の内部に形成された多結晶シリコンを外部に排出させる粒子排出口と、を含む。 (もっと読む)


121 - 140 / 2,025