【課題】高圧化・高負荷化・高速化された反応系においても、ポップコーンの発生が抑制され、高純度な多結晶シリコン棒を安定的に製造するための技術を提供すること。
【解決手段】本発明では、シリコン芯線上にシリコンを析出させて多結晶シリコン棒を得る多結晶シリコンの製造方法において、析出反応の初期段階（前段工程）では原料ガスを反応炉に大量に供給することにより反応速度を上げることはせず供給する原料ガスの濃度を高濃度とすることにより反応速度を上げ、当該前段工程の後の後段工程では反応炉内に原料ガスを高速で吹き込むことにより生じる高速強制対流の効果を利用してポップコーンの発生確率を低く抑えることとした。これにより、高圧化・高負荷化・高速化された反応系においても、ポップコーンが少なく、かつ、高純度な多結晶シリコン棒を、生産効率を低下させることなく製造することが可能になる。 （もっと読む）

【課題】内部に空洞を有するシリカ系粒子の圧縮強度および耐湿性を向上することで、高温高湿条件下において比誘電率の変化量および誘電正接の変化量が殆どない塗膜を形成できる半導体封止用樹脂組成物、および高い耐湿性を長時間維持できる基材を提供する。
【解決手段】シリカ系粒子は無孔質の外殻シリカ層の内部に空洞を有し、空隙率が２０〜９５体積％の範囲にあり平均粒子径が０．１〜５０μｍの範囲にある。シリカ系粒子の空洞は負圧であり、１３３ｈＰａ以下である。シリカ系粒子の圧縮強度は０．１〜２００ｋｇｆ／ｍｍ²の範囲にある。 （もっと読む）

【課題】１〜１０ｎｍの平均細孔径なるメソ細孔構造を有するシリカ殻からなるナノ中空粒子の簡便でかつ高い生産効率の製造方法を提供する。
【解決手段】界面活性剤水溶液と、ナノサイズに形状制御した炭酸カルシウムを混合することにより、界面活性剤ミセル構造を当該炭酸カルシウム表面に形成し、シリコンアルコキシドの反応により前記ミセル構造に対応したメソ細孔構造を有するシリカ殻からなるナノ中空粒子を製造する。 （もっと読む）

【課題】顔料内包シリカ系粒子の製造方法および顔料内包シリカ系粒子ならびに該粒子の用途を提供する。
【解決手段】下記の工程（ａ）〜（ｃ）からなることを特徴とする顔料内包シリカ系粒子の製造方法。（ａ）顔料分散珪酸アルカリ水溶液を熱風気流中に噴霧乾燥して顔料内包シリカ系粒子前駆体粒子を調製する工程。（ｂ）顔料内包シリカ系粒子前駆体粒子を酸水溶液に浸漬し、アルカリを除去する工程。（ｃ）乾燥・加熱処理する工程。前記顔料分散珪酸アルカリ水溶液の、ＳｉＯ２／Ｍ２Ｏモル比（但し、Ｍはアルカリ金属を示す。）は１〜５の範囲にあり、ＳｉＯ２濃度（ＣＳ）が１〜３０重量％の範囲にあり、顔料濃度（ＣＤ）とＳｉＯ２濃度（ＣＳ）との比（ＣＤ）／（ＣＳ）が０．００５〜２．３の範囲にあることを特徴とする顔料内包シリカ系粒子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】人工水晶原石から切り出した水晶片のα値を、赤外線分光光度計を用いずに、水晶片が含有する所定の複数の不純物元素濃度から、予め作成した線量計を用いて推定し、ＪＩＳ Ｃ ６７０４を用いて対応する赤外Ｑ値を評価し等級分けした水晶片を提供する。
【解決手段】人工水晶原石を所定のα値別に複数種類準備し、不純物元素の含有濃度をＸ軸にα値、Ｙ軸に測定された該含有濃度をそれぞれ前記所定の不純物元素毎にプロットして、不純物濃度との相関関係を示す検量線を準備する工程と、測定された前記水晶片に含有される前記所定の複数の所定の不純物濃度を、それぞれ前記検量線と対照して前記水晶片のα値を推定する工程と、前記α値をＪＩＳに規定する等級と対照させて赤外Ｑ値を評価する工程と、から赤外Ｑ値を評価し等級分けしたことを特徴とする水晶片。 （もっと読む）

【課題】表面移行性を維持しつつ塗膜形成時の面状欠陥が少なく、また層間の密着性が良好な塗料組成物、および前記塗料組成物の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも下記の原料（ａ）〜（ｅ）を含む分散液を、下記条件１，２を共に満たす反応温度の下で原料（ｂ）の残存率が２０％以下、原料（ｃ）の残存率が５０％以下となるまで反応させるポリマー修飾無機粒子の製造方法。原料（ａ）被修飾無機粒子、原料（ｂ）下記式（Ｉ）で表されるシリコーン化合物、Ｘ−Ｒ^１−ＳｉＲ^２_ｎ（ＯＲ^３）_３−ｎ・・・（Ｉ）、原料（ｃ）少なくとも１つのフルオロ化合物含有基と反応性二重結合とを有するフッ素化合物、原料（ｄ）加水分解触媒、原料（ｅ）ラジカル重合開始剤。条件１：原料（ｂ）の残存率が５０％となる時間が１０〜８０分、条件２：原料（ｃ）の反応率が５０％に達する時間が１５〜６０分。 （もっと読む）

【課題】結晶基板の上に、膜厚みの均一性に優れた凹凸膜が形成されたウエハを提供する。また、結晶基板の上に、膜厚みの均一性に優れた凹凸膜が形成されたウエハの製造方法を提供する。
【解決手段】結晶基板に凹凸膜が形成された凹凸膜付きウエハであって、該凹凸膜は、最大厚みの平均が０．０５〜５μｍであり、シロキサンオリゴマーを含み、Ｘ線光電子分光（ＸＰＳ）測定による炭素、酸素、ケイ素の各原子数の合計に対するケイ素原子の含有率が５〜３３ａｔｏｍ％であり、残膜厚みの均一性が２５％以下であることを特徴とする凹凸膜付きウエハ。
凹凸形状を表面に有する支持体フィルムの上に、最大厚みの平均が０．０５〜５μｍであり、シロキサンオリゴマーを含み、Ｘ線光電子分光（ＸＰＳ）測定による炭素、酸素、ケイ素の各原子数の合計に対するケイ素原子の含有率が５〜３３ａｔｏｍ％である凹凸膜が積層された転写フィルムから、結晶基板の上に前記凹凸膜を転写することを特徴とする凹凸膜付きウエハの製造方法。 （もっと読む）

【課題】粗粉が少なく、且つ固形分濃度が高いシリカ粒子分散液の製造方法を提供すること。
【解決手段】シリカ粒子と溶媒とを含有するシリカ粒子分散液を準備する分散液準備工程と、シリカ粒子分散液を濃縮する一次濃縮工程と、一次濃縮工程後、シリカ粒子分散液に、疎水化処理剤を添加する添加工程と、添加工程後、シリカ粒子分散液を濃縮する二次濃縮工程と、を有するシリカ粒子分散液の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】高品質な多結晶シリコンインゴットを作製する。
【解決手段】坩堝２０の周囲に配置された３ｎ個(ｎは自然数)の抵抗加熱ヒータに３相交流を供給し、３相交流によって生じる回転磁場を作用させつつ、坩堝２０内のシリコンを加熱して溶解させる加熱工程と、上記回転磁場を作用させつつ、坩堝２０の底部から上部に向けて冷却してシリコンを凝固させる冷却工程と備える。 （もっと読む）

【課題】トナーの外添剤として用いた場合に、トナーの転写維持性及びフィルミングが向上するシリカ粒子の提供。
【解決手段】体積平均粒径が８０ｎｍ以上３００ｎｍ以下であり、平均円形度が０．９２以上０．９３５以下であり、円形度幾何標準偏差が1.02以上1.15以下であるシリカ粒子。 （もっと読む）

【課題】水等の液体と接触しても崩壊しにくく、且つ十分な断熱性能を示す成形体、上記成形体が外被材に収容された被包体、上記成形体の製造方法並びに上記成型体及び／又は被包体を使用した断熱方法を提供する。
【解決手段】シリカを含み、細孔を有しており、細孔径が０．００３μｍ以上１５０μｍ以下である細孔の積算細孔容積Ｖ_{０．００３}に対する、細孔径が０．０５μｍ以上０．５μｍ以下である細孔の積算細孔容積Ｖの割合Ｒが７０％以上であり、細孔径が０．０５μｍ以上１５０μｍ以下である細孔の積算細孔容積Ｖ_０．０５が０．５ｍＬ／ｇ以上２ｍＬ／ｇ以下であり、３０℃における熱伝導率が０．０５Ｗ／ｍ・Ｋ以下である、成形体。 （もっと読む）

【課題】反射光の低減とガスバリア性を共に付与せることが可能なシリカ膜前駆体材料、これを用いたシリカ膜及び前記シリカ膜を形成させたガスバリア防眩成形体を、提供する。
【解決手段】シリカ前駆体であるシラザン化合物、層状粘土鉱物及び有機溶剤を含むシリカ膜前駆体材料を基材上に塗布し、加熱処理、加湿処理、紫外線照射処理、又は、前記加熱処理と紫外線照射処理とを同時に行う処理の何れかによりシリカ膜を形成し、ガスバリア防眩成形体とする。 （もっと読む）

【課題】付着対象物表面の凹部への移動を抑制するシリカ粒子を提供する。
【解決手段】第１のシリカ粒子と、前記第１のシリカ粒子の表面に付着し、粒径が前記第１のシリカ粒子よりも小さく、平均円形度が０．７以上０．８５以下である第２のシリカ粒子とを有するシリカ粒子である。 （もっと読む）

【課題】結晶性が高く、微細であり、しかも不純物量の少ないＭｇ₂Ｓｉ微粒子及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】比表面積が３０ｍ²／ｇ以上であり、Ｍｇ₂ＳｉのＸＲＤ最強線強度（Ｉ_Mg2Si）に対するＳｉのＸＲＤ最強線強度（Ｉ_Si）の比（＝Ｉ_Si×１００／Ｉ_Mg2Si）が５．０％以下であるＭｇ₂Ｓｉ微粒子。このようなＭｇ₂Ｓｉ微粒子は、Ｎａ−Ｓｉ系化合物及びＭｇのハロゲン化物、並びに、必要に応じてＮａを、Ｍｇ／Ｓｉ比（モル比）が２以下となり、かつ、Ｎａ／Ｓｉ比（モル比）が１以上９以下となるように配合し、配合物を、０．７Ｔ_min以上Ｔ_min未満の温度（但し、Ｔ_minは、前記Ｎａ−Ｓｉ系化合物の融点、共晶点、及び分解温度の内の最も低い温度）で加熱し、反応物を溶媒で洗浄し、未反応原料及び副生成物を除去することにより得られる。 （もっと読む）

【課題】ＣＭＰ用研磨材等の研磨材として好適な異形シリカゾルを提供する。
【解決手段】本異形シリカゾルは、動的光散乱法の測定により得られた平均粒子径（ｒ）と窒素吸着法により測定された平均比表面積から算出した等価球換算粒子径（ｒ′）の比（ｒ／ｒ′、以下「会合比」と称する。）が１．２〜１０の範囲にあり、等価球換算粒子径（ｒ′）が５〜２００ｎｍの範囲にあり、比表面積が１３〜５５０ｍ^２/ｇの範囲にあって、形状が不均一な異形シリカ微粒子が溶媒に分散した異形シリカゾルであって、該異形シリカ微粒子の含有するＣａおよびＭｇの割合（酸化物換算）が、ＳｉＯ_２分に対してそれぞれ１０００ｐｐｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】
シリカ膜の形成において、膜厚が厚くクラックの発生を抑えたシリカ膜の容易な形成方法を提供する。
【解決手段】
本発明は、シリカ膜の形成において、プレカーサとして条件を制御したシリコンアルコキシドの加水分解・脱水縮重合物にシリカフィラーを０〜５０ｖｏｌ％になるように混合した組成物を用い、プレカーサに紫外線を照射することによって、加熱することなくクラックの発生を抑えたシリカ膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】成形時や充填時における飛散や成形欠陥の発生を抑制することが可能であり、且つ十分な断熱性能を示す粉体、成形体、被包体及び粉体の製造方法を提供する。
【解決手段】シリカ及び／又はアルミナを含み、平均粒子径Ｄ_Ｓが５ｎｍ以上３０ｎｍ以下である複数の小粒子と、シリカ及び／又はアルミナを含み、平均粒子径Ｄ_Ｌが４０ｎｍ以上１００μｍ以下である複数の大粒子とを含む粉体であって、小粒子の質量と大粒子の質量の合計に対する大粒子の質量の割合Ｒ_Ｌが６０質量％以上９０質量％以下であり、３０℃における熱伝導率が０．０５Ｗ／ｍ・Ｋ以下である粉体。 （もっと読む）

【課題】 ゾル−ゲル法によって得られる、小粒径の一次粒子径を有する球状の無機酸化物粒子よりなり、金属不純物量が少なく、且つ、弱い力で解砕することが可能な乾燥状態の無機酸化物粉体を提供する。
【解決手段】 ゾル−ゲル法によって得られる、メジアン径が０．０１〜５μｍの球状の無機酸化物粉体であって、金属塩が粒子表面に存在せず、且つ、該無機酸化物粉体の水分散液について、レーザー回折散乱法により測定される粒径分布曲線のピーク極大値が１つであり、且つメジアン径の１０倍以上の径の粒子の体積頻度が０．１％以下である、乾燥状態の無機酸化物粉体である。 （もっと読む）

【解決課題】シリコンを溶融するときに、溶融し易く、且つ、表面酸化を受け難い高純度シリコン及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】棒状、粒状若しくは板状のシリコン、又は棒状、粒状及び板状のもののうちの少なくとも１種が複数接合したシリコンであり、径が２ｍｍを超える部分の割合が７５質量％以上であることを特徴とする高純度シリコン。 （もっと読む）