【課題】多結晶シリコンの製造原料であるトリブロモシランを高い選択率及び／又は高い収率で得ることができる製造方法を提供すること。
【解決手段】金属グレードシリコン及び臭化水素を３８０〜４５０℃、好ましくは３８０〜４３０℃で反応させ、蒸留により分離回収するトリブロモシランの製造方法である。 （もっと読む）

【解決手段】不純物を含むフラックスを加熱溶融し、フラックス中にハロゲンガスを含む処理気体を吹き込むことにより、フラックス中の不純物を低減することを特徴とするフラックスの不純物除去方法。
【効果】本発明によれば、冶金的手法による太陽電池用等の高純度シリコンの製造に用いるフラックス中の不純物、特にホウ素、リンを効果的に低減することができる。この結果、極めて安価にホウ素、リン等が低減されたフラックスを得ることができる。 （もっと読む）

【課題】新規なハロゲン化層状ポリシランを提供する。
【解決手段】アルゴン雰囲気に置換したナス型フラスコへＣａＳｉ₂を入れ、そこへ無水アセトンを加え、更に攪拌しながら臭素を混合した。この混合物を室温で７日間攪拌した。７日後には、混合物中に黄色の結晶が沈殿した。黄色の結晶の回収は、反応溶液の上澄みを除去し、そこへ新たにヘキサンを加え、静置するという操作を３回繰り返すことにより行った。洗浄後、減圧下で溶媒及び臭素を完全に除去することにより、臭素化層状ポリシランを得た。得られた臭素化層状ポリシランは、ダイヤモンド構造のシリコン結晶の（１１１）面と同じ副格子を有するシリコンへ臭素が結合した構造であり、六方晶系に属するものであった。この臭素化層状ポリシランは、リチウムイオン電池の負極材料として使用可能であり、アミノ化層状ポリシランの合成中間体としても使用可能であった。 （もっと読む）

本発明は、クロロシランを主にエネルギー自立型に連続的に製造するための、特に高純度シリコンの獲得のための中間生成物としてのトリクロロシランを製造するための装置、その使用及び方法に関する。
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本発明は、ハロゲン化ポリシランの熱分解によって得られたハロゲン化合物を含むシリコン及びその製造方法に関する。シリコンは１ａｔｍ％〜５０ａｔｍ％の含有量のハロゲン化合物を有する。更に、本発明は金属シリコンの精製のため、ハロゲン化合物を含有したシリコンの使用方法に関する。 （もっと読む）

水性分散液の製造方法において、該分散液は９〜１４のｐＨを有し且つ７５〜９９．９９質量％の二酸化ケイ素の割合及び０．０１〜２５質量％の二酸化チタンの割合を有する熱分解法チタン−ケイ素混合酸化物粉末の粒子（その平均アグリゲート直径が分散液中で２００ｎｍ以下である）、及び少なくとも１種の塩基性第４級アンモニウム化合物を含む。 （もっと読む）

シリコンが溶媒金属から結晶化される、シリコンを精製するための方法が開示される。当該方法は、シリコン、溶媒金属、および不純物を含有する溶融液を提供するステップと、第１のシリコン結晶および第１の母液を形成するように溶融液を冷却するステップと、第１の母液から第１のシリコン結晶を分離するステップと、第１のシリコン結晶を、第１の母液を溶解させる化合物と接触させるステップと、洗浄液から洗浄された結晶を分離するステップとを含む。
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【課題】不純シリコン源からの調整されたレベルのｎ‐型及びｐ‐型不純物を有する精製多結晶シリコン粒の商業規模の生産装置を提供する。
【解決手段】精製システムは、温度及び滞留時間の厳密な制御によって様々な度合いの固体シリコンの精製及び析出が実現されるよう固体と気体が輸送される二相流動床を含む温度制御された反応装置又は槽の１つ以上の系列と、ＦｅＳｉ及びＦｅＩ_２等の高融点不純物の化合物の分離及び回収と、四ヨウ化シリコンの精製、分離及びリサイクルと、ヨウ素還流によって促進された、連続分別蒸留塔の中のＡｌＩ_３等の低沸点液体不純物のヨウ化物化合物の分離及び回収と、分別蒸留塔の下流の液体混合物中の不純物ヨウ化物及び元素シリコンを含む非常に細かな固体粒子の分離及び回収と、プロセスからの固体及び液体のヨウ化物不純物廃棄物の流れの酸化からの原料ヨウ素の回収を含む。 （もっと読む）

【課題】大掛かりな設備を必要とせずにシリコン膜を形成するための成膜材料として、ポリシラン修飾シリコン微粒子を製造する方法およびこのポリシラン修飾シリコン微粒子を用いたシリコン膜の形成方法を提供する。
【解決手段】末端がシリルアニオン化されたポリジフェニルシランからなるポリシラン１１を含む液に、シリコン微粒子１２を添加することで、シリコン微粒子１２の表面にポリシラン１１を結合させたポリシラン修飾シリコン微粒子１３を製造する。そして、このポリシラン修飾シリコン微粒子１３に水素化処理を行うことで、水素化ポリシラン修飾シリコン微粒子１４を製造することを特徴とするポリシラン修飾シリコン微粒子の製造方法である。また、この水素化ポリシラン修飾シリコン微粒子１４が分散された液を基板上に塗布し、塗布膜を形成した後、塗布膜が形成された状態の基板に熱処理または光照射を行うことで、シリコン膜を形成することを特徴とするシリコン膜の形成方法である。 （もっと読む）

【解決課題】シリカ粒子中のイオン性の高い不純物を短時間に除去することができる精製効果に優れた処理方法と装置および精製シリカ粒子を提供する。
【手段】シリカ粒子を流動状態にし、高温下で流動状態のシリカ粒子に精製ガスを接触させてシリカ粒子の不純物成分を除去する精製方法において、流動状態のシリカ粒子を磁場領域内に位置させて、シリカ粒子の移動により生じる電場によってシリカ粒子に電圧を印加した状態にして精製ガスと接触させることを特徴とするシリカ粒子の精製方法であり、好ましくは、流動状態のシリカ粒子を、１０ガウス以上の磁場領域内に位置させて、１０００℃以上の温度下で精製ガスと接触させるシリカ粒子の精製方法。 （もっと読む）

第１の工程で相応する元素を含有する材料と炭素または炭素含有材料とからなる混合物を製造し、この混合物を反応条件下でガス状のハロゲン、ハロゲン化水素またはその混合物と接触させ、加熱させることによって特徴付けられる、元素状ハロゲン化物の製造法が記載されており、この場合このエネルギー供給は、交番磁界によって行なわれる。 （もっと読む）