【課題】平均粒子径が小さく、且つ、粗大粒子が少ない、例えば、平均粒子径が０．２μｍ以下であり、粒子径が０．２μｍよりも大きい粒子の割合が１０％以下である、中空メソポーラスシリカ粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】シリカを含むメソ細孔構造を有する外殻部と、外殻部よりも内側に存在する中空部とを含む中空メソポーラスシリカ粒子の製造方法であって、疎水性有機化合物と界面活性剤と水系溶媒とを含む混合液を高圧乳化法により加圧して、疎水性有機化合物を含む乳化滴を含んだ乳濁液を形成する工程と、乳濁液にシリカ源を添加し、乳化滴表面に、シリカを含むメソ細孔構造を有する外殻部を形成し、外殻部と外殻部よりも内側に乳化滴が含まれた複合シリカ粒子を析出させる工程と、複合シリカ粒子から乳化滴を除去する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】疎水性有機物の有効利用効率を向上できる、複合シリカ粒子及び中空シリカ粒子の製造方法の提供。
【解決手段】シリカを含む成分から構成されるメソ細孔構造を有する外殻部を備え、かつ、前記外殻部の内部に疎水性有機物を含む複合シリカ粒子の製造方法であって、疎水性有機物を含む溶液に水性溶媒を添加して乳化すること、及び、前記疎水性有機物の乳化油滴表面にシリカを含む成分から構成されるメソ細孔構造を有する外殻部を形成させることを含む複合シリカ粒子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】基板と素子分離層との剥離やクラックが発生し難く、凹状の溝を有する基板上に平坦な素子分離層を形成することができる素子分離材料用塗布液等を提供する。
【解決手段】素子分離材料用塗布液は、アルコキシシラン化合物と金属アルコキシドとの混合物が加水分解、縮合された絶縁膜形成前駆体と、絶縁膜形成前駆体の濃度を所望の濃度に調製する溶媒と、を備えている。絶縁膜形成前駆体は、Ｓｉ−Ｏ−Ｍ−Ｏ−（Ｍは１種もしくは２種以上の金属）を主骨格としたポリマーであり、その分子の末端に炭素数２〜６個のアルコキシル基を有している。 （もっと読む）

【課題】基板と素子分離層との剥離やクラックが発生し難く、凹状の溝を有する基板上に平坦な素子分離層を形成することができる素子分離材料用塗布液の作製方法等を提供する。
【解決手段】半導体装置のシャロートレンチアイソレーション構造の素子分離層の形成に用いられる素子分離材料用塗布液の作製方法は、混合液作製工程と絶縁膜形成前駆体作製工程と塗布液作製工程とを備えている。混合液作製工程では、炭素数２〜６個のアルコキシル基を有するアルコキシシラン化合物と第１の溶媒との混合液を作製する。絶縁膜形成前駆体作製工程では、この混合液に加水分解触媒及び水を添加し、加水分解、縮合して絶縁膜形成前駆体を作製する。水の添加量は、アルコキシシラン化合物中の全アルコキシル基１モルに対して０．３〜０．８倍モルの範囲とする。塗布液作製工程では、作製された絶縁膜形成前駆体に第２の溶媒を加え、素子分離材料用塗布液を作製する。 （もっと読む）

【課題】基板と素子分離層との剥離やクラックが発生し難く、凹状の溝を有する基板上に平坦な素子分離層を形成することができる素子分離材料用塗布液の作製方法等を提供する。
【解決手段】素子分離材料用塗布液の作製方法では、Ｓｉ（ＯＲ^１）_４（Ｒ^１は炭素数２〜６個の有機基）で表される第１のアルコキシシラン化合物と、Ｒ^２_ｎＳｉ（ＯＲ^３）_４−ｎ（Ｒ^２はメチル基、エチル基、プロピル基、ビニル基、または、フェニル基、Ｒ^３は炭素数２〜６個の有機基、ｎは１〜３の整数）で表される第２のアルコキシシラン化合物と、第１の溶媒との混合液を作製する。第１のアルコキシシラン化合物と第２のアルコキシシラン化合物とは、全アルコキシシラン化合物に対する第２のアルコキシシラン化合物のモル比が０．０９〜０．９となるように混合する。この混合液を加水分解、縮合して絶縁膜形成前駆体を作製し、これに第２の溶媒を加え、塗布液を作製する。 （もっと読む）

【課題】微粒子の周期構造を有し、当該構造に入射した光の回折・干渉による構造性発色を示す発色フレーク体であって、無機微粒子間の接合力が強く、基板上に形成された膜ではなくフレーク体でありながら安定した発色を示す発色フレーク体とその製造方法を提供する。
【解決手段】単分散の粒径分布を示す球状の無機微粒子が最密充填された構造を有し、前記構造において、隣り合う前記無機微粒子は、当該無機微粒子同士の接触点にて互いに接合されるとともに、当該無機微粒子間に空隙を有し、前記構造に入射した光の回折および干渉による構造性発色を示す発色フレーク体とする。 （もっと読む）

本発明は、その場（ｉｎ ｓｉｔｕ）で形成され、製造プロセスの最後に熱酸化により除去される一時的な有機固体骨格支持体を用いた、ゲルの亜臨界乾燥によるゾル−ゲルプロセスによる多孔質ＳｉＯ_２キセロゲルの製造に関する。
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【課題】基材のサイズに依らず連続コーティングが可能な生産性に優れ、かつ屈折率が低く、耐久性にも優れた良好な光学機能層となるシリカ系多孔質体の製造方法を提供すること。
【解決手段】シリカ系多孔質体の製造方法において、２種以上のアルコキシシラン類からなる加水分解基含有シラン、その加水分解物及び部分縮合物、及び水、アルコール類、有機高分子とを含むシリカ系組成物をＪＩＳ Ｂ７５１３に準拠した方法で測定される平面
度が２０μm以下である基材上に塗布した後、１００℃以上で加熱することを特徴とする
。 （もっと読む）

【課題】従来に比べて、より安全性及びサイクル特性の高いリチウムイオン二次電池等に好適な負極の製造を可能とする非水電解質二次電池用負極材とその製造方法、並びにリチウムイオン二次電池を提供する。
【解決手段】非水電解質を用いる二次電池用の負極材であって、少なくとも、珪素ナノ粒子が酸化珪素中に分散した構造を有する粒子（酸化珪素粒子）と、該酸化珪素粒子の表面に被覆された金属酸化物被膜からなるものであることを特徴とする非水電解質二次電池用負極材。 （もっと読む）

【課題】空気の平均自由行程よりも小さな細孔を有し、嵩密度の低いシリカキセロゲルを簡単な製造工程で製造可能なシリカキセロゲル及びその製造方法を提供する。
【解決手段】テトラアルコキシシランとモノアルキルトリアルコキシシランとを、モル比で、テトラアルコキシシラン：モノアルキルトリアルコキシシラン＝０．０５〜０．３５：０．６５〜０．９５の割合で含むゲル原料と、該ゲル原料中のシラン化合物全量１モルに対し、アルコール類を４〜８モル、水を３〜６モル含む溶媒とを混合し、ゲル原料中のシラン化合物を加水分解してゾルを生成させ、得られたゾルをゲル化し、養生して得られた湿潤ゲルを常圧あるいは減圧下で乾燥して、嵩密度が９０〜２００ｋｇ／ｍ^３、平均空孔径が２０〜６５ｎｍのシリカキセロゲルを得る。 （もっと読む）

【課題】平均粒子径１００μｍ以上の大きな粒径を有する無機質球状体の製造方法の提供。
【解決手段】特定の無機化合物を含む水性液体を有機液体中に分散させてＷ／Ｏ型エマルジョンを形成する工程、前記Ｗ／Ｏ型エマルジョンに金属アルコキシドを添加し、無機化合物を含む水性液体の液滴の外殻部に金属アルコキシドの加水分解による金属酸化物を生成させる工程、及び、前記金属酸化物の生成後のＷ／Ｏ型エマルジョン中の無機化合物を含む水性液体を固形化して無機質球状体を生成させる工程、を経る平均粒子径が１００〜１０００μｍの無機質球状体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】酸化物微小構造体表面の水酸基及び吸着水を十分に除去することができる酸化物微小構造体の水酸基及び吸着水の除去方法を提供する。
【解決手段】酸化物微小構造体の表面に存在する水酸基及び吸着水を除去する方法であって、当該酸化物微小構造体の表面に表面処理剤を修飾する第１工程と、当該表面処理剤により修飾された酸化物微小構造体にマイクロ波を照射する第２工程と、を含む酸化物微小構造体の水酸基及び吸着水の除去方法である。
本発明により得られる酸化物微小構造体は、その規則正しい構造の形状性など光学分野、触媒分野、電気化学分野、電子工学分野などで好適に用いることができる。 （もっと読む）

【課題】低燃費性と耐摩耗性に優れたゴム組成物を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表される硫黄含有シランカップリング剤と水とアルコールと酸性化合物を混合して処理液を調製し、予め乾燥させたシリカに前記処理液を付与して表面処理を行う表面処理シリカの製造方法である。該表面処理シリカをジエン系ゴムに添加し混合してゴム組成物を調製する。
（Ｒ^１）_ｍ（Ｒ^２）_ｎＳｉ−Ａ …（１）
（Ｒ^１は炭素数１〜３のアルコキシ基、Ｒ^２は炭素数１〜４０のアルキル基、アルケニル基又はアルキルポリエーテル基、Ａは硫黄原子を含む官能基、ｍ＝１〜３、ｍ＋ｎ＝３） （もっと読む）

【課題】真空乾燥装置を用いて溶媒中に微粒子が分散されてなる原料スラリーを乾燥した場合に、得られる粉体内のＦｅ含量の低減を図る。
【解決手段】外部加熱され、減圧に保持された加熱管の一端が原料スラリーの供給部に接続され、他端が減圧に保持された粉体捕集室に接続されている真空乾燥装置を用いて、溶媒中に平均粒子径１〜１０μｍの微粒子が分散された原料スラリーを乾燥して粉体を製造する方法であって、前記微粒子が、非晶質金属酸化物粒子、有機架橋重合体粒子または有機無機複合粒子であり、前記原料スラリーの前記加熱管への供給速度を１８Ｌ／ｈｒ以下にすることを特徴とする粉体の製造方法である。 （もっと読む）

本発明は、新規の有機−無機シリカ粒子、その製造方法及びこれを含むハードコーティング組成物に関するもので、より詳細には、シリカ粒子の表面のヒドロキシ基（―ＯＨ）に開始剤を化学的に結合させた有機−無機シリカ粒子、その製造方法及びこれを含むハードコーティング組成物に関するものである。本発明に係る有機−無機シリカ粒子を含むハードコーティング組成物は、耐磨耗性及び耐スクラッチ性などに優れたハードコーティングフィルムを提供することができる。
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【課題】表面がプラスに帯電する性質が付与され、しかも、電子写真用トナー外添剤として使用した場合に、トナー用樹脂粒子への埋没が抑制され、良好な流動特性を付与することが可能な表面処理シリカ微粒子を提供する
【解決手段】表面にアミノ基とトリメチルシリル基を有し、ＢＥＴ比表面積が１５〜４５ｍ^２／ｇである表面処理シリカ微粒子であり、かかる表面処理シリカ微粒子は、低融点化されたトナー樹脂表面に外添した場合でも、樹脂への埋没が抑制され、機械的ストレスに対する耐性を高くすることが可能となる。また、プラスに帯電する性質を有しており、プラスに帯電させることが必要な電子写真用トナー外添剤として、極めて有用である。 （もっと読む）

【課題】多孔質膜で被覆された基板であって、該多孔質膜の表面に無孔質薄膜が形成されており、且つ、該多孔質膜に、基板から無孔質薄膜に向かう貫通孔が形成された積層基板を提供する。
【解決手段】本発明の積層基板は、多孔質膜で被覆された基板であり、前記多孔質膜の表面に無孔質薄膜が形成されており、基板から無孔質薄膜に向かう複数の互いに並行する貫通孔が前記多孔質膜に形成されている。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、耐アルカリ性が優れた中空シリカ粉末、その製造方法及び用途を提供するものである。
【解決手段】 シリカ（ＳｉＯ_２）を主成分とし、平均粒子径が５〜１２０ｎｍ、シェルの厚さが１〜３５ｎｍ、シラノール基（≡Ｓｉ−ＯＨ基）の数が１〜１０個／ｎｍ^２である中空シリカ粉末。コアとなる有機ポリマー粒子は、重合性モノマーを主成分としてこれにイオン性コモノマーをモル比で１５０：１〜２：１の割合で共重合させてなるソープフリー重合によって平均粒子径５〜９０ｎｍの粒子を製造し、陽イオン性水溶性高分子と非イオン性水溶性高分子を加え、コア粒子を含む液体を水からアルコールに置換した後、アルコキシシラン、水及び塩基性物質を添加してシリカを被覆し、平均粒子径５〜１２０ｎｍ、シリカシェルの厚さ１〜３５ｎｍのコアシェル粒子からなる粉末を製造し、その後コアを除去する中空シリカ粉末の製造方法。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１種のフタロシアニン誘導体を含むシリカ粒子の製造方法、少なくとも１種のケイ素フタロシアニン誘導体から逆マイクロエマルション経由で製造される当該粒子、当該シリカ粒子、およびその用途に関する。 （もっと読む）

【課題】硼素不純物や燐不純物を含有するクロロシラン類から高純度のクロロシラン類を得るための方法を提供すること。
【解決手段】芳香族アルデヒドを添加してクロロシラン類の精製を行う際の固形分の副生原因が鉄イオンあるいは錆び状の鉄による触媒反応であるとの知見に基づき、マスク効果のあるルイス塩基をクロロシラン類に加えることとした。ルイス塩基としては、２価のイオウ含有化合物やアルコキシシラン類が例示される。前者はＲ−Ｓ−Ｒ´（Ｒ：炭素数１〜２０の脂肪族又は芳香族骨格を含む炭化水素基、Ｒ´：炭素数１〜２０の脂肪族又は芳香族骨格を含む炭化水素基あるいは炭素数１〜２０の脂肪族又は芳香族骨格を含む炭化水素基が置換されたカルボニル基、Ｒ及びＲ´が有する炭素数の合計は７以上）が好ましく、後者はＲ_ｘＳｉ（ＯＲ´）_４−ｘ(Ｒ及びＲ´は炭素数１〜２０のアルキル基、ｘ＝０、１、２、又は３）が好ましい。 （もっと読む）