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Fターム[4G072KK01]の内容

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Fターム[4G072KK01]に分類される特許

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【課題】高容量であるシリコン系の負極のリチウム挿入/離脱うシリコン粒子の膨張/収縮によるシリコン粒子の破壊や集電体からの脱離を防ぐ負極に適した負極及びその製造方法を提供する。
【解決手段】シリコンを含み、粒子コア及びそれらから伸長したシリコン含有ピラーのアレイを有する粒子をその活物質の一つとして含む電極であって、該粒子はシリコン又はシリコンゲルマニウム混合物である。またピラーを有する粒子はエッチングによって作成される。 (もっと読む)


【課題】製紙用の填料や顔料とするに適したシリカ複合粒子を連続的に製造することができるシリカ複合粒子の製造方法とする。
【解決手段】無機粒子S、珪酸アルカリ水溶液K及び鉱酸R1,R2からシリカ複合粒子を製造するにあたり、無機粒子S及び珪酸アルカリKを第1の槽70Aに供給し、この槽70A内のスラリーHAが、第2の槽70Bへ、第3の槽70Cへ、第4の槽70Dへと順に流れるものとしつつ、第3の槽70C内のスラリーHCに鉱酸R2を添加するほか、第1の槽70A内のスラリーHAにも鉱酸R1を先行添加して、シリカ複合粒子を連続的に製造する。 (もっと読む)


【課題】各樹脂への分散性に優れ、成形物の諸物性を低下させずに難燃性を付与でき、更に耐水性を向上できる表面処理無機粉体を提供する。
【解決手段】無機粉体を、Xm(R2nSi(OR1(4-m-n)
(X、R1、R2は1価炭化水素基、mは1又は2、nは0又は1、m+nは1又は2)
の化合物或いはその部分加水分解縮合物、又はこれと、
(OR13-q(R2qSi−Y−Si(R2p(OR13-p
(Yは2価有機基又は−(R4−Si(R32s−(OSi(R32r−R5t−、R3は1価炭化水素基、R4は2価炭化水素基、R5はO又は2価炭化水素基、rは1〜40、s,tは0又は1、p,qは0〜3、p+qは0〜4)
の化合物或いはその部分加水分解縮合物を含む原料を、生成するポリシロキサンと分離状態となる液状加水分解縮合触媒を用いて得たオルガノポリシロキサンで表面処理してなる表面処理無機粉体。 (もっと読む)



【課題】望ましい研磨及び清掃性だけでなく優れた増粘性を示す歯磨剤内への配合が容易なシリカ系歯科用研磨剤を提供する。
【解決手段】現場製造されたゲル/沈降シリカの複合材料であって、該複合材料は20〜85体積%のシリカゲルを含み、ここで該複合材料は150ml/100gより大きいアマニ油吸収を示し、そして該複合材料は約1.0〜5.0mg損失/100,000回転の範囲の10%Brass Einlehner硬度を示す複合材料。 (もっと読む)


【課題】含水湿潤ゲルを乾燥させる過程で、ゲルに手を加えず、かつ有機溶媒や気体など亀裂の発生を抑制するための試薬を使用することなく、ゲルの亀裂の発生を簡単、安価に抑制する方法を提供する。
【解決手段】含水湿潤ゲルを乾燥する際に、まず含水湿潤ゲルから水を除去して含水湿潤ゲルの水含有量を減少させ、次いで、残りの溶媒を除去することにより湿潤ゲルを乾燥する。例えば、湿潤ゲル3と溶媒を含有する含水湿潤ゲルが収容された湿潤ゲル容器1を加熱する。これにより、溶媒3は湿潤ゲル容器1の上部空間8に蒸気となって蒸発する。この溶媒含有気体は、湿潤ゲル容器に嵌合された脱水剤容器2内に孔7を通して拡散し、脱水剤により水が除去される。この状態を1〜2日保持することにより、溶媒3中の水はほぼ除去される。その後脱水剤容器2を取り外し、水の除去された湿潤ゲルを加熱することにより溶媒をほぼ完全に除去した後、さらに高温で加熱して溶媒を完全除去すれば、亀裂の無い乾燥ゲルが得られる。 (もっと読む)


本発明は、金属酸化物及び混合された金属酸化物粒子を製造する方法に関する。本発明の方法は、非常に高い金属酸化物収率で、水相中において、金属アルコキシド等の金属源、界面活性剤、及び第1アルコールから形成される混合物を処理することを含む。前記混合物を触媒を用いて反応させ、該混合物において所望の粒子サイズを有する金属酸化物粒子を形成させる。本発明の方法は、特に、シリカ粒子の形成に好適である。その後、前記金属酸化物粒子を熱処理して、例えば、合成溶融シリカ等の合成溶融金属酸化物を形成させることができる。
【選択図面】
図1
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【課題】ハンドリングが容易な洗浄液を用いて、少ないシリコンのロスでアルミニウムを効果的に低減できる精製方法により精製されたシリコンの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の精製されたシリコンの製造方法は、アルミニウムを含むシリコン塊を粉砕してシリコン粒子を得る粉砕工程(S10)、及び当該シリコン粒子を塩酸中に浸漬して酸洗浄する洗浄工程(S30)、をこの順に備える。 (もっと読む)


【課題】基板と素子分離層との剥離やクラックが発生し難く、凹状の溝を有する基板上に平坦な素子分離層を形成することができる素子分離材料用塗布液の作製方法等を提供する。
【解決手段】半導体装置のシャロートレンチアイソレーション構造の素子分離層の形成に用いられる素子分離材料用塗布液の作製方法は、混合液作製工程と絶縁膜形成前駆体作製工程と塗布液作製工程とを備えている。混合液作製工程では、炭素数2〜6個のアルコキシル基を有するアルコキシシラン化合物と第1の溶媒との混合液を作製する。絶縁膜形成前駆体作製工程では、この混合液に加水分解触媒及び水を添加し、加水分解、縮合して絶縁膜形成前駆体を作製する。水の添加量は、アルコキシシラン化合物中の全アルコキシル基1モルに対して0.3〜0.8倍モルの範囲とする。塗布液作製工程では、作製された絶縁膜形成前駆体に第2の溶媒を加え、素子分離材料用塗布液を作製する。 (もっと読む)


【課題】基材のサイズに依らず連続コーティングが可能な生産性に優れ、かつ屈折率が低く、耐久性にも優れた良好な光学機能層となるシリカ系多孔質体の製造方法を提供すること。
【解決手段】シリカ系多孔質体の製造方法において、2種以上のアルコキシシラン類からなる加水分解基含有シラン、その加水分解物及び部分縮合物、及び水、アルコール類、有機高分子とを含むシリカ系組成物をJIS B7513に準拠した方法で測定される平面
度が20μm以下である基材上に塗布した後、100℃以上で加熱することを特徴とする
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【課題】空気の平均自由行程よりも小さな細孔を有し、嵩密度の低いシリカキセロゲルを簡単な製造工程で製造可能なシリカキセロゲル及びその製造方法を提供する。
【解決手段】テトラアルコキシシランとモノアルキルトリアルコキシシランとを、モル比で、テトラアルコキシシラン:モノアルキルトリアルコキシシラン=0.05〜0.35:0.65〜0.95の割合で含むゲル原料と、該ゲル原料中のシラン化合物全量1モルに対し、アルコール類を4〜8モル、水を3〜6モル含む溶媒とを混合し、ゲル原料中のシラン化合物を加水分解してゾルを生成させ、得られたゾルをゲル化し、養生して得られた湿潤ゲルを常圧あるいは減圧下で乾燥して、嵩密度が90〜200kg/m、平均空孔径が20〜65nmのシリカキセロゲルを得る。 (もっと読む)


【課題】低燃費性と耐摩耗性に優れたゴム組成物を提供する。
【解決手段】一般式(1)で表される硫黄含有シランカップリング剤と水とアルコールと酸性化合物を混合して処理液を調製し、予め乾燥させたシリカに前記処理液を付与して表面処理を行う表面処理シリカの製造方法である。該表面処理シリカをジエン系ゴムに添加し混合してゴム組成物を調製する。
(R(RSi−A …(1)
(Rは炭素数1〜3のアルコキシ基、Rは炭素数1〜40のアルキル基、アルケニル基又はアルキルポリエーテル基、Aは硫黄原子を含む官能基、m=1〜3、m+n=3) (もっと読む)


【課題】四塩化珪素を加水分解し合成シリカ粉を製造する方法において、生産性がよく、粒度の大きいシリカ粉を製造することができる合成シリカ粉の製造方法を提供する。
【解決手段】無極性の有機溶媒に混合した四塩化珪素と飽和塩酸との反応によってスラリー状の合成シリカを生成させ、この合成シリカスラリーを洗浄し、濾過してケーキ状になったスラリーを解砕し、これを押し固めて造粒した後に解砕し、乾燥して焼成することを特徴とする合成シリカ粉の製造方法であり、好ましくは、水酸化アンモニウム1〜5%、および過酸化水素1〜5%を含有する純水を用いてスラリー状の合成シリカを洗浄した後に加圧する合成シリカ粉の製造方法。 (もっと読む)


【課題】四塩化珪素を加水分解して合成シリカ粉を製造する方法において、生産性がよく、粒度の大きいシリカ粉を製造することができる合成シリカ粉の製造方法を提供する。
【解決手段】四塩化珪素を飽和塩酸によって加水分解してスラリー状の合成シリカを生成させ、この合成シリカスラリーを洗浄し、濾過してケーキ状になったスラリーを解砕し、これを押し固めて造粒した後に解砕し、乾燥して合成シリカ粉を製造する方法であって、極性非プロトン性の有機溶媒を混合した飽和塩酸に四塩化珪素を少量づつ添加して加水分解することを特徴とする合成シリカ粉の製造方法であり、好ましくは、水酸化アンモニウム1〜5%、および過酸化水素1〜5%を含有する純水を用いてスラリー状の合成シリカを洗浄した後に加圧する合成シリカ粉の製造方法。 (もっと読む)


【課題】多孔質膜で被覆された基板であって、該多孔質膜の表面に無孔質薄膜が形成されており、且つ、該多孔質膜に、基板から無孔質薄膜に向かう貫通孔が形成された積層基板を提供する。
【解決手段】本発明の積層基板は、多孔質膜で被覆された基板であり、前記多孔質膜の表面に無孔質薄膜が形成されており、基板から無孔質薄膜に向かう複数の互いに並行する貫通孔が前記多孔質膜に形成されている。 (もっと読む)


本発明は、沈降シリカの製造方法であって、(i)2〜5のpHを有する水性原料を形成させ、(ii)反応媒体のpHを2〜5に維持するように、珪酸塩と酸とを同時に添加し、(iii)珪酸塩をpH値が7〜10になるまで添加し、(iv)pHを7〜10に維持するように、珪酸塩と酸とを同時に添加し、(v)酸をpHが2.5〜5.3となるまで添加し、(vi)該反応媒体と該酸及び該珪酸塩とを、pHを2.5〜5.3に維持するように接触させ、(vii)pHを4.7〜6.3にまで上昇させるように珪酸塩を添加することからなる。 (もっと読む)


【課題】微塗工紙の印刷不透明度の向上の観点から填料としての改良が要請されている。そこで、本発明の主たる課題は、高い吸油量を示し、紙の不透明度を向上できるシリカ複合再生粒子、シリカ複合再生粒子の製造方法およびシリカ複合再生粒子を内添した微塗工紙を提供することにある。
【解決手段】製紙スラッジを主原料とし、これを脱水、乾燥、燃焼および粉砕工程を経て得られた再生粒子を原料とし、シリカ複合工程を経て得られるシリカ複合再生粒子であって、得られたシリカ複合再生粒子の細孔容積が、0.3〜1.2cc/g(細孔半径が10,000Å以下)とする。 (もっと読む)


本発明は、金属溶媒を使用して物質を精製する方法に関する。本発明は、カスケードプロセスを利用してシリコンを精製する方法を含む。カスケードプロセスでは、シリコンが精製プロセスを進行するにつれて、反対方向にプロセスを進行して徐々に純粋になる溶媒金属と接触する。

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【課題】トリクロロシランを製造するための方法および設備を提供する。
【解決手段】流動床反応器(101)中でシリコン粒子が四塩化ケイ素および水素および任意に塩化水素と反応されてトリクロロシラン含有生成物ガス流を形成し、トリクロロシラン含有生成物ガス流が出口(117)とその前にある特定の最大粒径以下のシリコン粒子のみが選択的通過することができる少なくとも1つの粒子分離機(118)備えている流動床反応器(101)からら排出され、そしてシリコン粒子が粒子分離機なしに、少なくとも1つのさらなる出口(109、112)を通って一定の間隔で又は連続的に反応器(101)から排出されることを特徴とする、前記方法、およびそのような方法を実施するのに適した第1の反応器(101)から排出されたシリコンが第2の反応器(102)に移され得るように接続されている第1の反応器(101)および第2の反応器(102)を有する、設備。 (もっと読む)


a)50〜75質量部の水において、b)30〜500m/gのBET表面積を有する25〜50質量部のシリカ粒子と、c)b)の質量部の1種以上のアミノ官能性有機珪素化合物からの100〜300ug/mのBET表面積のシリカ粒子と、を反応させることによって得られる分散液であって、前記アミノ官能性有機珪素化合物は第4級アミノ官能性有機珪素化合物であり、該化合物は成分Aとして少なくとも1種のハロアルキル官能性シランと成分Bとして第3級アミンとを規定された量の水の存在下で反応させて且つ得られた加水分解アルコールを少なくとも部分的にこの系から除去することによって得られる、前記分散液。 (もっと読む)


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