【課題】低湿度下でも高湿度下でも吸湿率が高いシリカゲル及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】全細孔容積が０．４５〜１．０ｃｍ^３／ｇであり、且つ、細孔直径２．５ｎｍ以下の領域に細孔分布のピーク（最大値）が存在することを特徴とするシリカゲル。珪酸アルカリ水溶液に鉱酸水溶液を加えて、ｐＨ１０．５〜１１．５でゾルを形成後、ゲル化させて、熟成前シリカヒドロゲルを得るゲル化工程と、該熟成前シリカヒドロゲルを、ｐＨ４〜７で一次熟成し、一次熟成シリカヒドロゲルを得る一次熟成工程と、該一次熟成シリカヒドロゲルを、ｐＨ０．５〜２で二次熟成し、二次熟成シリカヒドロゲルを得る二次熟成工程と、該二次熟成シリカヒドロゲルを乾燥し、シリカゲルを得る乾燥工程と、を有することを特徴とするシリカゲルの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 断熱材、特に真空断熱材の心材とした際に、断熱性に優れかつ耐圧縮性のある断熱材を提供できる新規のエアロゲルを得る。
【解決手段】 エアロゲルを、細孔容積及び細孔直径のピークが各々４〜８ｍｌ／ｇ、１０〜３０ｎｍであり、かつ１０ＭＰａの圧力を付与した後の嵩密度が０．４〜０．８ｇ／ｍｌのものとする。このような耐圧性に優れたエアロゲルを心材とすることにより、真空断熱材の鞘材（密閉容器）として柔軟性の高いフィルムを用いても、部分的なつぶれを発生するなどして形状変形を起こすことがなく、高い空隙率を保持するため断熱性にも優れる。当該エアロゲルは、例えば、金属酸化物濃度が５０〜１５０ｇ／Ｌの水性ゾルをｐＨ３〜６でゲル化した後、ヘキサン等の表面張力の小さな溶媒に溶媒置換し、さらにその状態で金属酸化物１００質量部に対して５０〜１５０質量部の疎水化剤で処理することにより得られる。 （もっと読む）

【課題】 多孔質膜自体の化学的・物理的特徴に極力影響を与えず、かつ特殊な装置や真空工程を必要としない簡易な工程により、表面に封止層を有する多孔質膜の製造方法を提供する。
【解決手段】 基材上に多孔質膜を形成する工程と、支持体上に無機酸化物前駆体の縮重合体を含むゲル膜を形成する工程と、前記基材上に形成された前記多孔質膜と前記支持体上に形成された前記ゲル膜とを密着させて積層体を得る工程と、前記積層体を加熱することで前記ゲル膜を硬化する工程と、硬化した前記ゲル膜上の前記支持体を除去する工程とを有する多孔質膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】比較的安価な無機ケイ酸塩をシリカの前駆体として用いて、セルロースとシリカ系材料の特性を併せ持つナノ複合材料の製造方法の提供。
【解決手段】 （ｉ）含水率８０％以上の再生セルロースゲル；及び（ｉｉ）低分子ケイ酸ナトリウム；由来の複合材料の製造方法であって、（Ａ−１）前記再生セルロースゲルを準備する工程；（Ａ−２）前記低分子ケイ酸ナトリウムの水溶液に、前記再生セルロースゲルを浸漬し、前記低分子ケイ酸ナトリウムが含浸された再生セルロースゲルを得る工程；（Ａ−３）上記（Ａ−２）で得られたゲルを無機酸水溶液に浸漬し、前記低分子ケイ酸ナトリウムを脱水縮合することによりシリカとする工程；及び（Ａ−４）上記（Ａ−３）で得られたゲルを水洗後、乾燥する工程；を有する、上記方法により、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】空隙率が高く、強度の高いシリカ系の中空粒子を得る中空粒子の製造方法、該中空粒子を用いた光学材料及び断熱材料を提供することにある。
【解決手段】コア粒子を有する溶液中にシリカ系材料を添加して乾燥を行った後、該コア粒子を除去することで、該シリカ系材料を有する中空粒子を製造する中空粒子の製造方法であって、該シリカ系材料を添加した後、該コア粒子を除去する前に、該シリカ系材料を架橋する架橋剤及び酸を添加することを特徴とする中空粒子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】樹脂成形体の熱伝導度を従来よりさらに高めることができる樹脂フィラーとなるシリカ粒子およびその製造方法を提供する。
【解決手段】形状が球状であり、α石英、トリジマイトおよびクリストバライトからなる群より選ばれる２種以上の結晶形を有することを特徴とするシリカ粒子。シリカゾルを分散させた分散相液を、該分散相液と相溶性のない連続相液に、細孔を通過させて注入することによりエマルジョンを作製し、該エマルジョンから分散相を分離してケーキとし、分離することにより得られたケーキを、Ｃａ、Ｙ、ＬａおよびＥｕからなる群より選ばれる１種以上の元素を含む結晶化剤の共存下に、８００℃以上１３００℃以下の温度範囲で保持して焼成することを特徴とするシリカ粒子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 大型且つ一体型の３次元連続網目状構造のシリカゲルまたはシリカガラスからなるモノリス多孔体で均質な骨格構造のものをゾルゲル法で製造するための製造方法を提供する。
【解決手段】 アルコキシシラン類を主成分として含むシリカ前駆体が溶媒相に混合されたゾルを調製するゾル調製工程と、前記ゾルを、所定のゲル化促進温度以上の温度下に維持して、ゾルゲル転移と相分離を並行して発現させ、３次元連続網目状構造を有するシリカヒドロゲル相と前記溶媒相の共連続構造体を形成するゲル化工程と、前記共連続構造体から前記溶媒相を除去する除去工程と、を有し、前記ゾル調製工程において、前記溶媒相を構成する化合物と前記シリカ前駆体の反応系に添加する化合物の内の少なくとも何れか１つの化合物の強冷された固体からなる冷媒を前記溶媒相内に加えることにより、当該ゾル調製工程中における前記ゾルの温度上昇を抑制する。 （もっと読む）

【課題】無機質フィラーを用いてガラス転移温度以上の温度領域における熱膨張率の上昇を充分に抑制した樹脂成形部を与える絶縁性樹脂組成物を提供する。また、当該絶縁性樹脂組成物を製造する方法、及び、当該絶縁性樹脂組成物を用いて樹脂部分を形成した電子部品を提供する。
【解決手段】本発明の絶縁性樹脂組成物は、平均粒径が１〜５０μｍ、空隙率が０．２以上、且つ、平均空孔径が１０〜１００ｎｍである多孔質無機微粒子、及び、絶縁性樹脂を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基材と多孔質シリカ膜との密着性が高く、可視光線透過率が高い、多孔質シリカ膜を有する積層体を提供する。
【解決手段】Ｔｇが２００℃以下の透光性基材上に、屈折率が１．２０〜１．３５である多孔質シリカ膜を有する積層体であって、ミルスペックＭＩＬ−ＣＣＣ−ｃ−４４０に記載のチーズクロスを荷重５００ｇ／ｃｍ^２で前記多孔質シリカ膜表面上を２０往復させる耐摩耗性試験において、前記積層体の可視光線透過率の変化量が、試験前の前記積層体の可視光線透過率に対して５％未満であることを特徴とする積層体。 （もっと読む）

【課題】シリカ粒子を含有する分散液をガラス容器中で時間をかけて沈殿させる場合では、シリカ粒子を沈殿させるまでに長時間かかってしまい工数が長くなること、あるいは、ガラスなどの撥水性基板の面上に、シリカなどの微粒子を含む液体を滴下し、凝集させて付着させる場合は、液滴の大きさの範囲内でしかオパール調の模様を形成できないこと。
【解決手段】吸液性基材と、シリカ粒子からなるシリカ層とを有するオパール装飾品であって、前記シリカ層は、前記吸液性基材上に位置し、前記シリカ粒子が少なくとも不規則な配列を有する第１層と、前記第１層上に位置し前記シリカ粒子が規則配列した第２層とを有すること。 （もっと読む）

【課題】繊維体にゾル溶液を簡単且つ確実に含浸することができるエアロゲルシート製造装置を提供する。
【解決手段】ゾル溶液Ｓを、繊維体Fに含浸させるためのエアロゲルシート製造装置Ａであって、ゾル溶液Ｓが貯留される貯留容器１と、前記貯留容器１に貯留されたゾル溶液Ｓを、前記繊維体Fの上方から供給する第一供給部２と、前記繊維体Fを移動させる送り部３１を備えた移動用レール３と、前記移動用レール３における前記第一供給部２よりも下流に配置され、タンク８１内に貯留された熱加水分解性化合物Ｙを、前記繊維体に噴出させる第二供給部８と、からなり、前記移動用レール３における前記第一供給部２と前記第二供給部８との間には、前記ゾル溶液Ｓを貯留すると共に、当該ゾル溶液Ｓに前記繊維体Ｆが浸漬される深さを有する貯水部４が形成され、当該貯水部４を通った繊維体Ｆに前記第二供給部８から熱加水分解性化合物Ｙが噴出されるようにしている。 （もっと読む）

【課題】高純度のシリカを簡易にかつ低コストで製造することのできる方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）シリカ鉱物含有岩石とアルカリ水溶液を混合して、ｐＨが１１．５以上のアルカリ性スラリーを調製し、該シリカ鉱物含有岩石中のＳｉ、Ａｌ、Ｆｅを液分中に溶解させた後、該スラリーを固液分離して、Ｓｉ、Ａｌ、Ｆｅを含む液分と、固形分を得る工程と、（Ｂ）工程（Ａ）で得た液分と酸を混合して、ｐＨを７．０以上、１０．３以下に調整し、液分中のＳｉを析出させた後、固液分離を行い、ＳｉＯ_２を含む固形分（高純度シリカ）と、液分を得る工程と、（Ｃ）工程（Ａ）と工程（Ｂ）の間に設けられる工程であって、前工程で得た液分に対してイオン交換処理及び活性炭処理を行い、不純物を回収する工程、を含む。 （もっと読む）

【課題】空気の平均自由行程よりも小さな細孔を有し、嵩密度の低いシリカキセロゲルが繊維マットに担持された繊維系断熱材を簡単な製造工程で製造可能な繊維系断熱材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】テトラアルコキシシランとモノアルキルトリアルコキシシランとを、モル比で、テトラアルコキシシラン：モノアルキルトリアルコキシシラン＝０．０５〜０．３５：０．６５〜０．９５の割合で含むゲル原料と、該ゲル原料中のシラン化合物全量１モルに対し、アルコール類を２〜５モル、水を３〜６モル含む溶媒とを混合し、ゲル原料中のシラン化合物を加水分解してゾルを生成させ、得られたゾルを繊維マットに含浸させてゲル化し、その後養生して湿潤ゲルを担持させた湿潤ゲル担持繊維マットを得て、得られた湿潤ゲル担持繊維マットを常圧及び／又は減圧下で乾燥し、繊維系断熱材を得る。 （もっと読む）

【課題】立方的な形状をもつ結晶（単結晶）を得ることができる金属塩結晶の成長方法、及びその金属塩結晶の成長方法により得られる金属塩結晶を提供すること。
【解決手段】シリカヒドロゾルと金属塩溶液とを混合し、前記シリカヒドロゾルをゲル化することにより、前記金属塩の結晶を成長させる金属塩結晶の成長方法。前記金属塩としては、硫酸銅又は硫酸ニッケルが挙げられる。前記シリカヒドロゾルをゲル化するときの温度は、金属塩が硫酸ニッケルの場合、２０℃以下とすることが好ましい。また、金属塩が硫酸銅の場合、２０℃以上とすることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】導電性シリカゾル、及び導電性シリカヒドロゲルの製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の導電性シリカゾルの製造方法は、アルコキシシラン又はケイ酸塩を含む前駆体溶液と、スズ化合物とを混合し、前記アルコキシシラン又はケイ酸塩を加水分解することを特徴とする。前記前駆体溶液は、アルコキシシラン又はケイ酸塩に加えて、アルコール、及び酸性に調製した水を含むものとすることができる。前記スズ化合物とともに、アルコール及び酸性に調製した水を混合してもよい。 （もっと読む）

【課題】ＰＫＷ−タイヤ中で使用される珪酸をＬＫＷ−タイヤ、オートバイタイヤ及びＰＫＷ用の高速タイヤ中で使用することは、異なる仕様プロフィルに基づき不適当であるため、特別にこれらの車両に適合された特性プロフィルを有する沈降珪酸を提供する。
【解決手段】１７８〜３０２ｍ^２／ｇのＢＥＴ−表面積、≧１７０ｍ^２／ｇのＣＴＡＢ―表面積、２００〜３００ｇ／（１００ｇ）有利に２０７〜２７６ｇ／（１００ｇ）のＤＢＰ−数及び１０〜２５ｍｌ／（５ｇ）、１０〜２０ｍｌ／（５ｇ）、１０〜１６ｍｌ／（５ｇ）のシェアズ(Sears)−数Ｖ_２を有する沈降珪酸によって解決される。 （もっと読む）

【課題】短時間で細孔内にシリカゲルを添着できると共に、ミクロ孔内にもシリカゲルを添着できる複合活性炭の製造方法を提供する。
【解決手段】シリカゲル原料となるケイ酸のアルカリ金属塩水溶液１に活性炭２を浸漬して、シリカゲル原料を活性炭２の細孔内に含浸させる含浸工程と、含浸工程後の活性炭２へ酸を添加するゾル化工程と、ゾル化工程後に固液分離して、活性炭２を加熱熟成するゲル化工程と、を有する、細孔内にシリカゲルが添着された複合活性炭の製造方法であって、含浸工程は、活性炭２を正極１１側に浸漬して水溶液１に電場を印加しながら行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 大細孔径シリカゲルの当該大細孔内に、大細孔を閉塞することなく、微細シリカ粒子等からなる微細孔構造の層を更に形成し、当該微細孔構造により、処理液中の物質の吸着層や分離層、または、光触媒等の担持層、反応点等の機能を奏させて、当該大細孔シリカゲルの機能を一層高める。
【解決手段】 ５０−３５００ｎｍの細孔直径を有する大細孔径シリカゲル原体を準備する工程、当該大細孔シリカゲルを粒子径１−５０ｎｍの微細粒子を含むスラリーまたはゾル液で処理し、少なくとも当該微細粒子を含むスラリーまたはゾル液を、当該大細孔径シリカゲルの当該大細孔内に注入する工程、当該処理したシリカゲルを乾燥して当該微細粒子を当該大細孔内壁に固着させる工程を実施することにより、微細粒子が厚さ５−１００ｎｍで積層し、当該シリカゲル内に更なる微細孔構造を形成した二重細孔構造を有するシリカゲルが得られる。 （もっと読む）

【課題】バインダを利用せずに表面にゼオライトを含有し、かつ、開口による高速物質移動とミクロ孔による高い表面積と優れた表面機能を備えるハニカム状基体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、ハニカム構造体の表面にハニカム構造体の開口の面積より６桁以上小さい開口面積を有するミクロ孔が形成された、ゼオライトを含有するハニカム状基体に関する。また、本発明のハニカム状基体において、ハニカム構造体の表面にゼオライトが析出されてなることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】低湿度下でも高湿度下でも吸湿率が高いシリカゲル及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】全細孔容積が０．４５〜１．０ｃｍ^３／ｇであり、且つ、細孔直径２．５ｎｍ以下の領域に細孔分布のピーク（最大値）が存在することを特徴とするシリカゲル。珪酸アルカリ水溶液に鉱酸水溶液を加えて、ｐＨ１０．５〜１１．５でゾルを形成後、ゲル化させて、熟成前シリカヒドロゲルを得るゲル化工程と、該熟成前シリカヒドロゲルを、ｐＨ４〜７で一次熟成し、一次熟成シリカヒドロゲルを得る一次熟成工程と、該一次熟成シリカヒドロゲルを、ｐＨ０．５〜２で二次熟成し、二次熟成シリカヒドロゲルを得る二次熟成工程と、該二次熟成シリカヒドロゲルを乾燥し、シリカゲルを得る乾燥工程と、を有することを特徴とするシリカゲルの製造方法。 （もっと読む）