【課題】熱交換器を通過した後のテトラクロロシランおよび水素の温度に熱変動が生じた場合でも、高い転換効率でトリクロロシランを製造することができるトリクロロシランの製造方法を提供する。
【解決手段】金属シリコンとテトラクロロシランおよび水素を含む混合ガスを反応させてトリクロロシランを製造する方法であって、反応により生じたガスと混合ガスとを熱交換させる熱交換工程と、熱交換した前記混合ガスをその反応温度以下まで金属製ヒーターにより加熱する加熱工程と、加熱工程により加熱された混合ガスを反応可能な温度に発熱させたカーボン製ヒーターに接触させて加熱する事前転化反応工程と、前記事前転化反応工程により加熱された混合ガスと金属シリコンとを反応させてトリクロロシランを含む反応ガスを生成する転化反応工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】シリコン溶湯の表面に噴射ガスを噴射してＳｉＯｘナノ粉末を大量に生産できる揮発性に優れた高純度ＳｉＯｘナノ粉末の製造方法及びその製造装置について開示する。
【解決手段】本発明にかかるＳｉＯｘナノ粉末の製造装置は、真空チャンバ；前記真空チャンバの内部に装着され、シリコンが装入される黒鉛るつぼ；前記黒鉛るつぼに装入されたシリコンを誘導加熱してシリコン溶湯を形成させる誘導溶融部；前記黒鉛るつぼの内部で前記シリコン溶湯の表面と直接接触するように噴射ガスを噴射するガス噴射部；及び前記黒鉛るつぼと離隔された上部に配置され、前記シリコン溶湯と前記噴射ガスとの反応によって揮発するＳｉＯｘ蒸気を捕集する捕集部；を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】誘電率の上昇を抑制しつつも多孔質層の表面を改質できる半導体装置の製造方法および多孔質層の改質方法を提供する。
【解決手段】半導体装置の製造方法は、半導体基板１０２上に、表面にＳｉＨ基を有する多孔質絶縁層１１４を形成する工程と、ＳｉＨ基をＳｉＯＨ基に酸化させ、かつ多孔質絶縁層１１４のＳｉ原子と結合を形成しない改質物質を含む液体を多孔質絶縁層１１４の表面に接触させる工程と、を含む （もっと読む）

【課題】強固に凝集することがなく流動性に優れる、疎水化された表面処理無機酸化物粒子を、簡易に製造する方法を提供すること。
【解決手段】上記方法は、少なくとも下記の工程（１）乃至（３）を以下に記載の順で行うことを特徴とする方法である；（１）塩基性触媒の存在下における金属アルコキシドの加水分解及び重縮合反応によって得られる無機酸化物粒子の分散液に、シリコーンオイル、シランカップリング剤及びシラザンよりなる群から選ばれる少なくとも１種類の表面処理剤を添加して前記無機酸化物粒子の表面処理を行う工程、（２）前記表面処理後の無機酸化物粒子の分散液に、二酸化炭素、炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウム及びカルバミン酸アンモニウムよりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物からなる凝析剤を添加する工程、並びに（３）ろ過によって前記表面処理後の無機酸化物粒子を回収する工程。 （もっと読む）

【課題】 塩基性触媒の存在下、金属アルコキシドの加水分解及び重縮合反応後の無機酸化物粒子分散液を濃縮して濃縮物を得る際に、上記濃縮物中の無機酸化物粒子の強固に凝集した凝集体の生成を防止し、また、これを乾燥して無機酸化物粒子を得る際に、強固に凝集した凝集塊の生成を効果的に防止し、且つ、高純度の無機酸化物粒子を得るための方法を提供する。
【解決手段】 上記無機酸化物粒子分散液に、二酸化炭素、炭酸アンモニウム、炭酸水素アンモニウム、カルバミン酸アンモニウムから選ばれる少なくとも１種の化合物を添加した後、該分散液の濃縮を行う。また、得られた濃縮物の乾燥を行うことにより無機酸化物粒子を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】前述した従来技術のメソポーラスシリカよりも更に各種の性能が向上したメソポーラスシリカを提供すること。
【解決手段】本発明のリン含有メソポーラスシリカは、細孔の壁構造内にリンが含まれ、かつリンが該壁構造を構成するＳｉＯ₂繰り返し単位と直接結合していることを特徴とする。リンに対するケイ素の原子比（Ｓｉ／Ｐ）は１０〜１００であることが好適である。このメソポーラスシリカは、第四級ホスホニウム塩からなるイオン液体とケイ素源となる化合物とを混合して反応させ、それによって得られた生成物を大気下に焼成することで好適に製造される。 （もっと読む）

【課題】還元法による高純度シリコンの製造方法を提供する。
【解決手段】炭化珪素とシリカとを粉砕し、洗浄した後、各々を所定の比率の割合で混合し、これをルツボ７に収容し、これを加熱手段により加熱して反応させ、炭化珪素をシリカで酸化し、さらにシリカを炭化珪素で還元することにより、シリコン５５を製造・抽出するとともに、加熱反応時に生成される活性ガス５６、５７を原料として、気相成長、エピタキシャル成長により、シリコンカーバイド膜１０を形成し、これを回収することによりシリコンカーバイド５９を作製するシリコンとシリコンカーバイドとを同時に製造する製造方法及び装置である。 （もっと読む）

【課題】製紙用の填料や顔料とするに適したシリカ複合粒子を連続的に製造することができるシリカ複合粒子の製造方法とする。
【解決手段】無機粒子Ｓ、珪酸アルカリ水溶液Ｋ及び鉱酸Ｒ１，Ｒ２からシリカ複合粒子を製造するにあたり、無機粒子Ｓ及び珪酸アルカリＫを第１の槽７０Ａに供給し、この槽７０Ａ内のスラリーＨＡが、第２の槽７０Ｂへ、第３の槽７０Ｃへ、第４の槽７０Ｄへと順に流れるものとしつつ、第３の槽７０Ｃ内のスラリーＨＣに鉱酸Ｒ２を添加するほか、第１の槽７０Ａ内のスラリーＨＡにも鉱酸Ｒ１を先行添加して、シリカ複合粒子を連続的に製造する。 （もっと読む）

【課題】 母体粒子全面にわたって、突起物が化学結合により強固に結着してなり、例えば樹脂用充填材や表面に導電層を被覆した導電性粒子の母材などとして好適なシリカ系微粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定のアルコキシシラン化合物を加水分解、縮合させてポリオルガノシロキサン粒子を生成させる工程、（Ｂ）該ポリオルガノシロキサン粒子を、表面吸着剤により表面処理する工程、および（Ｃ）上記（Ｂ）工程で表面処理されたポリオルガノシロキサン粒子全面に、該アルコキシシラン化合物を用いて突起を形成させる工程、を含むシリカ系微粒子の製造方法である。 （もっと読む）

【解決手段】使用後のフッ化水素酸と硝酸の混酸の廃液を原料とし、次の(a)〜(c)の順に処理する。(a) 廃液に含まれるフッ化水素酸に過剰の酸化ケイ素化合物を反応させ、ケイフッ化水素酸に変換する。(b) (a)でケイフッ化水素酸に変換した後の廃液に、過剰のアルカリ金属塩を添加し、アルカリ金属ケイフッ化物を製造する。(c) (b)によりアルカリ金属ケイフッ化物を製造した後、分離した液とアルミニウム化合物、または、ホウ素化合物とを反応させ、液に含まれるケイフッ化水素酸の構成元素であるフッ素を非揮発性のフルオロアルミン酸または高沸点性のホウフッ化水素酸に変換してから、蒸留法によって硝酸を製造する。
【効果】高純度のアルカリ金属ケイフッ化物と硝酸を製造することができる。 （もっと読む）

本発明は、ハロゲンシランからヒドリドシランを製造するための方法において、ａ）ｉ）一般式Ｓｉ_nＸ_2n+2［式中、ｎ≧３であり、かつＸ＝Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ及び／又はＩである］の少なくとも１のハロゲンシランと、ｉｉ）一般式ＮＲＲ’_aＲ’’_bＹ_c［式中、ａ＝０又は１であり、ｂ＝０又は１であり、かつｃ＝０又は１であり、かつ式（Ｉ）であり、その際、ａａ）Ｒ、Ｒ’及び／又はＲ’’は、−Ｃ₁〜Ｃ₁₂−アルキル、−Ｃ₁〜Ｃ₁₂−アリール、−Ｃ₁〜Ｃ₁₂−アラルキル、−Ｃ₁〜Ｃ₁₂−アミノアルキル、−Ｃ₁〜Ｃ₁₂−アミノアリール、−Ｃ₁〜Ｃ₁₂−アミノアラルキルであり、かつ／又は、基Ｒ、Ｒ’及びＲ’’のうち２つ又は３つは、ｃ＝０である場合には、一緒になって、Ｎを含む環式又は二環式、複素脂肪族又は複素芳香族系を形成するが、但し、基Ｒ、Ｒ’又はＲ’’のうち少なくとも１つは−ＣＨ₃ではなく、かつ／又は、ｂｂ）Ｒ及びＲ’及び／又はＲ’’は、（ｃ＝１である場合には）−Ｃ₁〜Ｃ₁₂−アルキレン、−Ｃ₁〜Ｃ₁₂−アリーレン、−Ｃ₁〜Ｃ₁₂−アラルキレン、−Ｃ₁〜Ｃ₁₂−ヘテロアルキレン、−Ｃ₁〜Ｃ₁₂−ヘテロアリーレン、−Ｃ₁〜Ｃ₁₂−ヘテロアラルキレン及び／又は−Ｎ＝であるか、又は、ｃｃ）（ａ＝ｂ＝ｃ＝０である場合には）Ｒ＝≡Ｃ−Ｒ’’’（但し、Ｒ’’’＝−Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アルキル、−Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アリール及び／又は−Ｃ₁〜Ｃ₁₀−アラルキルである）である］の少なくとも１の触媒とを、一般式Ｓｉ_mＸ_2m+2［式中、ｍ＞ｎであり、かつＸ＝Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ及び／又はＩである］の少なくとも１のハロゲンシランとＳｉＸ₄［式中、Ｘ＝Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ及び／又はＩである］とを含む混合物の形成下に反応させ、かつ、ｂ）一般式Ｓｉ_mＸ_2m+2の少なくとも１のハロゲンシランを、一般式Ｓｉ_mＨ_2m+2のヒドリドシランの形成下に水素化することを特徴とする方法、該方法により製造可能なヒドリドシラン及びその使用に関する。
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【課題】本発明は、太陽電池用シリコンを安定かつ安価に提供する。
【解決手段】太陽電池用シリコンの製造方法のある態様は、ゼオライトを含有した珪素含有物質を炭素含有物質の存在下で塩素化することで四塩化珪素を得る工程（１）と、前記工程（１）によって得られた四塩化珪素を分離精製する工程（２）と、前記工程（２）において精製された四塩化珪素と亜鉛ガスを反応させることで多結晶シリコンを得る工程（３）とを備える。 （もっと読む）

【課題】真空乾燥装置を用いて溶媒中に微粒子が分散されてなる原料スラリーを乾燥した場合に、得られる粉体内のＦｅ含量の低減を図る。
【解決手段】外部加熱され、減圧に保持された加熱管の一端が原料スラリーの供給部に接続され、他端が減圧に保持された粉体捕集室に接続されている真空乾燥装置を用いて、溶媒中に平均粒子径１〜１０μｍの微粒子が分散された原料スラリーを乾燥して粉体を製造する方法であって、前記微粒子が、非晶質金属酸化物粒子、有機架橋重合体粒子または有機無機複合粒子であり、前記原料スラリーの前記加熱管への供給速度を１８Ｌ／ｈｒ以下にすることを特徴とする粉体の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】表面がプラスに帯電する性質が付与され、しかも、電子写真用トナー外添剤として使用した場合に、トナー用樹脂粒子への埋没が抑制され、良好な流動特性を付与することが可能な表面処理シリカ微粒子を提供する
【解決手段】表面にアミノ基とトリメチルシリル基を有し、ＢＥＴ比表面積が１５〜４５ｍ^２／ｇである表面処理シリカ微粒子であり、かかる表面処理シリカ微粒子は、低融点化されたトナー樹脂表面に外添した場合でも、樹脂への埋没が抑制され、機械的ストレスに対する耐性を高くすることが可能となる。また、プラスに帯電する性質を有しており、プラスに帯電させることが必要な電子写真用トナー外添剤として、極めて有用である。 （もっと読む）

【課題】反応炉の外壁を腐食させることなく、クロロシラン重合物を効率よく分解する。
【解決手段】クロロシラン重合物の分解方法であって、クロロシラン重合物およびＨＣｌを混合してなる原料ガスを予熱温度Ｔｉ［℃］に予熱する予熱工程と、予熱された前記原料ガスを分解炉内に滞留させる分解工程とを有し、前記分解工程での前記原料ガスの前記分解炉内における平均滞留時間ｔ［秒］とすると、Ｔ１≦Ｔｉ≦Ｔ２，Ｔ１＝６００×ｔ^{（−０．０５７）}−１５０，Ｔ２＝１９０×ｔ^{（−０．９）}＋４７０ただしｔ≦１０かつ４００≦Ｔｉ≦５５０を満たす。 （もっと読む）

【課題】トリクロロシランを製造するための方法および設備を提供する。
【解決手段】流動床反応器（１０１）中でシリコン粒子が四塩化ケイ素および水素および任意に塩化水素と反応されてトリクロロシラン含有生成物ガス流を形成し、トリクロロシラン含有生成物ガス流が出口（１１７）とその前にある特定の最大粒径以下のシリコン粒子のみが選択的通過することができる少なくとも１つの粒子分離機（１１８）備えている流動床反応器（１０１）からら排出され、そしてシリコン粒子が粒子分離機なしに、少なくとも１つのさらなる出口（１０９、１１２）を通って一定の間隔で又は連続的に反応器（１０１）から排出されることを特徴とする、前記方法、およびそのような方法を実施するのに適した第１の反応器（１０１）から排出されたシリコンが第２の反応器（１０２）に移され得るように接続されている第１の反応器（１０１）および第２の反応器（１０２）を有する、設備。 （もっと読む）

本発明は、モノシランを製造するためのシステムであって、トリクロロシランのための供給ライン（１０１）及び生成する四塩化ケイ素のための排出ライン（１０２）を有する反応カラム（１００）と、製造されたモノシランを前記反応カラムから取り出すことができる少なくとも１つの凝縮器（１０３）とを備え、前記反応カラムが、異なる温度で運転されかつ異なる触媒活性固形物を含む少なくとも２つの反応／蒸留反応領域（１０４、１０５）を含むシステムに関する。さらに、トリクロロシランの接触不均化によってモノシランを製造するための方法であって、前記不均化が、異なる温度で運転されかつ異なる触媒活性固形物を含む少なくとも２つの反応／蒸留反応領域（１０４、１０５）において実施される方法が記載される。
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【課題】本発明は、内部に空洞を有する微小なケイ素系ガラスビーズであって、ガラス相にナノ粒子を含むケイ素系ガラスビーズ及びその製造方法を提供する。さらに、該ガラスビーズ内部の空洞に、ガラス相中のナノ粒子と同一又は異なる種類のナノ粒子や医薬品分子等の機能性物質（蛍光、磁性、薬効等を有する物質等）を含むケイ素系ガラスビーズ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】内部に空洞を有する平均粒径２０ｎｍ〜１μｍのケイ素系ガラスビーズであって、該ケイ素系ガラス相にナノ粒子Ａを含むことを特徴とするケイ素系ガラスビーズ、さらに前記ケイ素系ガラスビーズ内部の空洞に機能性物質を含むガラスビーズに関する。 （もっと読む）

【課題】従来よりも低コストでシリコンの精製を実施することが可能なシリコンの精製装置を提供する。
【解決手段】固体シリコンの溶融、溶融シリコンからのリンの除去および溶融シリコンからの金属の除去の群から選択された少なくとも１種の処理を行なうための単数または複数の第１の処理室群と、処理のうち第１の処理室群とは異なる処理を行なうための単数または複数の第２の処理室群と、第１の処理室群を構成する少なくとも１つの第１の処理室と第２の処理室群を構成する少なくとも１つの第２の処理室とを連結する連結部とを備え、第１の処理室群にはそれぞれ、第１の耐熱性容器が設置され、第２の処理室群にはそれぞれ、第２の耐熱性容器が設置されており、第１の耐熱性容器から第２の耐熱性容器に溶融シリコンを移送可能に構成されているシリコン精製装置である。 （もっと読む）

【課題】酸性条件下での安定性が高く、金属不純物の含有量が低く、しかも濾過性が良好であるスルホン酸修飾水性アニオンシリカゾル及びその製造方法を提供する。
【解決手段】コロイダルシリカに、化学的にスルホン酸基に変換できる官能基を有するシランカップリング剤を添加した後、前記官能基をスルホン酸基に変換するスルホン酸修飾水性アニオンシリカゾルの製造方法、及びそれにより得られるｐＨ２以上の酸性においてゼータ電位が−１５ｍＶ以下であるスルホン酸修飾水性アニオンシリカゾル。 （もっと読む）