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Fターム[4G072KK09]の内容

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Fターム[4G072KK09]に分類される特許

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【課題】(1)絶縁性があり、(2)耐熱性があり、(3)金属などの基材に塗布および熱処理して用いることができ、(4)基材との熱膨張係数差が大きくても剥離および破壊しない膜状の材料を得ること。
【解決手段】Al、Mg、Si、Ti、Zr、Beのいずれかからなる金属アルコキシドが加水分解および脱水重合されて形成される無機物質中にフィラーを分散した材料で、フィラーの粒子は結晶面の一つが完全なへき開面を有する無機物を含んだものとし、さらにフィラーの粒子のへき開面は膜の面方向に対して並行に略整列とすることにより解決した。 (もっと読む)


【課題】転化炉の転化反応ガスからホウ素化合物等の不純物を効果的に除去して高純度のトリクロロシランを製造する。
【解決手段】転化炉2内の反応により得られたトリクロロシランを含む転化反応ガスを蒸留してテトラクロロシランを分離した後、該テトラクロロシランを分離した後の混合流体をポリマーに接触させて反応させ、その反応により生じたホウ素化合物を含む反応流体を蒸留することにより、トリクロロシランを分離精製する。 (もっと読む)


【課題】水等の液体と接触しても崩壊しにくく、且つ十分な断熱性能を示す成形体、上記成形体が外被材に収容された被包体、上記成形体の製造方法並びに上記成型体及び/又は被包体を使用した断熱方法を提供する。
【解決手段】シリカを含み、細孔を有しており、細孔径が0.003μm以上150μm以下である細孔の積算細孔容積V0.003に対する、細孔径が0.05μm以上0.5μm以下である細孔の積算細孔容積Vの割合Rが70%以上であり、細孔径が0.05μm以上150μm以下である細孔の積算細孔容積V0.05が0.5mL/g以上2mL/g以下であり、30℃における熱伝導率が0.05W/m・K以下である、成形体。 (もっと読む)


【課題】成形時の飛散や成形欠陥の発生を抑制することができる粉体を提供すること。
【解決手段】シリカとナトリウムとを含む粉体であって、ナトリウムの含有率が0.005質量%以上3質量%以下であり、BET比表面積が10m/g以上400m/g以下であり、圧縮度が31%以下であり、かつ、30℃における熱伝導率が0.05W/m・K以下である、粉体。 (もっと読む)


【課題】強固に凝集せずに流動性に優れる疎水化無機酸化物粒子を簡易に製造する方法を提供すること。
【解決手段】上記方法は、下記の工程(1)乃至(6)を以下に記載の順で行うことを特徴とする;(1)塩基性触媒の存在下におけるゾルゲル反応を行い、無機酸化物粒子の分散液を得る反応工程、(2)前記反応工程によって得られた無機酸化物粒子の分散液に、特定の表面処理剤を添加して、前記無機酸化物粒子に対して第1の表面処理を行う工程、(3)前記第1の表面処理後の無機酸化物粒子の分散液に、特定の化合物からなる凝析剤を添加する工程、(4)ろ過によって前記第1の表面処理後の無機酸化物粒子を回収する工程、(5)回収した第1の表面処理後の無機酸化物粒子を乾燥する工程、並びに(6)乾燥後の第1の表面処理後の無機酸化物粒子に、特定の表面処理剤を添加して、前記第1の表面処理後の無機酸化物粒子に対して第2の表面処理を行う工程。 (もっと読む)


【課題】高純度のシリカを、簡易にかつ低コストで製造しうる方法を提供する。
【解決手段】(B)液分中のSi濃度が10.0質量%以上のケイ酸アルカリ水溶液と10.0体積%以上の濃度の鉱酸を混合して、液分中のSiを非ゲル状の沈降性シリカとして析出させた後、固液分離を行い、SiOを含む固形分と、不純物を含む液分を得るシリカ回収工程、を含み、前記工程(B)において、ケイ酸アルカリ水溶液、及び鉱酸の少なくともいずれか一方と過酸化水素を混合することを特徴とする高純度シリカの製造方法。 (もっと読む)


【課題】回収シリコンくず、特に酸化珪素及び炭化珪素を含む回収シリコンくずからシリコンを効率的に再生して回収するシリコン回収方法を提供することを目的とする。また、回収シリコンくずをそのまま利用可能なフェロシリコンに再生させるシリコン回収方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明に係るシリコン回収方法は、溶融スラグの基に、酸化珪素、または、酸化珪素及び炭化珪素を含む回収シリコンくずをアーク放電により再溶解し、シリコンに再生させるシリコン回収方法であって、前記溶融スラグの温度が1750℃以上で再溶解を行うことにより実施される。 (もっと読む)


【課題】 化学式が(HGe)4−xSiHであって、x=0、1、2または3である珪素−ゲルマニウム水素化合物を合成するための方法を提供する。
【解決手段】 該方法は、珪素−ゲルマニウム水素化合物が形成される条件下で、シラン・トリフレートとGeH配位子を有する化合物とを化合させるステップを含む。該GeH配位子を有する化合物は、KGeH、NaGeHおよびMRGeHであってMが第IV族元素でありRが有機配位子である物質からなる群から選択される。該シラン・トリフレートは、HSi(OSOCF4−xまたはHSi(OSO4−xであることができる。該方法は、水素化珪素が形成される条件下でシラン・トリフレートとSiH配位子を含む化合物とを化合させることにより、トリシラン(HSi)SiHおよびイソ−テトラシラン類似物(HSi)SiHを合成するために使用することができる。該シラン・トリフレートは、HSi(OSOCF4−xまたはHSi(OSO4−xであってx =1または2である物質を含むことができる。(HGe)2 SiHを合成するための方法は、(HGe)2 SiHが形成される条件下でHGeSiH(OSOCF)とKGeHとを化合させるステップを含む。 (もっと読む)


アルミニウム含有シリコンの精製方法が提供され、アルミニウム含有シリコンを加熱し、溶融アルミニウム含有シリコンを形成する工程、カルシウム、酸化カルシウム、及び炭酸カルシウムからなる群から選択されるカルシウムの供給源、及び任意でシリカを該アルミニウム含有シリコンに添加する工程と、該溶融アルミニウム含有シリコンを酸素に曝露し、精製シリコン及び副生スラグを製造する工程とを具え、該精製シリコンは前記アルミニウム含有シリコン中のアルミニウムの量より少ない量のアルミニウムを含有する。
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本発明は、触媒を含む水素化脱塩素反応器内での、水素を用いた四塩化ケイ素の変換のための改善された方法に関する。本発明は、さらに、かかる水素化脱塩素反応器のための触媒系に関する。 (もっと読む)


【解決手段】不純物としてBを含むSiとフラックスとを加熱溶融し、必要により溶融状態のSiとフラックスを含む融液中に気体を吹き込み、その後Siとフラックスとを分離する操作を複数回行うことでSi中のBを除去する高純度Siの製造方法であり、m,n回目(m<n、n≧2)の操作後のSi中のB濃度を[B]minSi、[B]ninSiとし、フラックス中のB濃度を[B]minf、[B]ninfとし、Si中とフラックス中のB濃度比をLBm=[B]minf/[B]minSi、LBn=[B]ninf/[B]ninSiとしたとき、LBm≦LBnである高純度Siの製造方法。
【効果】Si中のBを効率よく低減することができる。一般的な大気開放炉を使用し、更にプラズマトーチ等の高価な設備も不要であるため、設備投資額を大幅に低減でき、生産性が高く、極めて安価にBが低減されたSiを得ることができる。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、アルミニウムを含有するn型太陽電池用シリコンを提供することである。また、アルミニウムを含有するシリコンから精製されたリン添加シリコンを経済的に製造する方法を提供する。
【解決手段】質量濃度が、0.001〜1.0ppmのアルミニウムおよび0.0011〜1.1ppmのリンを含有し、かつリン/アルミニウム質量濃度比が1.1以上であるn型太陽電池用シリコンを提供する。また、アルミニウムを含有するシリコンを加熱溶融して溶融物を得、得られた溶融物にリンを添加することにより、又は、アルミニウムを含有するシリコンにリンを添加して混合物を得、得られた混合物を加熱溶融することによって、アルミニウム、リン及びシリコンを含有する溶融混合物を調製した後、鋳型内において一方向の温度勾配の下で、前記溶融混合物を凝固させるリン添加シリコンの製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、従来廃材となっていた坩堝残を有効に活用することができ、純度の高い原料を使用した場合と同等の特性が得られる多結晶シリコンインゴットを製造できる方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のシリコンインゴットの製造方法は、坩堝内に保持された、第1の導電型を規定する第1のドーパントを含有するシリコン融液から、チョクラルスキー法により太陽電池用の単結晶インゴットを引き上げる工程と、単結晶シリコンインゴットを引き上げた後の坩堝内の残留分(坩堝残)を、多結晶シリコンインゴットの原料として用いてインゴットを形成する工程とを含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】PKW−タイヤ中で使用される珪酸をLKW−タイヤ、オートバイタイヤ及びPKW用の高速タイヤ中で使用することは、異なる仕様プロフィルに基づき不適当であるため、特別にこれらの車両に適合された特性プロフィルを有する沈降珪酸を提供する。
【解決手段】BET−表面積200〜300m/g、CTAB−表面積≧170m/g、DBP−数200〜300g/(100g)及びセアーズ−数V 23〜35ml/(5g)を有する沈降珪酸によって解決される。 (もっと読む)


【課題】従来にない形状を有する非球状シリカ、新たな製法により得られる非球状シリカ、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】平均一次粒子径2〜17nmのシリカ微粒子が連なる形状を有する非球状シリカ、樹枝状を有する非球状シリカ、又はマイクロリアクターを用いて、ケイ酸塩溶液と酸及び/又は塩溶液とを接触させることにより得られる非球状シリカに関する。 (もっと読む)


【課題】集塵されたスラグを有効に活用する集塵粉再利用のためのシステムを含む精製方法を提供するものである。
【解決手段】すなわち、本発明の精製装置は、上部に開口部を有する坩堝と、坩堝に複数成分からなるフラックスを供給する初期フラックス供給機構と、開口部よりも上方に集塵口を有する集塵機構と、この集塵機構により回収された集塵粉に対してフラックスの複数成分のうち1以上の成分を添加して第1の調製フラックスとする第1のフラックス調製機構とを具備することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】同一工程を多数回繰り返す必要のない簡単な方法によって均一で粒径の大きいシリコンナノ粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】カリックスアレーンを含む溶媒中でSi塩を出発原料としてシリコンナノ粒子を合成させる工程、次いで、当該溶媒中で前記シリコンナノ粒子の表面を水素化させてSiの水素化物を形成させる工程、さらに当該溶媒中で前記Siの水素化物と表面修飾化合物とを反応させる工程を含むSiナノ粒子の製造方法。 (もっと読む)


【課題】酸性条件下での安定性が高く、金属不純物の含有量が低く、しかも濾過性が良好であるスルホン酸修飾水性アニオンシリカゾル及びその製造方法を提供する。
【解決手段】コロイダルシリカに、化学的にスルホン酸基に変換できる官能基を有するシランカップリング剤を添加した後、前記官能基をスルホン酸基に変換するスルホン酸修飾水性アニオンシリカゾルの製造方法、及びそれにより得られるpH2以上の酸性においてゼータ電位が−15mV以下であるスルホン酸修飾水性アニオンシリカゾル。 (もっと読む)


【課題】非常に高い温度に耐えられない分野で使用可能であり、その実施に関する熱負荷の低下にも寄与し、450℃未満の温度で行なわれ、触媒の構成元素のためにナノワイヤの不純物をもたらさず、結晶性に関して組織され、欠陥をほとんど有しないシリコン及び/又はゲルマニウムナノワイヤを組み立てる方法を提供する。
【解決手段】生じるナノワイヤの成長によって基板上にシリコン及び/又はゲルマニウムのナノワイヤを組み立てる方法であって、シリコンを含む前駆体とゲルマニウムを含む前駆体とを、前記基板に存在する酸化銅を含む化合物と接触させることを含む方法。 (もっと読む)


【課題】塩素化されたシランであって、SiH3Cl、SiH2Cl2及びそれらの組み合わせを含む少なくとも1つの最終生成物をフィード流中のシランに関して50%以上のモル収率で調製するための方法を提供する。
【解決手段】シランと塩化水素を含む反応混合物を最終生成物を提供するのに十分な温度及び時間で触媒と接触させることにより1つ又は複数の塩素化されたシランを含む最終生成物が提供される。 (もっと読む)


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