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Fターム[4G072JJ23]の内容

珪素及び珪素化合物 (39,499) | 非珪素系反応剤、原料、処理剤 (2,734) | アルカリ (198) | NH3 (98)

Fターム[4G072JJ23]に分類される特許

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【課題】シリカ殻の任意の部位に選択的に金属ナノ粒子または金属酸化物ナノ粒子を担持させたシリカ殻からなる複合ナノ中空粒子を提供すること、またナノ粒子の分散性を維持しつつ、中空粒子が持つ特性を保持したまま安定して供給する方法を提供することである。
【解決手段】平均細孔径の異なるシリカ殻からなるナノ中空粒子を製造し、シリカ殻外表面、シリカ殻内、あるいはシリカ殻内表面の少なくとも一部位に選択的に金属または金属酸化物を担持させる。 (もっと読む)


【課題】ナノオーダーの微細な粒径を有していながら、高い疎水性を示し、透明樹脂に対しての分散性が著しく高められた表面処理シリカ系粒子を提供する。
【解決手段】電子顕微鏡で測定して平均粒子径が1〜50nmの範囲あるシリカ系粒子であって、個々の粒子が、疎水性シランカップリング剤により表面処理されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高湿環境下における凝集の発生と共に、低湿環境下での帯電性の悪化が抑制されたゾルゲルシリカ粒子を提供すること。
【解決手段】温度50℃で30分乾燥させた後のBET比表面積をSA(m/g)とし、温度200℃で30分乾燥させた後のBET比表面積をSB(m/g)としたとき、下記条件式(1)及び(2)を満たすゾルゲルシリカ粒子である。
・条件式(1):35≦SA≦50
・条件式(2):5≦|SA−SB|≦15 (もっと読む)


【課題】粗粉が少なく、且つ固形分濃度が高いシリカ粒子分散液の製造方法を提供すること。
【解決手段】シリカ粒子と溶媒とを含有するシリカ粒子分散液を準備する分散液準備工程と、シリカ粒子分散液を濃縮する一次濃縮工程と、一次濃縮工程後、シリカ粒子分散液に、疎水化処理剤を添加する添加工程と、添加工程後、シリカ粒子分散液を濃縮する二次濃縮工程と、を有するシリカ粒子分散液の製造方法である。 (もっと読む)


【目的】
ゾルーゲル法によってシリカ系の湿潤ゲルを合成する際に、シリカ末端のOH基に疎水化反応をさせるシラン系表面処理剤を添加する方法において、所望の疎水化された湿潤ゲルを得、最終的に疎水性に優れたナノ構造を有する多孔質体を提供することを目的とする。
【構成】
本発明は、テトラアルコキシシランにシラン系表面処理剤を添加し、アルカリ触媒下でのゾルーゲル法で湿潤ゲルを得、得られた湿潤ゲルを超臨界炭酸ガス乾燥法によって乾燥して得られるナノ構造多孔質体の製造方法であって、前記シラン系表面処理剤は、Si(OCH)4−n(n=2〜3、X=アルキル基)の化学式で表されるものであり、かつ、モル比率でテトラアルコキシシラン/シラン系表面処理剤=9/1〜2/8の範囲で添加されることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】微粒子状炭素がシリカ骨格の内部にまで均一に分散した状態にあって優れた電気伝導性を示すシリカ・炭素複合多孔質体と、その製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のシリカ・炭素複合多孔質体は、界面活性剤によって水に分散させた微粒子状の炭素と、アルカリ金属ケイ酸塩水溶液と、鉱酸とを混合することにより、アルカリ金属ケイ酸塩と鉱酸との反応生成物であるシリカと微粒子状の炭素が均一に分散した共分散体を作製し、当該共分散体中に含まれるシリカをゲル化させ、共分散体を多孔質化することによって得られる。このシリカ・炭素複合多孔質体は、比表面積が20−1000m2/g、細孔容積が0.3−2.0ml/g、平均細孔径が2−100nmに調製される。このようなシリカ・炭素複合多孔質体は、微粒子状炭素がシリカ骨格の内部に均一に分散した状態にあり、優れた電気伝導性を示す。 (もっと読む)


【課題】トナーの外添剤として用いた場合に、トナーの転写維持性及びフィルミングが向上するシリカ粒子の提供。
【解決手段】体積平均粒径が80nm以上300nm以下であり、平均円形度が0.92以上0.935以下であり、円形度幾何標準偏差が1.02以上1.15以下であるシリカ粒子。 (もっと読む)


【課題】付着対象物の流動性を維持するシリカ粒子を提供する。
【解決手段】体積平均粒径が100nm以上500nm以下であり、平均円形度が0.5以上0.85以下であり、立体画像解析により求められる最大高さHに対する平面画像解析により求められる円相当径Daの比の平均値が、1.5を超え1.9未満であるシリカ粒子。 (もっと読む)


【課題】透明被膜の白化が抑制され、優れた耐擦傷性や密着性を発揮することが可能な中空シリカ微粒子とその製造方法を提供する。
【解決手段】動的光散乱法により測定される平均粒子径が5〜300nm、比表面積が50〜1500m/gであり、外殻の内部に空洞が形成されてなる中空のシリカ微粒子であって、熱重量測定(TG)により、200℃〜500℃の温度範囲において1.0重量%以上の重量減少を示す。また、この中空シリカ微粒子は、200℃〜500℃の温度範囲での示差熱保持測定(DTA)において、正のDTAピークを有する。中空シリカ微粒子が分散したオルガノゾルを調製し、30℃〜300℃の温度範囲で、該オルガノゾルにシラン化合物およびアルカリ触媒を添加し、シリカ配合量に対して水分量が0.1〜50重量%の条件で、該シラン化合物と該中空シリカ微粒子を反応させ製造する。 (もっと読む)


【課題】硬化性樹脂に添加して半導体用封止材とした際に流動性の低下やボイドの発生を確実に抑制でき、製造ロットに拘らず好適に半導体用封止材に用いることができる非晶質シリカ粒子を提供する。
【解決手段】本発明の非晶質シリカ粒子は、半導体用封止材に用いる非晶質シリカ粒子であって、粒子表面のシラノール基濃度(mmol/g)を、BET法により測定される粒子の比表面積(m/g)で除することで求められる単位表面積あたりのシラノール基量が、0.010mmol/m以上、0.065mmol/m以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】硬化性樹脂に添加してアンダーフィル材としバンプ接続などに供した際に、バンプ間への噛み込みが起こりにくく良好な導通を確保できる非晶質シリカ粒子を提供する。
【解決手段】本発明の非晶質シリカ粒子は、アンダーフィル材に用いる非晶質シリカ粒子であって、圧縮試験において粒子の直径が10%変位したときの荷重値(10%荷重値)と平均粒子径とが下記式(I)
10%荷重値(mN)/平均粒子径(μm)>1.20 (I)
を満足することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】硬化性樹脂に添加して半導体用封止材とした際に、ボイドの発生や経時的な増粘を抑制することができる非晶質シリカ粒子を提供する。
【解決手段】本発明の非晶質シリカ粒子は、半導体用封止材に用いる非晶質シリカ粒子であって、固体NMRスペクトルにおいて、縮合性基が結合していないケイ素原子のピーク面積をA、縮合性基が2個結合したケイ素原子のピーク面積をBとしたときに、(B/A)×100で示される両者の比率(%)が1.0%未満であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】硬化性樹脂に添加して半導体用封止材とした際に、耐久性の高い硬化物を形成することができ、しかも硬化性樹脂に対して優れた分散性を有し良好な流動性を確保して高密度実装などのアンダーフィル実装にも好適に使用することができる非晶質シリカ粒子を提供する。
【解決手段】本発明の非晶質シリカ粒子は、半導体用封止材に用いる非晶質シリカ粒子であって、フーリエ変換赤外線吸収スペクトル(FT−IR)において、3400〜3500cm-1にピークトップを有するシラノール基のOH結合のピークの最大吸光度(I(adOH))とシロキサン結合のピークの最大吸光度(I(SiO))との比(I(adOH)/I(SiO))が0.0010以上0.0025未満であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】強固に凝集せずに流動性に優れる疎水化無機酸化物粒子を簡易に製造する方法を提供すること。
【解決手段】上記方法は、下記の工程(1)乃至(6)を以下に記載の順で行うことを特徴とする;(1)塩基性触媒の存在下におけるゾルゲル反応を行い、無機酸化物粒子の分散液を得る反応工程、(2)前記反応工程によって得られた無機酸化物粒子の分散液に、特定の表面処理剤を添加して、前記無機酸化物粒子に対して第1の表面処理を行う工程、(3)前記第1の表面処理後の無機酸化物粒子の分散液に、特定の化合物からなる凝析剤を添加する工程、(4)ろ過によって前記第1の表面処理後の無機酸化物粒子を回収する工程、(5)回収した第1の表面処理後の無機酸化物粒子を乾燥する工程、並びに(6)乾燥後の第1の表面処理後の無機酸化物粒子に、特定の表面処理剤を添加して、前記第1の表面処理後の無機酸化物粒子に対して第2の表面処理を行う工程。 (もっと読む)


【課題】本発明は、焼成工程を必要としないシリカナノチューブの製造方法を提供すること、更には、様々な大きさのシリカナノチューブを選択的に製造する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】その目的を達成するために、本発明は、ノニオン界面活性剤及び自己反応性を有するシリカ前駆体化合物によりミエリン像を形成し、該シリカ前駆体化合物を反応させた後、溶媒洗浄にて該ノニオン界面活性剤を除去する精製工程を行うことを特徴とするシリカナノチューブの製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】高比表面積を有するシリカ含有含水酸化チタンの製造方法を提供する。
【解決手段】微粒子シリカとシリカゾルから選ばれる少なくとも1種のシリカ材料の存在下に、このシリカ材料に対してハロゲン化チタンを酸化チタン換算にてTiO2/SiO2 重量比で90/10〜50/50の範囲にて含むハロゲン化チタン水溶液を60〜95℃の範囲の温度に加熱し、上記ハロゲン化チタン水溶液のpHが1.0以下にあるように上記ハロゲン化チタン水溶液にアルカリ性物質を加えながら、上記ハロゲン化チタンを熱加水分解すると共に、上記ハロゲン化チタンの熱加水分解によって生成するハロゲン化水素を上記アルカリ性物質で中和して、沈殿物を生成させ、この後、得られた反応混合物に更に上記アルカリ性物質を加えて、その反応混合物のpHを3〜7の範囲とし、次いで、上記沈殿物を濾過し、水洗し、乾燥することによって、高比表面積のシリカ含有含水酸化チタンを得る。これを焼成すれば、高比表面積のアナターゼ型酸化チタンを得る。 (もっと読む)


【課題】 ゾルゲル法による3段階の階層的多孔構造を有するモノリス多孔体の製造方法を提供する。
【解決手段】 前駆体ゾルを調製するゾル調製工程と、有機ポリマー繊維を3次元的な広がりを有する塊状に構成してなるテンプレートを収容したゲル化容器内において、前記前駆体ゾルに対して、ゾルゲル転移と相分離を並行して発現させ、前記有機ポリマー繊維の周囲の空間に、ヒドロゲル相と溶媒相の共連続構造体からなるゲルを形成するゲル化工程と、前記ゲルから前記溶媒相と前記有機ポリマー繊維を個別或いは同時に除去する除去工程とを有し、前記有機ポリマー繊維が、長手方向への伸長が拘束された状態で前記長手方向に垂直な断面が収縮可能な構造を有し、前記有機ポリマー繊維を除去した後の空隙にテンプレート孔を、前記溶媒相を除去した後の空隙に貫通孔を、前記ヒドロゲル相の骨格体に細孔を、夫々形成する。 (もっと読む)


【課題】研磨速度が高く、精密研磨に適した研磨用シリカゾル、研磨用組成物及び研磨用シリカゾルの製造方法を提供する。
【解決手段】シリカゾルは動的光散乱法により測定される平均粒子径が5〜300nmの範囲にある非球状シリカ微粒子を分散媒に分散してなり、固形分濃度が10〜60重量%であって、29Si−NMRスペクトル測定時のケミカルシフト−73〜−120ppmのピーク面積におけるQ4の面積が88%以上、Q3の面積が11%以下である。但し、前記ケミカルシフトは、テトラメチルシランを基準物質とし、Q4は−100〜−120ppmの範囲のピークであり、Q3は−82〜−100ppmの範囲のピークである。 (もっと読む)


【課題】 球状でなく異形のシリカ微粒子であり、特に高分散性、低凝集性を有する異形シリカ微粒子であって、トナーへの付着性、及びトナーへの流動性の付与効果が良好な異形シリカ微粒子、及び該異形シリカ微粒子からなる静電荷像現像用トナー外添剤を提供することを目的とする。
【解決手段】 各工程の反応温度を40℃〜100℃の範囲内とし、一般式(1):Si(OR(1)で示される4官能性シラン化合物又はその部分加水分解縮合生成物を、塩基性物質の存在下で親水性有機溶媒と水との混合媒体中で加水分解、縮合して、親水性シリカ微粒子の核粒子を生成する工程と、異形化促進触媒を系内に添加する工程と、引き続き、前記一般式(1)で示される4官能性シラン化合物又はその部分加水分解縮合生成物を系内に添加することで異形シリカ微粒子を生成する工程とを有することを特徴とする異形シリカ微粒子の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 透明性、断熱性に優れ、採光断熱材として使用する場合に優れた性能を発揮するエアロゲルを提供する。
【解決手段】 BET法による比表面積が400〜700m/g、BJH法による細孔容積が4〜8ml/g、BJH法による細孔直径のピークが10〜30nm、ふるい分け法による粒径が4mmを超える粒子を含まず、同0.5mm未満の粒子が5重量%であり以下(特に好ましくは実質的に含まず)、かつD65光源での全光線透過率が60%以上であることを特徴とするエアロゲル。 (もっと読む)


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