【課題】多孔構造体の材料として、様々な材料を適用できる多孔構造体及びその製造方法を提供するにある。
【解決手段】基板１上にナノサイズの金属微粒子２をアレイ状に形成し、次いで、該金属微粒子２上に第一の化合物をＶＬＳ成長法により選択的に成長させることによりナノワイヤである柱状構造３を形成し、引き続き、前記柱状構造３の高さよりも下まで前記基板上に第二の化合物４を充填した後、前記第一の化合物と前記第二の化合物４の反応性の違いを利用した選択エッチングにより前記第一の化合物である柱状構造３を除去して、微細孔４ａをアレイ状に有する構造体５を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、シリカゲル及びアルカリ金属若しくはアルカリ金属合金を含有する１族金属／シリカゲル組成物に関する。本発明による組成物は、段階０の物質、段階Iの物質、段階IIの物質及び段階IIIの物質として記載される。これらの物質は、調製法と化学的反応性の点で相違する。各々の連続的段階の物質は、下記の方法を用いて直接的に調製してもよく、或いは、先行段階の物質から調製してもよい。段階０の物質は、例えば、等温条件下又は室温若しくは室温よりも僅かに高い温度においてＮａとＫの液状合金をシリカゲル（多孔性ＳｉＯ_２）に急激に吸収させることにより、親金属の大部分の還元能を保持する弛緩性黒色粉末を形成させることによって調製してもよい。融点の低い１族金属をシリカゲルに吸収させると、穏やかな発熱反応によって段階Iの物質が形成される（該物質は、乾燥空気中では不安定な弛緩性の黒色粉末である）。段階Iの物質を４００℃まで加熱すると、段階IIの物質が形成される（該物質も弛緩性黒色粉末である）。この物質をさらに４００℃よりも高い温度まで加熱すると段階IIIの物質が形成される。この際、１族金属の一部が放出される。段階Iの物質、段階IIの物質及び段階IIIの物質は、１族金属の吸収後にシリカゲルを還元させると考えられる。本発明による好ましい１族金属／シリカゲル組成物は、ナトリウム、カリウム又はナトリウム−カリウム合金を含有するものであるが、ナトリウム及びナトリウム−カリウム合金を含有するものが最も好ましい。本発明による１族金属／シリカゲル組成物を各段階の物質は、アルカリ金属とこれらの合金に対して知られている方法と同じ方法において、多数の還元性有機物質と反応する還元剤として使用してもよい。

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本発明は、高い吸油性および高い構造性を有し、非晶質シリカ粒子に高い負荷をかけても吸油性がほとんど低下しない非晶質シリカ粒子を提供する。特にベンゼン吸着等温線法により得た細孔分布曲線において、ΔＶｐ／ΔＲｐ値（但し、Ｖｐは細孔容積［ｍｍ^３／ｇ］、Ｒｐは細孔半径［ｎｍ］）の最大値が２０ｍｍ^３/nm・ｇ^−１以上であり、ΔＶｐ／ΔＲｐ値が最大であるときの細孔ピーク半径が２０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である非晶質シリカ粒子を提供する。
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本発明は乾燥した沈降シリカから製作される熱及び又は音響絶縁板材の製造方法に関し、フィルタプレスにより沈降シリカ粒子を含有する水性分散体を圧縮ろ過して圧縮ろ過ケーキを形成し、次いで得られた圧縮状態の前記ろ過ケーキを乾燥することより乾燥沈降シリカを製造する。本発明はまた乾燥沈降シリカを用いて熱及び／又は音響絶縁材料、例えば耐熱材又は高温耐熱材を製造する方法に関する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、表面化学修飾基を多量に含み、膜乳化に適した細孔を有する多孔質シリカ膜を提供する。
【解決手段】本発明は、SiO₂を主成分とし、０．３〜５０ミクロン、及び５０ナノメートル以下の細孔を有する膜乳化用多孔質シリカ膜である。発明の多孔質シリカ膜は、相分離を利用したゾル―ゲル法によって調製することが好ましい。 （もっと読む）