【課題】予め選択された平均凝集体粒子直径を有する凝集体金属酸化物粒子の分散体を調製する方法を提供する。
【解決手段】金属酸化物粒子の平均凝集体粒子直径における所望の低下百分率を予め選択する工程、凝集体金属酸化物粒子の分散体に関する分散標準であって（ｉ）該分散体の固体濃度と（ｉｉ）該分散体が高せん断ミキサーにおいて粉砕された場合に起こる凝集体金属酸化物粒子の凝集体粒子直径における低下百分率とを関連付ける分散標準を提供する工程、並びに凝集体金属酸化物粒子の分散体を該標準によって決定された固体濃度の１０％以内の固体濃度で高せん断粉砕装置において調製及び粉砕し、所望の平均凝集体粒子直径を有する凝集体金属酸化物粒子の分散体を提供する工程を含む方法が提供される。さらに、凝集体金属酸化物粒子の平均凝集体粒子直径を低減するための方法及び当該方法によって調製された分散体が提供される。 （もっと読む）

【課題】望ましい研磨及び清掃性だけでなく優れた増粘性を示す歯磨剤内への配合が容易なシリカ系歯科用研磨剤を提供する。
【解決手段】現場製造されたゲル／沈降シリカの複合材料であって、該複合材料は２０〜８５体積％のシリカゲルを含み、ここで該複合材料は１５０ｍｌ／１００ｇより大きいアマニ油吸収を示し、そして該複合材料は約１．０〜５．０ｍｇ損失／１００，０００回転の範囲の１０％Brass Einlehner硬度を示す複合材料。 （もっと読む）

【課題】増粘特性と研磨特性に優れたゲル／沈降シリカの複合材料、及び該複合材料を含有する歯磨配合物の提供。
【解決手段】５〜５０体積％のシリカゲルを含み、該複合材料は４０〜１００ｍｌ／１００ｇの範囲のアマニ油吸収を示し、そして該複合材料は５〜３０ｍｇ損失／１００，０００回転の範囲の１０％Ｂｒａｓｓ−Ｅｉｎｌｅｈｎｅｒ硬度を示す複合材料、および該複合材料を含有する歯磨配合物。該複合材料は、３〜２０μｍのメジアン粒径を示す粒子の形態であることが好ましい。 （もっと読む）

本発明は、沈降シリカ、特に粉体形状の沈降シリカの製造方法に関する。本発明はまた、得られる沈降シリカ、その使用、特にシリコーンエラストマーマトリックス又はシリコーンペーストをベースとするマトリックスを補強するためのその使用にも関する。 （もっと読む）

本発明は、沈降シリカの製造方法であって、（ｉ）２〜５のｐＨを有する水性原料を形成させ、（ii）反応媒体のｐＨを２〜５に維持するように、珪酸塩と酸とを同時に添加し、（iii）珪酸塩をｐＨ値が７〜１０になるまで添加し、（iv）ｐＨを７〜１０に維持するように、珪酸塩と酸とを同時に添加し、（ｖ）酸をｐＨが２．５〜５．３となるまで添加し、（vi）該反応媒体と該酸及び該珪酸塩とを、ｐＨを２．５〜５．３に維持するように接触させ、（vii）ｐＨを４．７〜６．３にまで上昇させるように珪酸塩を添加することからなる。 （もっと読む）

【課題】塩化セチルピリジニウムを含んでいる歯磨き剤に用いる沈降シリカ製品を提供すること。
【解決手段】沈降シリカは、水銀圧入によって測定されるように、６ｍ²／ｇを下回る５００オングストロームより大きい直径を有する全ての細孔のための累積表面積を有する多孔性シリカ粒子を含み、そして約８５％を超えるパーセンテージ塩化セチルピリジニウム（％ＣＰＣ）親和性を有する。沈降シリカ製品は特に塩化セチルピリジニウムを含んでいる歯磨き剤に用いるのに適している。そして、有意義なレベルの低表面積シリカ製品に付着せず、このように抗菌作用に利用できるままである。シリカ製品を作製するためのプロセスは、ＣＰＣとのこの種の親和性を強化するために異なるプロセスステップの間に、硫酸ナトリウム粉の導入が含まれる。 （もっと読む）

少ない研磨性と実効的な洗浄特性をもち、口腔用組成物内に使用されるものであり、シリカを粉砕し分類して粒子の油吸収値が１５０ｃｍ^３／１００ｇになるように製造し、重量平均粒度ｄ_５０が３μｍ未満であり、重量比で９０％の粒子がｄ_９０の値より小さい粒度を持つとしたときのｄ_９０が６μｍ以下である、無定形沈降シリカ。 （もっと読む）

研磨組成物の製造法、更に詳しくは、優れた清掃性能と低研磨性を有する沈降シリカ研磨組成物の製造法を提供する。該製造法は、研磨粒子の反応器後サイジングを直接湿式粉砕及び遠心分離によって実施し、所望によりその後、真空脱水及び解凝集と組み合わせた水圧チャンバプレスフィルタリングを行う。特定の粒径範囲を標的にすることにより、高い被膜清掃レベルが、シリカ製品自体の象牙質研磨性まで増大することなく達成できることが分かった。その結果、特に望ましい清掃利益を示すそのような分級研磨シリカ製品を含む歯磨剤が、歯の硬質表面に悪影響を及ぼすことなく改良された歯磨き、ホワイトニングなどのために提供できる。本発明はまた、この選択的プロセススキームによる製品及びそのような特製及び分級シリカ製品を含有する歯磨剤も包含する。 （もっと読む）

研磨組成物の製造法、更に詳しくは、優れた清掃性能と低研磨性を有する沈降シリカ研磨組成物の製造法を提供する。該製造法は、研磨粒子の反応器後サイジングを直接湿式粉砕及び遠心分離によって実施し、所望によりその後、真空脱水及び解凝集と組み合わせた水圧チャンバプレスフィルタリングを行う。特定の粒径範囲を標的にすることにより、高い被膜清掃レベルが、シリカ製品自体の象牙質研磨性まで増大することなく達成できることが分かった。その結果、特に望ましい清掃利益を示すそのような分級研磨シリカ製品を含む歯磨剤が、歯の硬質表面に悪影響を及ぼすことなく改良された歯磨き、ホワイトニングなどのために提供できる。本発明はまた、この選択的プロセススキームによる製品及びそのような特製及び分級シリカ製品を含有する歯磨剤も包含する。 （もっと読む）

表面積が低く、フレーバー適合性が高められた沈降シリカ生成物である。本沈降シリカ生成物は、特に、塩化セチルピリジニウムを含む歯磨き剤における使用によく適合し、この表面積が小さいシリカ生成物に有意義なレベルで付着しないため、抗菌作用が保持される。この表面積が小さいシリカ生成物を製造する方法も提供される。 （もっと読む）

本発明は、シリカの異方性凝集体を製造するにあたり、ａ）少なくとも１種の重合体を未凝集の及び（又は）水性媒体中で高い分散を示すシリカの粒子と０．０２〜２ｍｇ／ｍ²の比Ｒ（シリカ粒子の表面積に対する重合体の重量）で接触させ、その際にシリカ粒子の表面静電荷の値が塩を添加してない水性相で７以上のｐＨで測定したシリカ粒子の表面電荷の値以上であるようにし、ｂ）工程ａ）で得られた凝集体を熱処理か又は無機化合物の沈澱のいずれかにより団結させる工程を含むシリカの異方性凝集体の製造方法に関する。また、本発明は、シリカの基本粒子の鎖からなるシリカの凝集体であって、その粒子の数が５〜１５個であり、基本粒子の少なくとも８０％が２個以下の粒子と接触しており且つ凝集体のうちの２点間の測定できる最大距離が基本粒子の平均径の５倍以内であるシリカの凝集体に関する。 （もっと読む）

多孔質シリカ粒子を含む沈降シリカであって、前記多孔質シリカ粒子は、直径が５００Å超の全ての孔に関して、累積表面積が８ｍ²／ｇ未満（水銀圧入法によって測定）であり、百分率塩化セチルピリジニウム（％ＣＰＣ）適合性が約５５％超である。本沈降シリカ生成物は、特に、塩化セチルピリジニウムを含む歯磨き剤における使用によく適合し、この表面積が小さいシリカ生成物に有意義なレベルで付着しないため、抗菌作用が保持される。本シリカ生成物の製造方法も提供される。 （もっと読む）