【課題】 コンポジット材料の充填材として有用な多孔質シリカ粒子を提供する。
【手段】 内部に粒子間空隙構造を有する多孔質シリカ粒子であって、該多孔質シリカ粒子の平均粒子径（ＰＤ）が０．５〜５０μｍ、比表面積が１０〜１００ｍ²／ｇであり、更に該多孔質シリカ粒子が下記１）〜３）の要件を満たすものであることを特徴とする多孔質シリカ粒子。
１）細孔容積が０．１０〜０．２５ｃｃ／ｇの範囲
２）細孔径分布（Ｘ軸：細孔径、Ｙ軸：細孔容積を細孔径で微分した値）におけるピーク値の細孔径（Ｄ１）が、２０〜１００ｎｍの範囲
３）（Ｄ１）×０．７５〜（Ｄ１）×１．２５ｎｍの範囲内の細孔径を有する細孔の合計細孔容積が、全細孔容積の７０％以上 （もっと読む）

【課題】アノード活物質、これを含むアノード、これを採用したリチウム電池及びその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、多孔性遷移金属の酸化物を含むアノード活物質、これを含むアノード、これを採用したリチウム電池及びその製造方法である。本発明のアノード活物質は、多孔性遷移金属の酸化物を含み、前記多孔性遷移金属の酸化物がＭｏ、Ｔｉ、Ｖ及びＷからなる群から選択された一つ以上の遷移金属の酸化物であるアノード活物質である。前記多孔性遷移金属の酸化物の気孔は、２ないし５０ｎｍの直径を有する。 （もっと読む）

【課題】膜に対して略垂直に配向したメソポーラスシリカ膜のメソ細孔中に金属ナノ粒子が内在する複合膜、及び複合膜の製造方法を提供する。
【解決手段】（１）メソポーラスシリカ膜のメソ細孔中に金属ナノ粒子が内在する複合膜であって、該メソポーラスシリカ膜が平均細孔周期１．５〜６ｎｍのメソ細孔構造を有し、かつ該メソ細孔が該膜表面に対して７５〜９０°の方向に配向している複合膜、及び（２）該メソポーラスシリカ膜と金属種を含む溶液又は電解質とを接触させた後に該金属種を還元し、該メソポーラスシリカ膜のメソ細孔中に金属ナノ粒子を析出させる複合膜の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】高温、高圧条件下においても安定的に使用でき、炭化水素の分離、特にオレフィン／パラフィン混合物の分離を行うことが出来る固体シリカ膜、それを用いた炭化水素分離膜及びその製造方法を提供する。
【解決手段】
固体シリカ膜は、不飽和炭化水素を選択的に透過させる多孔質であり、一価の炭化水素基を表面に有し、赤外吸収スペクトル測定で得られるシラノール基（Ｓｉ−ＯＨ）の３０００ｃｍ^−１のピーク強度が、シロキサン結合（Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ）の１５００ｃｍ^−１のピーク強度の１／１０以下である。炭化水素分離膜は、多孔性セラミックス支持体の表面に、上記固体シリカ膜が形成されている。本発明の炭化水素分離膜の製造方法は、酸素及び／又はオゾンと不活性ガスを含む混合ガスと、気化したシリカ源とを用いたＣＶＤ法によって、上記多孔性セラミックス支持体表面の細孔を閉塞するように上記固体シリカ膜を製膜する。 （もっと読む）

【課題】コラーゲン線維を鋳型として用いて、比表面積の大きい多孔質シリカを製造する方法を提供すること。
【解決手段】コラーゲン線維及びアルコキシシランをｐＨ０．１〜５の水溶液中で攪拌してコラーゲン線維とシリカとの複合体を形成する工程、及び該工程で得られたコラーゲン線維とシリカとの複合体を焼成又は酸処理してコラーゲン線維を除去する工程を含む多孔質シリカの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 大細孔径シリカゲルの当該大細孔内に、大細孔を閉塞することなく、微細シリカ粒子等からなる微細孔構造の層を更に形成し、当該微細孔構造により、処理液中の物質の吸着層や分離層、または、光触媒等の担持層、反応点等の機能を奏させて、当該大細孔シリカゲルの機能を一層高める。
【解決手段】 ５０−３５００ｎｍの細孔直径を有する大細孔径シリカゲル原体を準備する工程、当該大細孔シリカゲルを粒子径１−５０ｎｍの微細粒子を含むスラリーまたはゾル液で処理し、少なくとも当該微細粒子を含むスラリーまたはゾル液を、当該大細孔径シリカゲルの当該大細孔内に注入する工程、当該処理したシリカゲルを乾燥して当該微細粒子を当該大細孔内壁に固着させる工程を実施することにより、微細粒子が厚さ５−１００ｎｍで積層し、当該シリカゲル内に更なる微細孔構造を形成した二重細孔構造を有するシリカゲルが得られる。 （もっと読む）

【課題】バインダを利用せずに表面にゼオライトを含有し、かつ、開口による高速物質移動とミクロ孔による高い表面積と優れた表面機能を備えるハニカム状基体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、ハニカム構造体の表面にハニカム構造体の開口の面積より６桁以上小さい開口面積を有するミクロ孔が形成された、ゼオライトを含有するハニカム状基体に関する。また、本発明のハニカム状基体において、ハニカム構造体の表面にゼオライトが析出されてなることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】酵素−シリカ系ナノ空孔材料複合体担持マイクロリアクター及びその製造方法を提供する
【解決手段】酵素が、シリカ系ナノ空孔材料の細孔内に安定に固定されている酵素−シリカ系ナノ空孔材料複合体を担持したマイクロリアクターであって、酵素−反応基質間で相互作用を示すように、前記の酵素−シリカ系ナノ空孔材料複合体が、マイクロリアクターの流路内に担持された状態にあり、前記シリカ系ナノ空孔材料が、１）ケイ素原子と酸素原子を必須成分として含む化合物の多孔体であり、２）細孔のサイズが、直径で２〜５０ｎｍであり、３）全細孔容積が０．１〜１．５ｍＬ／ｇであり、４）比表面積が２００〜１５００ｍ^２である、ことからなる酵素−シリカ系ナノ空孔材料複合体担持マイクロリアクター、及びその製造方法。
【効果】様々な化学プロセスへの応用が可能な酵素反応場を有するシリカ系ナノ空孔材料担持マイクロリアクターを提供できる。 （もっと読む）

【課題】シングルナノ領域に周期性があり、かつ平均粒子径及び比表面積が小さい中空シリカ粒子、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】（１）粉末Ｘ線回折測定において、結晶格子面間隔（ｄ）が１〜１０ｎｍの範囲に相当する回折角（２θ）に１本以上のピークを示し、窒素吸着法によるＢＥＴ比表面積が３０ｍ²/ｇ以下である中空シリカ粒子の製造方法であって、中空構造でありかつ外殻部にメソ細孔を有するＢＥＴ表面積が１００ｍ²/ｇ以上のメソポーラスシリカ粒子のメソ細孔内に、非酸化性雰囲気での焼成により炭化する炭素含有化合物を充填し、非酸化性雰囲気下で８００℃以上で焼成して炭素支持体とした後、酸化性雰囲気下で加熱して、該炭素支持体を除去する工程を含む中空シリカ粒子の製造方法、及び（２）粉末Ｘ線回折測定において、結晶格子面間隔（ｄ）が１〜１０ｎｍの範囲に相当する回折角（２θ）に１本以上のピークを示し、平均粒子径が０．０５〜２μｍであり、かつ窒素吸着法によるＢＥＴ比表面積が３０ｍ²/ｇ以下である中空シリカ粒子である。 （もっと読む）

【課題】分散剤や樹脂等のバインダー成分がオープン孔内へ侵入するのを防止することができ、低屈折率性、低誘電性等の多孔質酸化物粒子の特性を維持することができる表面被覆多孔質酸化物粒子及び多孔質酸化物粒子の表面被覆方法を提供する。
【解決手段】本発明の表面被覆多孔質酸化物粒子は、酸化ケイ素等からなる多孔質酸化物粒子１の外周表面２に反応点５を形成し、この反応点５に有機高分子からなる被覆層６を結合して固定し、この被覆層６によりオープン孔３の開口端を封止するとともに、このオープン孔３内を親水性とし、この被覆層６の厚みを０．１ｎｍ以上かつ３０ｎｍ以下とした。 （もっと読む）

【課題】低湿度下でも高湿度下でも吸湿率が高いシリカゲル及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】全細孔容積が０．４５〜１．０ｃｍ^３／ｇであり、且つ、細孔直径２．５ｎｍ以下の領域に細孔分布のピーク（最大値）が存在することを特徴とするシリカゲル。珪酸アルカリ水溶液に鉱酸水溶液を加えて、ｐＨ１０．５〜１１．５でゾルを形成後、ゲル化させて、熟成前シリカヒドロゲルを得るゲル化工程と、該熟成前シリカヒドロゲルを、ｐＨ４〜７で一次熟成し、一次熟成シリカヒドロゲルを得る一次熟成工程と、該一次熟成シリカヒドロゲルを、ｐＨ０．５〜２で二次熟成し、二次熟成シリカヒドロゲルを得る二次熟成工程と、該二次熟成シリカヒドロゲルを乾燥し、シリカゲルを得る乾燥工程と、を有することを特徴とするシリカゲルの製造方法。 （もっと読む）

【課題】外殻部が有機基を有するケイ素化合物により構成され、平均細孔径が８ｎｍ以下のメソ細孔構造を有する、コアシェル構造のメソポーラスシリカ粒子、及びその効率的な製造方法を提供する。
【解決手段】〔１〕外殻部がメソ細孔構造を有するコアシェル構造のシリカ粒子であって、該外殻部の平均厚みが５〜７００ｎｍであり、該粒子の平均粒子径が０．０５〜１０μｍであり、該外殻部が有機基を有するケイ素化合物により構成され、その内部に水不溶性物質（ａ）を包含してなり、かつ該メソ細孔の平均細孔径が１〜８ｎｍである、コアシェル構造のメソポーラスシリカ粒子、及び〔２〕水不溶性物質、第四級アンモニウム塩、及び有機基を有しかつ加水分解によりシラノール化合物を生成するシリカ源を含有する分散液を調製し、１０〜１００℃で撹拌して、第四級アンモニウム塩とシリカを含む複合体を析出させ、該複合体から第四級アンモニウム塩を除去する、コアシェル構造のメソポーラスシリカ粒子の製造方法である。 （もっと読む）

ＣＯＫ−１０で示される、一群の新規な、秩序化したメソポーラスシリカ材料は、温和な酸性もしくは中性のｐＨ条件下において、両親媒性ブロック共重合体と、任意で用いられるテトラアルキルアンモニウム化合物とを組み合わせることによって合成される。そのメソポアサイズは、実質的に均一であり、４〜３０ｎｍの範囲内であり、合成条件を状況に合わせて変化させることによって微調整することができる。ＣＯＫ−１２で示される、一群の新規な、２Ｄ−六方晶系の秩序化したメソポーラスシリカ材料もまた、温和な酸性もしくは中性のｐＨ条件下において、両親媒性ブロック共重合体と、ｐＨが２より高く８未満のバッファーとを組み合わせることによって合成される。そのメソポアサイズは、実質的に均一であり、４〜１２ｎｍの範囲内であり、合成条件を状況に合わせて変化させることによって微調整することができる。これらの秩序化したメソポーラスシリカ材料は、難溶解性の薬物分子における製剤のためのキャリア材料として、および短時間作用型の利用のための経口薬物製剤として有用である。 （もっと読む）

【課題】低湿度及び高湿度での吸湿量が共に顕著に高いシリカゲル、シリカゲル担持ペーパー及びシリカゲル素子を提供することにあり、また合成が容易なシリカゲルの製造方法を提供すること。
【解決手段】細孔直径２．５ｎｍ以下の領域において細孔分布のピーク（最大値）が存在し、細孔直径１０〜２５ｎｍの合計細孔容積（Ｖ_１）と細孔直径２〜２５ｎｍの合計細孔容積（Ｖ_２）の比（Ｖ_１）／（Ｖ_２）が、０．１５〜０．４であるシリカゲル、その製造方法、これを担持してなるシリカゲル担持ペーパー及びシリカゲル素子。 （もっと読む）

【課題】均細孔径１ｎｍ未満のマイクロ細孔構造を有する中空シリカ粒子、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】（１）中空シリカ粒子であって、粉末Ｘ線回折測定において、結晶格子面間隔（ｄ）が１〜１０ｎｍの範囲に相当する回折角（２θ）に１本以上のピークを示し、結晶格子面間隔（ｄ）が１ｎｍ未満の範囲に相当する回折角（２θ）にピークを示さず、かつ外殻部が平均細孔径１ｎｍ未満のマイクロ細孔構造を有する中空シリカ粒子、（２）外殻部が平均細孔径１〜１０ｎｍのメソ細孔構造を有する中空シリカ粒子（Ａ）をシラン化合物（Ｂ）処理、又は７００〜９５０℃で焼成処理する工程を含む、前記中空シリカ粒子の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、特に高湿度条件下での耐熱性に優れ、化学安定性および寸法安定性を備え、１００℃を越える温度でも安定なプロトン伝導が達成可能な、新規なプロトン伝導性シリカを提供する。
【解決手段】Ｎａ含有量５００ｐｐｍ以下、Ｂ含有量１００ｐｐｍ以下のシリカ基材において、特定の固定アニオン基５種のうち少なくとも１種有するプロトン伝導性シリカを用いる。 （もっと読む）

【課題】絶縁性樹脂に高い絶縁性を付与することが可能なシリカゲル粉末を提供すること。
【解決手段】本発明のシリカゲル粉末は、比表面積が２００〜１０００ｍ²／ｇ、細孔分布曲線の主ピークの細孔直径が４ｎｍ以下であり、中空球の形状をしていることを特徴とする。このシリカゲル粉末は、中空球の形状をしている粉末珪酸アルカリと鉱酸とを、ｐＨ１以下の酸性領域で反応させることで得られる。中空球状の粉末珪酸アルカリとして、平均粒径が１０〜５００μｍのものを用いることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】分散剤や樹脂等のバインダー成分がオープン孔内へ侵入するのを防止することができ、低屈折率性、低誘電性等の多孔質酸化物粒子の特性を維持することができる表面被覆多孔質酸化物粒子及び多孔質酸化物粒子の表面被覆方法を提供する。
【解決手段】本発明の表面被覆多孔質酸化物粒子は、多孔質酸化物粒子１の外周表面２及びオープン孔３の内表面３ａを含めた表面全体をキャッピング剤４を用いて表面処理し、この外周表面２のキャッピング剤４のみを除去して改質処理を行ない、表面被覆剤の改質反応点５を形成し、この改質反応点５に、表面被覆剤から生成した被覆層６を結合させて固定するとともに、この被覆層６にてオープン孔３の内部に空隙を保持しつつその開口端を封止した。 （もっと読む）

【課題】
不透明度が高く、印刷インクの裏抜け（プリントスルー）防止適性、印刷適性（ブランケット汚れ）に優れ、記録面にインクジェットプリンターを用いて印字した際の印字濃度が高いインクジェット記録用紙を提供する。
【解決手段】
原紙の少なくとも片面に多孔性顔料と接着剤を含有するインク受容性塗工層を一層以上設けてなるインクジェット記録用紙であって、該原紙は二酸化ケイ素および／またはケイ酸塩から形成されたケイ素含有粒子を鉱酸溶液および硫酸アルミニウム溶液にて処理し、蛍光Ｘ線分析法によるケイ素とアルミニウムの比率を１００／０．０５〜１００／１０に制御した填料を含有することを特徴とするインクジェット記録用紙。 （もっと読む）

【課題】
不透明度が高く、印刷インクの裏抜け（プリントスルー）防止適性、印刷適性（ブランケット汚れ、パイリング、表面強度）に優れ、記録面にインクジェットプリンターを用いて印字した際の印字濃度が高いインクジェット記録用紙を提供する。
【解決手段】
原紙の少なくとも片面に多孔性顔料と接着剤を含有するインク受容性塗工層を一層以上設けてなるインクジェット記録用紙であって、該原紙が填料として比表面積が１５〜２００ｍ^２／ｇ、かつ細孔径が０．０５〜０．８０μｍである水和ケイ酸塩を含有することを特徴とするインクジェット記録用紙。 （もっと読む）