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Fターム[4G072KK01]の内容

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Fターム[4G072KK01]に分類される特許

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【課題】 シリカゲルの用途の拡大を図るために、ケイ酸アルカリ溶液からシリカゲルを筒状又は板状に析出させることのできるシリカゲルの製法を提供することにある。
【解決手段】 ケイ酸アルカリ溶液のpH値を硫酸で11.0以上12.0以下に調整し、調整後のケイ酸アルカリ溶液を電気分解して陽極線の表面にシリカゲルを円筒状に析出させる。 (もっと読む)


【課題】例えばEtOHのように分子サイズの小さな液体からも、水分を良好に選択除去できる水分除去方法を提供する。
【解決手段】Heガス透過流量FHeとSFガス透過流量FSF6との比:FHe/FSF6が100〜10000であるとともに、SFガス透過流量FSF6が1×10−11 〜1×10−8 mol/(m・Pa・sec)である無機材質膜10を使用する。この方法は、特に液体がエタノール、イソプロピルアルコールなどの分子サイズが0.36nm以上のものである場合に効果的である。 (もっと読む)


【課題】含水湿潤ゲルを乾燥させる過程で、ゲルに手を加えず、かつ有機溶媒や気体など亀裂の発生を抑制するための試薬を使用することなく、ゲルの亀裂の発生を簡単、安価に抑制する方法を提供する。
【解決手段】含水湿潤ゲルを乾燥する際に、まず含水湿潤ゲルから水を除去して含水湿潤ゲルの水含有量を減少させ、次いで、残りの溶媒を除去することにより湿潤ゲルを乾燥する。例えば、湿潤ゲル3と溶媒を含有する含水湿潤ゲルが収容された湿潤ゲル容器1を加熱する。これにより、溶媒3は湿潤ゲル容器1の上部空間8に蒸気となって蒸発する。この溶媒含有気体は、湿潤ゲル容器に嵌合された脱水剤容器2内に孔7を通して拡散し、脱水剤により水が除去される。この状態を1〜2日保持することにより、溶媒3中の水はほぼ除去される。その後脱水剤容器2を取り外し、水の除去された湿潤ゲルを加熱することにより溶媒をほぼ完全に除去した後、さらに高温で加熱して溶媒を完全除去すれば、亀裂の無い乾燥ゲルが得られる。 (もっと読む)


【課題】優れた研磨性能を発揮し、かつ、長時間の研磨に供しても、研磨レートの低下が最小限に抑制された研磨用組成物を提供する。
【解決手段】水系分散媒に、真球度が0.9以上、1.0以下の範囲にある球状シリカ粒子と真球度が0.3以上、0.9未満の範囲にある非球状シリカ粒子とが分散してなり、非球状粒子に対する球状粒子の重量比が2/98〜35/65の範囲にある研磨用組成物である。球状粒子の平均粒子径が20〜150nmの範囲にあり、非球状粒子の平均粒子径が5〜100nmの範囲にある。 (もっと読む)


【課題】粒子成長に必要な塩以外の金属成分を含まず、低粘度で安価であり、且つバインダー力や塗料等の補強効果に優れるシリカゾルを提供することにある。
【解決手段】分鎖状シリカ粒子が分散媒に分散してなるシリカゾルにおいて、
上記分鎖状シリカ粒子は、微粒子が、他の材質からなる接合部を介することなく、微粒子同士が直接結合し一定方向に伸長した主鎖部と、該主鎖部の途中から枝分かれした、少なくとも一箇所の枝分かれ部を有するシリカゾル。 (もっと読む)


本発明は、重金属を含む廃棄物の処理のためのゾルゲル法に関し、この方法は、安定な物品中にこのようなイオンを固定して、前記金属の自然放出を起こさないようにすることを可能とする。 (もっと読む)


本発明は、シリカート溶液からの高純度SiO2の新規の製造方法、特殊な汚染物質スペクトルを有する新規の高純度SiO2並びにその使用に関する。 (もっと読む)


本発明は、シリカート溶液からの高純度SiO2の新規の製造方法、特殊な汚染物質プロファイルを有する新規の高純度SiO2並びにその使用に関する。
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【課題】基材の形状やサイズに依らず製膜が可能なスプレーコート法を用い、かつ屈折率が低く、耐久性にも優れたシリカ系多孔質膜の製造方法を提供する。
【解決手段】シリカ系多孔質膜の製造方法において、アルコキシシラン類、その加水分解物及び部分縮合物からなるアルコキシシラン類群より選ばれる一種と、界面活性剤と、2種以上の有機溶媒と、水とを含むシリカ系組成物を霧状に噴出することにより、透光基材上にシリカ系前駆体を製膜する製膜工程、該シリカ系前駆体を粗乾燥する粗乾燥工程、及び該シリカ系前駆体を150℃以上の温度で加熱することでシリカ系多孔質膜とする加熱工程を含むものとする。 (もっと読む)


【課題】屈折率が低く、湿度変化に対して安定なシリカ膜が形成可能な組成物および該組成物から作製される反射防止膜基板を提供する。
【解決手段】ケイ素化合物を含有する組成物であって、該組成物を基板に塗布し、400℃以上、450℃以下で、1分以上、1時間以下焼成して得られた膜の屈折率が1.25以下とし、かつ該組成物を400℃以上、450℃以下で、1分以上、5時間以下焼成して得られた粉末の、25℃での相対水蒸気圧0.3<P/P<0.9における水蒸気吸着量差Δが0.03g/g以下とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、大きさが揃った薄片状物質を提供しやすい製法を提供することを課題とする。
【解決手段】薄片状金属酸化物の製法において、塗布液を微滴化する工程、微滴化された塗布液を基材に吹き付けて基材上に塗布液を塗着させる工程、塗着された塗布液を乾燥させて薄片状物質の前駆体を形成する工程、及び該前駆体を基材から剥離させる工程を有するものとし、微滴化される塗布液は、塗布液中に8〜40重量%の固形分と残部の溶媒とを有し、該溶媒は沸点が130℃以上の有機溶媒と酸性水溶液とを含有し、前記固形分は金属酸化物オリゴマーを有し、該金属酸化物オリゴマーはポリスチレン換算の重量平均分子量で500〜50000とすること。 (もっと読む)


【課題】酵素−シリカ系ナノ空孔材料複合体担持マイクロリアクター及びその製造方法を提供する
【解決手段】酵素が、シリカ系ナノ空孔材料の細孔内に安定に固定されている酵素−シリカ系ナノ空孔材料複合体を担持したマイクロリアクターであって、酵素−反応基質間で相互作用を示すように、前記の酵素−シリカ系ナノ空孔材料複合体が、マイクロリアクターの流路内に担持された状態にあり、前記シリカ系ナノ空孔材料が、1)ケイ素原子と酸素原子を必須成分として含む化合物の多孔体であり、2)細孔のサイズが、直径で2〜50nmであり、3)全細孔容積が0.1〜1.5mL/gであり、4)比表面積が200〜1500mである、ことからなる酵素−シリカ系ナノ空孔材料複合体担持マイクロリアクター、及びその製造方法。
【効果】様々な化学プロセスへの応用が可能な酵素反応場を有するシリカ系ナノ空孔材料担持マイクロリアクターを提供できる。 (もっと読む)


【課題】凝集しにくい平均粒子径を有するBi12XO20粉末を製造ロット間および同一製造ロット内の組成ばらつきを抑制して製造する。
【解決手段】Bi12XO20粉末(但し、XはSi、Ge、Tiからなる群より選ばれる少なくとも1種を含む元素である)を、Bi元素を有する溶液とX元素を有する溶液とを用意する工程(A)と、反応容器21にあらかじめ供給された母液に対して両溶液を添加して混合液を調製する工程(B)と、混合液の温度を、添加開始時の温度より上昇させる工程(C)とを有し、工程(B)において、混合液中のBi元素とX元素の双方の物質量が、添加開始時から並行して増加するように両溶液を添加することにより製造する。 (もっと読む)


【課題】水素結合性ポリマーとシリカからなる有機無機ハイブリッド材料及びその製造方法に関する。さらに詳しくは、沈降シリカと同様の外観と嵩高さを有する新規な有機無機ハイブリッド材料、及びその製造方法に関するものである。
【解決手段】本発明は、シリカと水素結合性ポリマーからなる有機無機ハイブリッド材料であって、水銀ポロシメーターによる細孔径3nm〜10μmの範囲の細孔容積が0.6ml/g以上であることを特徴とする有機無機ハイブリッド材料、及び、アルカリ金属珪酸塩と酸性化剤を、水及び水素結合性ポリマーの存在下で、pHを4〜9に維持しながら反応させ、反応物を沈降させることを特徴とする有機無機ハイブリッド材料の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】成膜チャンバー及びその部材や排気系や配管等を腐食することなく、低誘電率、低屈折率、及び高機械的強度を有し、疎水性の改良された多孔質膜を作製する方法、多孔質膜、並びに多孔質膜の前駆体組成物の溶液を提供すること。
【解決手段】式:Si(OR)及びR(Si)(OR)4−a(式中、Rは1価の有機基を表し、Rは水素原子、フッ素原子又は1価の有機基を表し、Rは1価の有機基を表し、aは1〜3の整数であり、R、R及びRは同一であっても異なっていてもよい)で示される化合物から選ばれた化合物と、熱分解性有機化合物とを含む多孔質膜の前駆体組成物の溶液であって、pHが5〜9である溶液を基板上に塗布し、所定の温度範囲で焼成させ、得られた多孔質膜に対する紫外線照射後、ヘキサメチルジシラザン、ビス(トリメチルシリル)アセトアミド、トリメチルシリルイミダゾール及びトリメチルアミンジメチルアミンから選ばれた疎水性化合物を所定の温度で気相反応させ、疎水化された多孔質膜を作製する。 (もっと読む)


本発明は、水系プロセスによる15nmより小さい結晶サイズを有するルチル型の微結晶二酸化チタンの製造方法、及び該方法により得られるケイ素をドープされた二酸化チタン生成物に関する。上記二酸化チタン生成物の製造方法の少なくとも一工程で、ケイ素含有化合物を用いて小結晶サイズを有する上記二酸化チタン生成物を提供する。 (もっと読む)


【課題】任意の水で希釈が可能な水溶性ケイ素化合物の製造方法を提供することであり、本製造方法で得られる水溶性ケイ素化合物を使用し、多孔質の酸化ケイ素の粉体や酸化ケイ素を含むガラス体を得ることが可能な水溶性ケイ素化合物を提供すること。
【解決手段】
下記式(1)で表されるケイ素化合物又は下記式(1)で表されるケイ素化合物の縮合物と、分子内に少なくとも1以上の水酸基及び/又はアミノ基を有する水溶性化合物とを接触させた後に、酸性物質を接触させることを特徴とする水溶性ケイ素化合物の製造方法。


[式(1)中、RないしRは、互いに同一でも異なってもよい、水素原子、ヒドロキシ基、置換基を有してもよいアルコキシ基、置換基を有してもよいアルキル基又は置換基を有してもよいアリール基を示し、RないしRの少なくとも1つの基は、中心のSi原子とSi−O結合をする酸素原子を有する基である。] (もっと読む)


超疎水性コーティング、超疎水性コーティングを含むデバイスおよび物品、ならびに超疎水性コーティングを調製する方法が提供される。例示的な超疎水性デバイスは、基材構成部分と、この基材構成部分を覆って配置された1層または複数の超疎水性コーティングであり、これらの1層または複数の超疎水性コーティングの少なくとも1層が、少なくとも約150°の水接触角および約1°未満の接触角ヒステリシスを有する超疎水性コーティングとを含むことができる。これらの1層または複数の超疎水性コーティングは、超高水分含量酸触媒作用によるポリシリケートゲルを含むことができ、このポリシリケートゲルは、シリル化剤により誘導体化された表面官能基を有するシリカ粒子の三次元網目、および多数の孔を含む。
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【課題】ワークに切削加工を施す際に生じるスラッジに含まれるワークの微粒子状切粉を高純度で回収することが可能である微粒子状切粉の回収方法及び回収装置を提供する。
【解決手段】シリコンインゴットを切断加工して生じるシリコン微粒子状切粉を含むスラッジに、水,エタノール及び塩酸を加えてpH3〜7の懸濁液Lを生成して収容する洗浄槽2と、洗浄槽2内の懸濁液Lを送給する循環ポンプ3と、循環ポンプ3により送給された懸濁液Lを収容する水槽4と、水槽4内の懸濁液Lに超音波を照射してその表面から微細な液滴Dを生じさせる超音波振動子5と、水槽4内に不活性ガスを導入して浮遊する微細な液滴Dを不活性ガスに載せて水槽4外に送り出すコンプレッサ6と、不活性ガスとともに送給された微細な液滴Dからシリコン微粒子状切粉を回収する微粒子回収部7を備えている。 (もっと読む)


【課題】珪酸は、しばしば極性化合物、例えば塩化コリン、プロピオン酸または蟻酸のための担持材料として使用されるので、極性化合物に関連して特に良好な吸収挙動を有する珪酸を提供する。
【解決手段】少なくとも15〜60の一定のアルカリ数の維持下に珪酸塩水溶液を酸により沈殿させることによって得ることができる沈降珪酸または珪酸塩。 (もっと読む)


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