ａ）５０〜７５質量部の水において、ｂ）３０〜５００ｍ^２／ｇのＢＥＴ表面積を有する２５〜５０質量部のシリカ粒子と、ｃ）ｂ）の質量部の１種以上のアミノ官能性有機珪素化合物からの１００〜３００ｕｇ／ｍ^２のＢＥＴ表面積のシリカ粒子と、を反応させることによって得られる分散液であって、前記アミノ官能性有機珪素化合物は第４級アミノ官能性有機珪素化合物であり、該化合物は成分Ａとして少なくとも１種のハロアルキル官能性シランと成分Ｂとして第３級アミンとを規定された量の水の存在下で反応させて且つ得られた加水分解アルコールを少なくとも部分的にこの系から除去することによって得られる、前記分散液。 （もっと読む）

【課題】従来のコロイダルシリカよりも製造が容易で、製造コストが低く、金属不純物による汚染が少なく、シリコンウエハ、化合物半導体ウエハ、半導体デバイスウエハ、磁気ディスク基板、水晶基板等の電子材料の研磨加工に用いることのできる新規なコロイダルシリカを提供する。
【解決手段】珪酸アルカリ水溶液を原料としたコロイダルシリカのシリカ粒子をコアとし、その粒子表面をテトラアルコキシシランのアルカリ触媒を用いた加水分解によるシリカからなる厚さ１〜１０ｎｍのシェルで被覆したコア・シェル型シリカ粒子を含有することを特徴とするコロイダルシリカである。 （もっと読む）

高密度のシリカシェルを有するコアシェルシリカナノ粒子が提供される。ナノ粒子は、例えば、増強されたフォトルミネセンス及び安定性など、改良された特性を有する。また、前記ナノ粒子を製造するための方法もまた、提供される。
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【課題】本発明の目的は、細孔を有するシリカゲルを原体とて用い、粒径を維持したまま、細孔径、細孔容積を減少させる、すなわち細孔物性が調整されたシリカゲルを製造する方法及び細孔を有するシリカゲルの細孔物性を調整する方法を提供することを課題とする。
【解決手段】細孔を有するシリカゲルとアルコキシシラン及び／又はその誘導体を水存在下で加水分解し、マイクロ波を照射することで、シリカゲルの粒径を維持したまま、細孔物性を制御できる。すなわち、細孔径、細孔容積を減少させることができる。 （もっと読む）

【課題】高い防汚性を付与することができる表面修飾シリカ粒子及び当該シリカ粒子を含有する活性エネルギー線硬化型樹脂組成物を提供する。
【解決手段】シリカ粒子表面にシリルオキシ基を介して、ポリアルキルシロキサン鎖又はポリアリールシロキサン鎖と、活性エネルギー線重合性基とを修飾したことを特徴とする表面修飾シリカ粒子。
【効果】当該シリカ粒子は、各種コーティング材の添加剤として用いることができ、当該コーティング材を塗布した物品に優れた防汚性を付与することができる。特に、防汚性が要求される保護フィルム等に有用である。 （もっと読む）

【課題】疎水化度が高く、且つ、吸湿性が格段に低減されている疎水性シリカ粒子の製造方法の提供。
【解決手段】本発明の疎水性シリカ粒子の製造方法は、シリカを基材とする疎水性シリカ粒子の製造方法であって、該シリカが孤立シラノール基含有量が０．０１〜０．３ｍｍｏｌ／ｍ^２であり、且つ、比表面積値Ｓｓが、下記式（１）で示される理論表面積Ｓｓ_０に対する比表面積比（Ｓｓ／Ｓｓ_０）が２以下を満足するものであり、該シリカにオルガノシリル化剤を反応させることを特徴とする。該シリカはアルコキシシランの加水分解・縮合反応により得られたシリカ粒子を６５０〜１１８０℃で焼成することによって、孤立シラノール基含有量並びに比表面積を所定範囲に制御されたシリカを製造する工程と、該シリカにオルガノシリル基を導入する工程とを有する製造方法により製造することが好ましい。 （もっと読む）

【課題】比誘電率及び／又は誘電正接が低く、異方性が高い板状シリカ粒子の製造方法、及び該板状シリカ粒子を提供する。
【解決手段】（１）ナノ細孔が実質的に存在しない中空状シリカ粒子を粉砕する工程を含む、比誘電率が３．５以下及び／又は誘電正接が０．０１以下である板状シリカ粒子の製造方法、及び（２）その製造方法により得られた、比誘電率が３．５以下及び／又は誘電正接が０．０１以下である板状シリカ粒子である。 （もっと読む）

【課題】低密度シリカナノ中空粒子及びその製造方法において、塗料等を始めとする材料中に混入等をすることによって、極めて低い熱伝導率を得るために有効であること。
【解決手段】炭酸カルシウム２を結晶成長させた（Ｓ１０）後に、熟成（Ｓ１１）、脱水し（Ｓ１２）、固体微粉末状とした後、エタノールに分散させ（Ｓ１３）、シリコンアルコキシド及びアンモニアを添加して、ゾル−ゲル法によりシリカをコーティングする（Ｓ１４）。このようにして作製したシリカコーティング粒子３を洗浄した（Ｓ１５）後に、水に分散させて（Ｓ１６）、塩酸を添加して内部の炭酸カルシウム２を溶解させて流出させることによって（Ｓ１７）、流出孔を有する立方体状形態のシリカ殻からなるナノ中空粒子４が形成され、乾燥した（Ｓ１８）後に、加熱工程において４００℃で加熱し流出した孔を塞ぐことによって（Ｓ１９）、低密度シリカナノ中空粒子１が製造される。 （もっと読む）

【目的】
ナノ構造を有する無機多孔質体の合成法は、古くから開発されているにも係わらずこれを応用加工した商品開発ができなかった。そこで、ナノ構造を有する無機多孔質体の表面を改質することによって、有機材料との相溶性を向上させ、しかも有機材料に対する添加量を増やして加工性を向上させた多孔質体を提供する。
【構成】
本発明のナノ構造を有する無機多孔質体の表面を改質する方法は、ゾルーゲル法による加水分解、縮重合によって得られた湿潤ゲルの状態でシランカップリング剤を添加し、その後、超臨界流体で乾燥させて得られるものである。 （もっと読む）

ナノシリカ粒子の表面が、アルデヒド官能基を含有するシロキサン置換基で修飾され、ポリマーコーティング組成物等の組成物に容易に組み込まれる粒子を提供し、引っかき抵抗性、吸塵抵抗性、非接着性を向上させる一方で、優れた膜形成特性を維持する。新規のシリカ粒子、それらを調製するための簡素で経済的なプロセス、ならびに防塵塗料およびそれらを含有するポリマー成形組成物が提供される。 （もっと読む）

【課題】本発明の主題の１つは、水溶性の孔形成剤、例えばシクロデキストリン誘導体またはサッカリドを使用することを含む多孔質シリカ粒子を調製するプロセスである。その主題はまた、このプロセスによって調製できる多孔質シリカ粒子に関し、それら種々の使用および用途に関する。
【解決手段】本発明は、水溶性孔形成剤を含むシリカ粒子を調製する工程；次いで前記孔形成剤を溶解により除去する工程で構成される工程を含む多孔質シリカ粒子の調製プロセスに関する。本発明はまた、このプロセスによって調製できる多孔質シリカ粒子、およびそれらの種々の使用および用途に関する。 （もっと読む）

【課題】 金属酸化物がナノメートルオーダーのファイバー、粒子又はリボン形状を有し、これらを基本ユニットとして集合してなるナノ構造体で固体基材が被覆されている構造物とその簡便且つ効率的な製造方法を提供すること。
【解決手段】 ポリエチレンイミン骨格を有するポリマーを含有する溶液中に固体基材を浸漬させた後取り出し、該固体基材の表面にポリマー層を形成させる工程（Ｉ）と、前記工程（Ｉ）で得られたポリマー層を有する固体基材と、金属酸化物のソース液とを接触して、固体基材表面のポリマー層中に金属酸化物を析出させナノ構造複合体被覆型構造物を得る工程と、前記工程（ＩＩ）で得られたナノ構造複合体被覆型構造物を焼成する工程（ＩＩＩ）と、を有することを特徴とする金属酸化物を主構成成分とするナノ構造体で被覆された金属酸化物被覆構造物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】従来のポリマー材料を用いたプロトン伝導体では、耐熱性、化学的安定性および寸法安定性に課題があり、さらに、１００℃を越える温度では、プロトン伝導体として安定に作動させることが困難なため、燃料電池の電解質に用いた場合に高温で安定に作動することができなかった。
【解決手段】少なくとも下記（１）式のアニオン基を有し、１５０℃、相対温度１００％におけるプロトン伝導度が０．１Ｓ／ｃｍ以上であることを特徴とするプロトン伝導性シリカ。
【化１】


（ただし、ＸはＣ_ｍＨ_２ｍ（ｍ＝１〜１０）、Ｃ_ｍＦ_２ｍ（ｍ＝１〜１０）、Ｃ_ｍＣｌ_２ｍ（ｍ＝１〜１０）、Ｃ_ｍＢｒ_２ｍ（ｍ＝１〜１０）、フェニル基、ベンジル基、ナフチル基、アンスリル基から選ばれる置換基である。） （もっと読む）

【課題】ケイ素微粒子の可視光領域における発光強度を高める。
【解決手段】ケイ素微粒子発光体の製造方法は、不活性雰囲気下においてケイ素源と炭素源を含む混合物を焼成する工程と、不活性雰囲気から生成ガスを抜き出し急冷してケイ素微粒子を含む混合粉体を得る工程と、前記混合粉体を不活性雰囲気下１０００〜１１００℃で熱処理する工程と、前記熱処理後の混合粉体をフッ酸および酸化剤を含むエッチング溶液に浸漬してエッチングする工程とを含む。 （もっと読む）

【解決手段】本発明は、表面改質されたことを特徴とする、エアロゲル型ストラクチャードシリカ、エアロゲル型ストラクチャードシリカを調製し、場合によってまず水又は酸性化した水、及び次に溶媒に場合によって溶解されていてよいシラン化剤を吹きつけ、後混合し、及び混合物をコンディショニングすることを特徴とする、表面改質された、エアロゲル型ストラクチャードシリカの製造方法、その使用を提供する。
【効果】本発明により、表面改質されたことを特徴とする、エアロゲル型ストラクチャードシリカ、その製造方法、その使用を提供できる。 （もっと読む）

【課題】微粒子同士の凝集が抑制され、樹脂中に分散させた場合には耐光性及び光透過性に優れる樹脂を提供することができる金属酸化物微粒子、該微粒子を反応させて得られるシリコーン樹脂組成物、該シリコーン樹脂組成物を含有する光半導体素子封止材料、ならびに、該樹脂組成物又は光半導体素子封止材料で封止された光半導体装置を提供すること。
【解決手段】炭素数4〜20のアルケニル基を有するケイ素化合物を含有する表面修飾剤で処理されてなる、金属酸化物微粒子。 （もっと読む）

【課題】例えばＥｔＯＨのように分子サイズの小さな液体からも、水分を良好に選択除去できる水分除去方法を提供する。
【解決手段】Ｈｅガス透過流量Ｆ_ＨｅとＳＦ_６ガス透過流量Ｆ_ＳＦ６との比：Ｆ_Ｈｅ／Ｆ_ＳＦ６が１００〜１００００であるとともに、ＳＦ_６ガス透過流量Ｆ_ＳＦ６が１×１０^−１１ 〜１×１０^−８ ｍｏｌ／（ｍ^２・Ｐａ・ｓｅｃ）である無機材質膜１０を使用する。この方法は、特に液体がエタノール、イソプロピルアルコールなどの分子サイズが０．３６ｎｍ以上のものである場合に効果的である。 （もっと読む）

【課題】多孔質の複合酸化物粒子の表面を多孔質のシリカ系無機酸化物層で被覆した種々の微粒子構造を提供すると共に、該微粒子を含有する被膜を基材の表面に形成して、低屈折率で、樹脂等との密着性、強度、反射防止能等に優れた被膜付きの基材を提供する。
【解決手段】微粒子は、シリカとシリカ以外の無機酸化物とからなる多孔質の複合酸化物粒子が、厚さが０．５〜２０ｎｍである多孔質のシリカ系無機酸化物層で被覆されてなる。前記微粒子は、珪素に直接結合した有機基を含むことが好ましく、該有機基が直接結合した珪素のモル数（Ｓ_R）と全珪素のモル数（Ｓ_T）の比Ｓ_R／Ｓ_Tが０．００１〜０．９であることが好ましい。被膜付基材は、前記した微粒子と被膜形成用マトリックスを含む被膜が基材表面に形成されてなる。 （もっと読む）

【課題】低屈折率でそれを長期に維持可能であり、高硬度でかつ被コーティング材料への膜の密着性に優れる多孔質シリカ膜およびその製造方法を提供する。
【解決手段】膜の表面および内部に存在する細孔が直径２ｎｍ以下のミクロ孔のみであって、鉛筆硬度が５Ｈ以上であり、分光エリプソメータを用いて波長６５５ｎｍの光を膜表面に対して入射角７５度にて入射させた際の屈折率が１．３３以下である多孔質シリカ膜であり、少なくとも、テトラアルキルオルソシリケート、メタノール若しくはエタノール、ヒドロキシケトン誘導体および水を混和して反応させる工程を含む方法により製造する。 （もっと読む）