【課題】発光強度の強いナノ粒子を提供する。
【解決手段】ナノ粒子１０は、炭化水素１と、シリコンナノ粒子２とを備える。炭化水素１は、８個のカーボンが繋がった構造、６個のカーボンが繋がった構造、８個のカーボンと１個の酸素とが繋がった構造、２個のカーボンと１個の酸素とが繋がった構造、および１個のカーボンと１個の酸素とが繋がった構造のいずれかからなる。シリコンナノ粒子２は、炭化水素１のカーボンまたは酸素に接続される。そして、シリコンナノ粒子は、２〜３ｎｍの粒径を有する。 （もっと読む）

【課題】スクリーン印刷工程に用いた場合に厚膜で印刷することができ、かつ、焼結性、貯蔵安定性に優れる無機微粒子分散ペーストを提供する。
【解決手段】エステル置換基にイソプロピル基を有する（メタ）アクリルモノマーに由来するセグメントを５０重量％以上含有する（メタ）アクリル樹脂と、無機微粒子と、有機溶剤とを含有することを特徴とする無機微粒子分散ペースト。 （もっと読む）

【課題】多結晶シリコンの製造原料であるトリブロモシランを高い選択率及び／又は高い収率で得ることができる製造方法を提供すること。
【解決手段】金属グレードシリコン及び臭化水素を３８０〜４５０℃、好ましくは３８０〜４３０℃で反応させ、蒸留により分離回収するトリブロモシランの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】高効率で、且つ高容量の非水電解質二次電池を提供する。
【解決手段】本発明の非水電解質二次電池は、正極と、負極と、非水電解質とを備え、前記負極は、負極集電体と、前記負極集電体の上に形成された負極活物質含有層とを含み、前記負極活物質含有層は、ケイ素と、酸素と、水素とを構成元素として含む負極活物質を含み、前記酸素の前記負極活物質中での含有量は、前記ケイ素に対して原子比で０．５以上１．５以下であり、前記負極活物質を構成する水素は、前記負極活物質を構成する酸素と結合していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 酸性領域で非常に安定なシリカ系微粒子分散ゾル、該ゾルの製造方法、および該分散ゾルを含む塗料組成物に関する。
【解決手段】 異方形状のシリカ系微粒子を含む分散ゾルであって、該シリカ系微粒子の表面が負電荷を有し、かつ該シリカ系微粒子の表面がアルミニウムで修飾されており、該アルミニウムの修飾量はＡｌ_２Ｏ_３換算基準でシリカ系微粒子の単位表面積当り０．０１×１０^−６〜２．０×１０^−６モル／ｍ^２の範囲にある。前記シリカ系微粒子の動的光散乱法により測定された平均粒子径（Ｄ１）が１５〜７０ｎｍの範囲にあり、ＢＥＴ法により測定された平均粒子径（Ｄ２）が１０〜５０ｎｍの範囲にあり、異形度（Ｄ１／Ｄ２）が１．５５〜４．００の範囲にある。 （もっと読む）

【課題】種々の金属イオンについて室温で高いイオン伝導性を示し、安価かつ簡便に製造可能な無機固体イオン伝導体とその製造方法およびそれを用いた電気化学デバイスを提供する。
【解決手段】無機固体イオン伝導体は、酸化ケイ素、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化セリウム、酸化ニオブ、酸化スズ、および酸化インジウムからなる群より選択される１または複数からなる非晶質の金属酸化物と、前記金属酸化物中に含有された１価、２価、または３価の金属イオンとを含み、２５℃（室温）において１×１０^−７Ｓ・ｃｍ^−１以上のイオン伝導度を有する。 （もっと読む）

【課題】本発明では、被表面処理部材の材質および形状を問わず、所望の位置に微細構造体を形成することができる、被表面処理部材の表面処理方法を提供することを目的とする。
【解決手段】被表面処理部材に対する表面処理方法であって、（ａ）被表面処理部材を準備するステップと、（ｂ）シリコン系高分子を含む表面処理剤を調製するステップと、（ｃ）前記被表面処理部材の少なくとも一部に、前記表面処理剤を設置するステップと、（ｄ）触媒を含み、ガス流が存在する環境下において、前記表面処理剤が設置された被表面処理部材を８００℃以上の温度で焼成することにより、ケイ化物の繊維状構造体を形成するステップであって、前記ガス流は、前記被表面処理部材の表面積５０ｍ^２あたり０．０１Ｌ／ｍｉｎ以上の流量で供給されるステップと、を有する表面処理方法。 （もっと読む）

【課題】高容量且つ充放電サイクル特性に優れるリチウムイオン二次電池が得られるアモルファス合金を提供する。
【解決手段】Ｓｉ及びＡｌを含み、さらにＦｅ、Ｃｒ、Ｎｉ及びＺｒから選ばれる少なくとも２種の元素を含み、Ｓｉの含有量（原子％）及びＡｌの含有量（原子％）の和が７０原子％以上９０原子％以下であって、下記式（１）を満たすアモルファス合金。
１＜（Ｓｉの含有量（原子％））／（Ａｌの含有量（原子％））＜３ （１） （もっと読む）

【課題】保持部材内面に容易に離型材層を形成でき、また、使用途中には離型材層が保持部材内面から剥離落下し難くて優れた離型性を発揮し、しかも、シリコン保持作業の終了後には保持部材内面から劣化した離型材層を剥離させ、新たな離型材層を形成することにより、容易に再生できる溶融シリコンの保持部材を提供する。
【解決手段】溶融シリコンを保持するための黒鉛製保持部材であって、保持部材の少なくとも溶融シリコンと接する部分には、離型材層として、窒化珪素粉末と熱硬化性フェノール樹脂との混合離型材を酸化雰囲気中２００〜３００℃の条件で熱硬化焼成させて得られた混合材料焼成層が形成されている溶融シリコンの保持部材である。 （もっと読む）

【課題】基体上に低反射膜を形成するための、単層膜において低屈折率且つ低反射率を有し、より簡便な方法で大面積の成膜が容易な低反射膜形成用塗布液およびその調製方法およびそれを用いた低反射部材を提供する。
【解決手段】基材に低反射膜を形成するための低反射膜形成用塗布液であって、コロイダルシリカに対して、酸化物換算で５質量％以上、４０質量％以下のニオブ化合物を含む分散液からなることを特徴とする低反射膜形成用塗布液。長径５ｎｍ以上、１００ｎｍ以下の棒状コロイダルシリカ、粒径５ｎｍ以上、５０ｎｍ以下の球状コロイダルシリカ、およびニオブ化合物を用いる。 （もっと読む）

【課題】共通に使用できる表面修飾方法を用いて、水と有機溶媒を交換することなく有機修飾されたゲルを製造する方法を提供する。
【解決手段】ａ）シリカ系ヒドロゲルをｐＨ３以上で形成し、次いでｂ）得られたヒドロゲルの表面をシリル化剤で処理して修飾して表面修飾ゲルとなし、次いでｃ）得られた表面修飾ゲルを、臨界温度・圧力に至らない条件下に乾燥する。 （もっと読む）

【課題】空隙率が高く、強度の高いシリカ系の中空粒子を得る中空粒子の製造方法、該中空粒子を用いた光学材料及び断熱材料を提供することにある。
【解決手段】コア粒子を有する溶液中にシリカ系材料を添加して乾燥を行った後、該コア粒子を除去することで、該シリカ系材料を有する中空粒子を製造する中空粒子の製造方法であって、該シリカ系材料を添加した後、該コア粒子を除去する前に、該シリカ系材料を架橋する架橋剤及び酸を添加することを特徴とする中空粒子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】低流動性の珪酸ナトリウム水溶液等をシリカ源とせず、反応性の高い非晶質シリカの供給源を低コストで確保するための殻物殻からの非晶質シリカの純化方法、この方法を利用した無機硬化性組成物の製造方法および無機硬化体の製造方法の提供。
【解決手段】非晶質のシリカが多く含まれる殻物殻を、所定の条件で燃焼させることにより、非晶質シリカの状態を維持したまま取り出し、これをシリカ源とすることで、低い流動性の珪酸ナトリウム水溶液等をシリカ源として使用する必要がなく、この流動性の問題が解決することができる。 （もっと読む）

【課題】比較的安価な無機ケイ酸塩をシリカの前駆体として用いて、セルロースとシリカ系材料の特性を併せ持つナノ複合材料の製造方法の提供。
【解決手段】 （ｉ）含水率８０％以上の再生セルロースゲル；及び（ｉｉ）低分子ケイ酸ナトリウム；由来の複合材料の製造方法であって、（Ａ−１）前記再生セルロースゲルを準備する工程；（Ａ−２）前記低分子ケイ酸ナトリウムの水溶液に、前記再生セルロースゲルを浸漬し、前記低分子ケイ酸ナトリウムが含浸された再生セルロースゲルを得る工程；（Ａ−３）上記（Ａ−２）で得られたゲルを無機酸水溶液に浸漬し、前記低分子ケイ酸ナトリウムを脱水縮合することによりシリカとする工程；及び（Ａ−４）上記（Ａ−３）で得られたゲルを水洗後、乾燥する工程；を有する、上記方法により、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】拡散ブロッキング構造、透明導電構造及びその製造方法を提供する。
【解決手段】透明導電構造は、基板ユニット、第１のコーティングユニット、拡散ブロッキング構造、第２のコーティングユニット、第３のコーティングユニット及び導電ユニットを備える。基板ユニットは、プラスチック基板を有する。第１のコーティングユニットは、プラスチック基板上に形成された第１のコーティングを有する。拡散ブロッキング構造は、第１のコーティングに形成され、複数の第１の酸化層を有する第１の酸化ユニットと、複数の第２の酸化層を有する第２の酸化ユニットを備え、前記複数の第２の酸化層と前記複数の第１の酸化層とは交互に積層されている。第２のコーティングユニットは、拡散ブロッキング構造に形成された第２のコーティングを有する。第３のコーティングは、第２のコーティングに形成された第３のコーティングを有する。導電ユニットは、第３のコーティング上に形成された透明導電構造を有する。 （もっと読む）

【課題】シラザン化合物を用いることで高価な真空装置を使用せず、低温処理ができ且つ短時間の処理で、蒸着法によるシリカ膜に匹敵する酸素ガスバリア性能を、合成樹脂成形体に付与させた酸素ガスバリア成形体を提供する。
【解決手段】合成樹脂成形体１と、この合成樹脂成形体表面の一部又は全部に設けられるシリカ膜２とを備え、前記シリカ膜が、シラザン化合物を前駆体とするものであって、前記シラザン化合物に、紫外線照射を行うと同時に加熱処理を行うことで形成され、酸素ガス透過度が、０．５ｍｌ／ｍ^２・ｄａｙ未満である酸素ガスバリア成形体。 （もっと読む）

【課題】優れた強度と耐熱性を有し、かつ、大きな面積又は大きな体積となるフォトニック結晶、フォトニック結晶ウエハ及びフォトニック結晶の製造方法を提供する。
【解決手段】実施の形態に係るフォトニック結晶の製造方法は、二酸化ケイ素球３と、ガリウム１及びヒ素２と、を密封容器５に封入する工程と、密封容器５を加熱してガリウム１及びヒ素２を融解させてヒ化ガリウム融液１３を生成した後、密封容器５の下方から鉛直上方に向けてヒ化ガリウム融液１３を固化させてヒ化ガリウム固体１４を生成し、二酸化ケイ素球３とヒ化ガリウム固体１４からなる混合体１５を得る工程と、混合体１５が得られた密封容器５を部分的に加熱することによって混合体１５の上部に溶融帯１９を形成し、溶融帯１９を鉛直下方に向けて移動させてヒ化ガリウム固体１４中に二酸化ケイ素球３を並べた混合体１５０を生成する工程と、を含むフォトニック結晶の製造方法。 （もっと読む）

【課題】強度、耐擦傷性、耐アルカリ性等が向上した反射防止性能に優れた透明被膜の形成に好適に用いることのできる新規シリカ系中空微粒子、該微粒子を用いた透明被膜形成用塗料および透明被膜付基材に関する。
【解決手段】平均粒子径（Ｄ_P）が25〜200nmの範囲にあり、表面に凸部を有し、該凸部の底面部の平均直径（凸_P）が平均粒子径（Ｄ_P）の1/40〜1/2の範囲にある（なお、平均粒子径は、任意の２０個の粒子について最長径（Ｄ_L）と最長径と直行する径（Ｄ_S）を測定し、粒子径を（Ｄ_L）＋（Ｄ_S）の１／２とし、その平均値とする。）ことを特徴とするシリカ系中空微粒子。さらに、当該シリカ系中空微粒子、マトリックス成分および極性溶媒を含むことを特徴とする透明被膜形成用塗料。 （もっと読む）

【課題】シリコンスラッジ中の固形分に含まれるグリコールの低濃度化が容易かつ安価に図れ、製鋼用の成分調整用添加剤原料として再利用が可能なワイヤソースラッジからのグリコール除去方法を提供する。
【解決手段】シリコンスラッジを、固形分のグリコール濃度が３重量％以下となる量の純水に分散させて希釈するので、固形分に含まれるグリコールの低濃度化が容易かつ安価に図れる。その後、シリコンスラッジを固液分離し、グリコールが除去された固形分を回収する。これにより、固形分が製鋼用の成分調整用添加剤原料として再利用ができる。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、比較的低温において効率的に半導体シリコン膜を製造する方法を提供することである。また、本発明の目的は、基材がポリマー材料を有する半導体積層体を提供することである。
【解決手段】半導体積層体（１１０）を製造する本発明の方法は、（ａ）基材上にシリコン粒子分散体膜を形成する工程、（ｂ）シリコン粒子分散体膜を乾燥して、未焼結半導体シリコン膜を形成する工程、及び（ｃ）未焼結半導体シリコン膜に光を照射して、半導体シリコン膜を形成する工程を含む。また、本発明の半導体積層体（１１０）は、基材（１１２）及び半導体シリコン膜（１１８）を有し、基材が、ポリマー材料を有し、半導体シリコン膜が、互いに焼結されている複数のシリコン粒子から作られており、且つ半導体シリコン膜のキャリア移動度が、１．０ｃｍ^２／Ｖ・ｓ以上である。 （もっと読む）