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Fターム[4G072QQ06]の内容

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Fターム[4G072QQ06]に分類される特許

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【課題】ボロン含有量を制御することができる球状シリカ粒子の製造方法の提供。
【解決手段】原料シリコン粒子と酸素とを反応させて球状シリカ粒子の製造方法である。ボロン含有量がシリカの質量を基準として下限0ppm、上限30ppmに含まれる所定範囲に含まれる粗シリコン粒子中に含有するボロン量を制御する。ボロン含有量を小さくすることにより、樹脂との密着性を向上することができる。 (もっと読む)


【課題】高EW(又は、低IEC)で、かつ、無加湿条件下においても高いプロトン伝導度を示す電解質を提供すること。
【解決手段】シラノール基又はその前駆体からなる親水性基の縮重合により形成されるシリカ層と、シリカ層の内表面を修飾する有機スルホン酸基とを備え、その内部に界面活性剤の除去に由来する細孔を持たない緻密体からなる電解質。このような電解質は、シラノール基又はその前駆体からなる親水性基と有機スルホン酸基の前駆体からなる疎水性基とを備えた両親媒性分子を含む溶液中に、必要に応じて親水性基を備えたSiO2源を添加し、溶液中において両親媒性分子を自己組織化させ、親水性基を縮重合させることにより得られる。 (もっと読む)


【課題】活性炭の細孔を潰さずに、且つ、活性炭の疎水性を上げる疎水性金属酸化物粒子を提供する。
【解決手段】式(1)で表されるケイ素化合物で表面修飾されたことを特徴とする疎水性金属酸化物粒子。金属酸化物粒子としてはオルガノシリカゾルが好ましい。
R-Si(CH(−X)3−n (1)
ただし、Rは炭素数1〜18のアルキル基、炭素数2〜4のアルケニル基、炭素数2〜3のアルキニル基又は炭素数6〜8のアリール基、Xは炭素数1〜3のアルコキシ基、Cは炭素原子、Hは水素原子、Siはケイ素原子、nは0〜2を表す。 (もっと読む)


【課題】導電ポリマーの配合量を従来よりも低減しながら帯電防止機能を有する塗膜を形成可能な変性中空シリカ微粒子を提供する。
【解決手段】本発明の変性中空シリカ微粒子は、下記一般式(1)で表されるシランカップリング剤により表面処理されている。
一般式(1):CH2=C(CH3)COO(CH23-Si(OR)3
(但し、Rは炭素数1〜2のアルキル基又は2-メトキシエトキシ基である) (もっと読む)


【課題】カーボン粒子の表面に板状のシリコンが付着した複合材料に比べて充放電サイクル特性が更に向上した蓄電デバイス用電極材料を提供する。
【解決手段】本発明の蓄電デバイスは、正極と、負極と、正極と負極との間に介在するイオン伝導媒体とを備えている。ここで、正極および負極のうち少なくとも一方は、活物質として炭素で被覆された層状ポリシランを含んでいる。こうした活物質は、層状ポリシランを合成し、その層状ポリシランの粉末を撹拌しながら乾式の皮膜形成法によってカーボンで被覆することにより得ることができる。 (もっと読む)


【課題】酸化チタン、酸化アルミナ、シリカ等の基体表面に、アンチモン等の有害成分を含有せずに優れた導電性を有し、アンチモン含有導電性粉末よりも体積抵抗が優れる導電層を形成した酸化スズ被覆導電性粉末を安価で提供する。
【解決手段】酸化チタン、酸化アルミナ、シリカ等の基体表面に、SnOに対しリン元素をPとして0.1〜5重量%含有させたスズの加水分解反応物を均一に生成させ、該生成物に高分子化合物を吸着させた後、不活性ガスを流入させて雰囲気を制御しながら400〜900℃で焼成処理する。本製造法により、体積抵抗が2〜80Ω・cm、粉体帯電量が+40〜−80μc/g、粉体色調のL値が55〜80である酸化スズ被覆導電性粉末が得られる。 (もっと読む)


【課題】透明被膜の白化が抑制され、優れた耐擦傷性や密着性を発揮することが可能な中空シリカ微粒子とその製造方法を提供する。
【解決手段】動的光散乱法により測定される平均粒子径が5〜300nm、比表面積が50〜1500m/gであり、外殻の内部に空洞が形成されてなる中空のシリカ微粒子であって、熱重量測定(TG)により、200℃〜500℃の温度範囲において1.0重量%以上の重量減少を示す。また、この中空シリカ微粒子は、200℃〜500℃の温度範囲での示差熱保持測定(DTA)において、正のDTAピークを有する。中空シリカ微粒子が分散したオルガノゾルを調製し、30℃〜300℃の温度範囲で、該オルガノゾルにシラン化合物およびアルカリ触媒を添加し、シリカ配合量に対して水分量が0.1〜50重量%の条件で、該シラン化合物と該中空シリカ微粒子を反応させ製造する。 (もっと読む)


【課題】高容量でサイクル性の高い非水電解質二次電池の負極活物質を、連続的に大量生産することができる非水電解質二次電池用負極活物質の製造方法、非水電解質二次電池用負極活物質、リチウムイオン二次電池、及び電気化学キャパシタを提供することを目的とする。
【解決手段】リチウムイオンを吸蔵、放出し得る材料の表面が黒鉛被膜で被覆された非水電解質二次電池用負極活物質の製造方法であって、前記材料の表面を黒鉛被膜で被覆する工程を、連続炉で行うことを特徴とする非水電解質二次電池用負極活物質の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、特定の粒度分布と特定の孤立シラノール基を有する球状シリカ粉末を用いることにより、樹脂へ高充填した際に樹脂組成物の流動性が極めて高く、かつ球状シリカ粉末が良好に分散してなる樹脂硬化物を提供する。
【解決手段】 下記の条件を満たすことを特徴とする球状シリカ粉末。(α)粒度分布に2ヵ所の頻度極大値A(μm)、B(μm)を有し、頻度極大値Aは0.40〜1.5μm、頻度極大値Bは0.03〜0.07μmの範囲であり、Aの体積頻度値が3.0〜7.0%、Bの体積頻度値が1.0〜9.0%。(β)0.1μm未満の球状シリカ粉末が5〜30質量%であり、その粉末の孤立シラノール(孤立OH)基の濃度が1.0個/nm未満。累積体積10%値が0.04〜0.1μm、累積体積90%値が1.4〜2.0μmであることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】日常的な工程管理に利用可能な、多結晶シリコンウェーハの品質を簡便に評価する方法を提供すること。
【解決手段】評価対象の多結晶シリコンウェーハ表面を選択エッチングし、該表面において結晶欠陥を顕在化させること、結晶欠陥を顕在化させた多結晶シリコンウェーハ表面のマクロ画像を散乱画像として取得すること、および、取得したマクロ画像の輝度分布に基づき、前記多結晶シリコンウェーハにおける結晶欠陥分布を定量的に評価すること、を含む多結晶シリコンウェーハの評価方法。 (もっと読む)


【課題】シリカ材料表面に均一に炭素被覆ができ且つ炭素被覆の厚さが調整できる簡単且つ効率的な製造方法を提供する。
【解決手段】有機シリル化剤により表面がシリル化されたシリカ材料を、有機シリル化剤の有機基が離脱する温度で加熱し、次いで、CVDで処理することを特徴とする炭素被覆シリカ材料の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 珪素系活物質の高い電池容量を維持しつつ、充放電時の体積膨張と活物質の破損が抑制された、非水電解質二次電池用負極活物質を製造する方法、並びにそれを用いた非水電解質二次電池用負極材及び非水電解質二次電池を提供する。
【解決手段】 炭素被覆された非水電解質二次電池用負極活物質の製造方法であって、酸化珪素粉末及び珪素粉末の少なくとも一方を含む負極活物質原料を、触媒CVD法により炭素被覆する非水電解質二次電池用負極活物質の製造方法、並びに、それを用いた非水電解質二次電池用負極材及び非水電解質二次電池。 (もっと読む)


【課題】撥水性及び撥油性共に優れたる表面コート用組成物を提供すること。
【解決手段】フッ素化合物はシリカ粒子の表面に結合してシリカ粒子の表面にフッ素を導入する。フッ素の添加量はフッ素化合物の添加量と1分子のフッ素化合物に含まれるフッ素原子の量とにより決定される。1分子に含まれるフッ素の量は、撥水性・撥油性の観点から導出される適正値以上にし、溶解性の観点から導出される適正値以下にする。具体的には1100−1300cm−1の範囲内にC−F伸縮振動に基づく吸収ピーク(第1ピーク)があり、3200−3600cm−1の範囲内のOH伸縮振動に基づく吸収ピーク(第2ピーク)があり、第1ピークのピーク面積を100としたときの第2ピークのピーク面積が10−30の範囲にあり、シリカと相互作用可能なOH基をもつ化合物を採用することにより、撥水性及び撥油性に優れた表面コート用組成物が得られることが判明した。 (もっと読む)


【課題】膜表面に100nm以上の長さのクラックや膜剥離がない、ルチル型二酸化チタンで被覆された薄片状物質、及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】表面にルチル型酸化スズを含有する薄片状基材を準備する、薄片状基材準備工程、
酸性の加水分解性チタン化合物溶液に超微粒子を分散させて被膜形成薬液を調製する、被膜形成薬液調製工程、
前記被膜形成薬液中に前記薄片状基材を浸漬し、中和反応により、前記超微粒子を含むルチル型の二酸化チタン被膜を該基材表面に析出させる、被膜析出工程、
前記被膜を析出させた薄片状基材を乾燥する、乾燥工程
を有することを特徴とする、二酸化チタンで被覆された薄片状物質の製造方法。 (もっと読む)


【課題】溶剤型塗料に添加したとき塗料の製品安定性が高く、得られる塗膜の耐擦傷性が優れ、更にクリアコートに対して透明性が低下しない溶剤型塗料用の添加剤を提供する。
【解決手段】下記の一般式(1)で表されるカチオン界面活性剤に被覆されたシリカからなるシリカ組成物。


(式中、Xはハロゲン原子又はメチル硫酸誘導体を表し、R〜Rはそれぞれ独立して炭素数1〜36の炭化水素基、またはエステル基、アミド基および水酸基から選択されるいずれか1種以上の置換基を有する炭素数1〜36の炭化水素基、または下記の一般式(2)で表されるポリエーテル基を表す。ただし、R〜Rの少なくとも1つは下記の一般式(2)で表されるポリエーテル基でなければならない。)


(式中、mは1〜100の数を表し、Rは炭素数2〜4のアルキレン基を表す。) (もっと読む)


【課題】粒径の制御を簡単に行うことができる金属酸化物粒子の製造方法の提供。
【解決手段】金属粉末と酸素とを反応して球状金属酸化物粒子を得る工程と得られた球状金属酸化物粒子を粉砕して所定粒径以上の粗粒を破砕する工程とを有する。金属粉末と酸素とを反応させることで球状の金属酸化物粒子が得られるが、その球状金属酸化物粒子に対して粉砕操作を行うことで、粗粒を選択的に破砕することが可能になり、速やかに粒径制御を行うことができる。球状金属酸化物粒子に粉砕操作を加えても、大部分の粒子には影響はなく、優先的に粗粒を破砕できる。従って、球状金属酸化物粒子に対して粉砕操作を加えることで大多数の粒子の粒子形状に影響を与えることなく粒径制御ができる。大多数の粒子の粒子形状を殆ど変化させないので球状金属酸化物粒子がもつ好ましい性質はそのまま有する金属酸化物粒子を得ることが可能になる。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、断熱性、透明性及び機械的強度に優れた多孔性構造体の製造方法と当該製造方法により製造された多孔性構造体を用いた光学材料及び断熱材料を提供することにある。
【解決手段】水系溶媒中で、平均粒子径が70nm以下のコア粒子及び前記コア粒子の表面に平均厚さが10nm以下のシリカ系材料の外郭を有するコアシェル粒子を形成後、前記水系溶媒中で前記コアシェル粒子の外郭からなる中空粒子が連結した多孔性構造体を形成することを特徴とする多孔性構造体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 酸性領域で非常に安定なシリカ系微粒子分散ゾル、該ゾルの製造方法、および該分散ゾルを含む塗料組成物に関する。
【解決手段】 異方形状のシリカ系微粒子を含む分散ゾルであって、該シリカ系微粒子の表面が負電荷を有し、かつ該シリカ系微粒子の表面がアルミニウムで修飾されており、該アルミニウムの修飾量はAl換算基準でシリカ系微粒子の単位表面積当り0.01×10−6〜2.0×10−6モル/mの範囲にある。前記シリカ系微粒子の動的光散乱法により測定された平均粒子径(D1)が15〜70nmの範囲にあり、BET法により測定された平均粒子径(D2)が10〜50nmの範囲にあり、異形度(D1/D2)が1.55〜4.00の範囲にある。 (もっと読む)


【課題】誘電率の上昇を抑制しつつも多孔質層の表面を改質できる半導体装置の製造方法および多孔質層の改質方法を提供する。
【解決手段】半導体装置の製造方法は、半導体基板102上に、表面にSiH基を有する多孔質絶縁層114を形成する工程と、SiH基をSiOH基に酸化させ、かつ多孔質絶縁層114のSi原子と結合を形成しない改質物質を含む液体を多孔質絶縁層114の表面に接触させる工程と、を含む (もっと読む)


【課題】共通に使用できる表面修飾方法を用いて、水と有機溶媒を交換することなく有機修飾されたゲルを製造する方法を提供する。
【解決手段】a)シリカ系ヒドロゲルをpH3以上で形成し、次いでb)得られたヒドロゲルの表面をシリル化剤で処理して修飾して表面修飾ゲルとなし、次いでc)得られた表面修飾ゲルを、臨界温度・圧力に至らない条件下に乾燥する。 (もっと読む)


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