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Fターム[4G072KK15]の内容

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Fターム[4G072KK15]に分類される特許

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【課題】機能素子への展開に有用なメソ構造体、更には、シリカメソ構造体、及びこれらの製造方法、メソ構造体のメソ細孔の配向を適宜に制御する方法の提供。
【解決手段】高分子表面に配置されている管状のメソ細孔を有するメソ構造体であって、該メソ細孔が上記高分子表面に対して平行な第1の方向に配向していることを特徴とするメソ構造体、シリカメソ構造体、メソ構造体の製造方法、シリカメソ構造体の製造方法及びメソ細孔の配向制御方法。 (もっと読む)


【課題】球状シリカ系メソ多孔体の内部に磁性ナノ粒子を担持させた磁性材料であって、前記磁性ナノ粒子に強磁性を発現させることが可能な磁性材料及びその磁性材料を効率よく製造することが可能な磁性材料の製造方法を提供する。
【解決手段】平均粒径が0.01〜3μmであり且つ中心細孔直径が2.6nm以上である球状シリカ系メソ多孔体と、該球状シリカ系メソ多孔体の内部に担持された強磁性ナノ粒子と、を備える磁性材料。該強磁性ナノ粒子が、強磁性を有する金属の単体、CuAu型強磁性規則合金、CuAu型強磁性規則合金及び希土類系強磁性合金からなる群から選択される。 (もっと読む)


コロイド状シリカ又はアルミノケイ酸塩粒子のような、高金属性ケイ質物質を生成するための変更したゾルゲル方法が開示されている。最初に、選択した金属塩がケイ酸溶液又はアルミニウム塩を含むケイ酸溶液に添加される。アルミニウムはシリカ基質内でAl−O−Si結合を形成するように、金属―担体間の相互作用を変えるために添加される。アルミニウムに加えて、M−O−Si(M=Ti、B等)結合を形成し、還元剤で処理される際に還元されない他の金属を添加できる。一度、金属、ケイ酸 及び/又はアルミニウム塩が生成された場合、塩基性ヒールへの添加によってコロイドの成長を受ける。コロイド合成後すぐに、コロイド粒子を含む金属塩はコロイド安定性を最大化できるように残され、ヒドラジンで還元されて、0価の金属含有性のコロイド粒子を生成する。使用前に粒子をコロイド状に保つことは、簡単に噴霧乾燥し、又は、押し出された触媒粒子のために他の物質と混合される場合に、触媒物質を形成する有効な方法になりうる。 (もっと読む)


少なくとも93%(w/w)のネオペンタシランを含む組成物、及びテトラキス(トリハロシリル)シランを水素化ジイソブチルアルミニウムで処理することを含む、ネオペンタシランを含む組成物を製造する方法。 (もっと読む)


【課題】大型で、格子欠陥や不均一性の少ない単結晶を容易かつ安価に製造することができる、コロイド結晶の製造方法を提供する。
【解決手段】所定の温度においてコロイド結晶が析出するコロイド分散液を用意して容器に収容する(準備工程)。そして、容器に収容したコロイド分散液の全体を該コロイド結晶が析出しない温度に設定する(温度設定工程)。さらに、コロイド結晶が析出しない温度に設定されたコロイド分散液に対し、局所的に該コロイド結晶が析出する温度に設定する(結晶開始工程)。最後に、コロイド結晶が析出する温度に設定された範囲を徐々に拡大させて、コロイド結晶を成長させる(結晶成長工程)。 (もっと読む)


【課題】シリカ以外の金属酸化物の含有率を、50モル%を越えるような高い含有率とすることができ、屈折率を高屈折率に調整することができるシリカ系複合酸化物粒子の集合体であって、該集合体を構成する粒子の粒子径が揃っている粒子集合体を提供する。
【解決手段】チタン、ジルコニウム、および、アルミニウムからなる群から選ばれる少なくとも一種の金属とシリコンとの複合酸化物からなるシリカ系複合酸化物粒子の集合体であって、(A)シリカ系複合酸化物粒子を、円形度0.8以上である球状若しくは略球状の粒子とし、(B)シリカ系複合酸化物粒子の粒子径の変動係数を、30%以下とし、(C)シリカ系複合酸化物粒子に含まれるチタン、ジルコニウム、およびアルミニウムからなる群から選ばれる少なくとも一種の金属の合計グラム原子数をM、シリコンのグラム原子数をSiとしたときに、0.5<M/(M+Si)<1.0、の関係を満足するようにする。 (もっと読む)


円形且つ単峰性の粒子サイズ分布を特徴とするペレット化シリカ粒子を、シリカ粒子を水に分散し、分散液に水を加え、アルコキシシランと混合し、前記混合物を有機溶剤に注ぎ、濾過し、そして洗浄してシリカ粒子を得ることによって製造する。前記のペレット化シリカ粒子はガラスモノリスの製造に使用できる。 (もっと読む)


【課題】 簡便、かつ容易に、効率的に所定の3D(三次元)立方晶系メソ構造のシリカ、そしてその薄膜を形成することのできる新しい技術手段を提供する。
【解決手段】
シリカ前駆物質とカチオン界面活性剤並びに疎水性有機化合物とを混合して調製したゾルを乾燥し、次いで焼成することで3次元立方晶系メソポーラスシリカモノリスを形成し、さらには、シリカ前駆物質とカチオン界面活性剤並びに疎水性有機化合物とを混合して調製したゾルを固体基板上に薄層に塗布または展開して乾燥し、次いで焼成することで3次元立方晶系メソポーラスシリカ薄膜を生成させる。 (もっと読む)


200〜400m2/gのBET比表面積、97.0±1.5質量%の二酸化ケイ素含有率、3.5±1.0質量%の二酸化チタン含有率、二酸化ケイ素含有率および二酸化チタンの含有率の合計が99.7質量%よりも大きい、熱分解法ケイ素−チタン混合酸化物粉末。この粉末を含む分散液。粉末あるいは分散液から出発するチタン含有ゼオライトの製造方法。 (もっと読む)


【課題】 光学素子に適した金属とセラミックの複合体の提供。
【解決手段】 SiO2, B2O3, Al2O3, TiO2, ZrO2, Na2O, CaO,及びSrOの中から選ばれる1つの成分を含む酸化物第1相1、酸化物第1相の粒界に形成された、Au, Ag, Cu, Pt, Pb,及びPdの中から選ばれる1つの金属を含む金属粒子(2)、及び、酸化物第1相(1)の粒界に形成された、ZnO, In2O3, または酸化物第1相(1)とは異なるSiO2, B2O3, Al2O3, TiO2, ZrO2, Na2O, CaO, 及びSrOの中から選ばれる1つと、金属粒子(2)と同種の金属とを含む酸化物第2相(3)を備えた金属とセラミックの複合体等。 (もっと読む)


【課題】シリコンを用いながら、従来のアモルファス型太陽電池やシリコン結晶型太陽電池に比べ、大幅にコストダウンできる太陽電池とその製造方法及びそれに用いるシリコン微粒子とその製造方法を提供する。
【解決手段】表面に共有結合した第1の反応性官能基を含む有機膜で被われたn型シリコン微粒子と表面に共有結合した第2の反応性官能基を含む有機膜で被われたn型シリコン微粒子を有機溶媒中で混合しペースト化し、基材表面に塗布する工程と、表面を有機膜で被われたp型シリコン微粒子と表面に共有結合した第2の反応性官能基を含む有機膜で被われたp型シリコン微粒子を有機溶媒中で混合しペースト化する工程と、基材表面に塗布する工程と、硬化させる工程とにより、表面に共有結合した有機薄膜で被われているn型シリコン微粒子層と表面に共有結合した有機薄膜で被われているp型シリコン微粒子層が積層形成されている太陽電池。 (もっと読む)


【課題】誘電率特性に優れ、表面粗さおよび熱膨張係数が低く、破断強度が高い低誘電率膜を形成するための低誘電率フィラーと、これを用いた低誘電率組成物および低誘電率膜を提供する。
【解決手段】本発明の低誘電率フィラーは、細孔を有し、平均一次粒子径が10nm以上かつ100nm以下の多孔質球状シリカ微粒子からなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】酸処理やイオン交換処理等の特別な後処理をする必要がなく、また、アルカリ金属を始めとして金属不純物含有量が極めて少ないpH5〜8の中性コロイダルシリカを容易に製造することができる中性コロイダルシリカの製造方法を提供する。
【解決手段】オルガノシリケートとして易加水分解性オルガノシリケートを用い、また、加水分解触媒として特定の加水分解触媒を用い、この加水分解触媒を、少なくとも反応終了時の反応混合物中におけるシリカ(B)に対する加水分解触媒(A)の割合{触媒残存モル比(A/B)}が0.012以下となるように、添加して反応させ、酸処理及びイオン交換処理を行うことなくpH5〜8の中性コロイダルシリカを製造する方法である。 (もっと読む)


【課題】 トレンチ、ホールを埋め込むための多孔質シリカ材料がエッチングなどのプロセス過程で受けるダメージを減じるようにするトレンチ内部の埋め込み方法の提供。
【解決手段】 50〜5000nmの大きさの開口部を有するトレンチ、ホールからなる構造物を設けてある半導体基板に対して、その構造物の内部に配線を形成した後、疎水性多孔質シリカ材料の前駆体を含有する所定の粘度の溶液を基板上に塗布し、加水分解し、焼成して、配線の形成された構造物内部を疎水性多孔質シリカ材料で埋め込む。 (もっと読む)


支持体及び、カリウム及びナトリウムを除く、各痕跡金属不純物200ppb以下を有する多数のコロイド状シリカ粒子を含み、残留アルコール2ppm以下(この際、カリウム及びナトリウムを除く、痕跡金属の累積濃度は、約0.5〜約5ppmの範囲にある)及び粒子を懸濁させるための溶媒を含む組成物(この際、組成物は超純度コロイド状シリカ分散液である)を接触させる(この際、接触は、支持体を平坦化させるために十分な温度及び時間で実施される)段階を包含する、支持体の表面の化学機械研磨法。
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【課題】 平均粒子径がミクロン以上と比較的大きく、しかも粒子密度の低い多孔質シリカ系粒子を製造するための新規な方法および該方法から得られる多孔質シリカ系粒子に関する。
【解決手段】 (a)有機珪素化合物の層と水の層とからなる二層分離液を調合し、次いで該有機珪素化合物層と該水層が完全に混合しない程度に撹拌しながら、前記水層中に有機溶媒、アルカリおよび界面活性剤を添加して、該混合水溶液中で前記有機珪素化合物を部分加水分解および/または加水分解してシリカ系粒子前駆体を調製する工程、(b)前記シリカ系粒子前駆体を含む混合水溶液に珪酸アルカリを添加して、粒子内部に空孔部または空隙部を有するシリカ系粒子を調製する工程および(c)前記シリカ系粒子を洗浄して乾燥する工程を含むことを特徴とする多孔質シリカ系粒子の製造方法。 (もっと読む)


【目的】従来よりも作製が容易で,かつ作製コストを下げる中空粒子の製造方法を提供することを目的とする。
【構成】溶液内にガスをバブリングしてミクロのバブルを発生させ,バブルと溶液の界面で加水分解及び重縮合反応を起こし微粒子をバブルの周囲に析出させ中空粒子を製造方法. (もっと読む)


【課題】接着特性が優秀な低誘電膜を形成するためのスピンオンガラス組成物、その製造方法、及びそれを用いた多孔性シリコン酸化膜の形成方法を提供する。
【解決手段】構造式1を有する3〜20質量%のシルセスキオキサンオリゴマー、3〜20質量%の気孔生成剤、及び残余の溶媒を含むスピンオンガラス組成物。そして、前記多孔性シリコン酸化膜を形成するために、前記スピンオンガラス組成物を基板上に塗布してスピンオンガラス薄膜を形成した後、前記薄膜を硬化して多孔性シリコン酸化膜を形成する。したがって、前記多孔性シリコン酸化膜は、接着特性が優秀であるのみならず、後続工程で過剰エッチングを招かない。
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【課題】 透明基板の表面上に設けた際に十分反射を防止でき、しかも水分の吸収を十分に抑制できるシリカ系被膜を提供する。
【解決手段】 上記課題を解決するシリカ系被膜は、透明基板上に形成するためのシリカ系被膜であって、その屈折率が1.41以下であり、その被膜中の空孔の平均ポアサイズが100nm以下であるものである。 (もっと読む)


本発明は、多孔質シリカに、メントール、揮発性物質、温熱性物質、植物ポリフェノールおよび有機色素からなる群より選択される物質が担持された、物質担持多孔質シリカに関する。 (もっと読む)


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