【課題】液体の前進および停止を任意のタイミングで制御することが可能な、コンパクトな流路チップ１００を提供する。
【解決手段】流路チップ１００は、第１開放路１１２、第２開放路１１３、第１導入路１０２、第１合流路１０３、及び、第１交差位置と第２交差位置との間、あるいは、第２交差位置に配設され、第１導入路１０２および第１合流路１０３から流路１１４へ導入される液体の流れを制御するバルブ１４１を備える。 （もっと読む）

【課題】超音波の放射面積を十分に確保し、超音波を均一に放射することができる超音波放射体を提供すること。
【解決手段】超音波放射体１５は、径方向に軸対称振動をする複数の振動体２１を備える。各振動体２１は、中心部に貫通孔２３を有し、その軸方向から見た平面視で正八角形状に形成されている。超音波放射体１５において、振動体２１の外面が接続された状態で該各振動体２１が複数行及び複数列からなるマトリクス状に規則正しく配列されている。超音波放射体１５は、行方向及び列方向において隣り合う振動体２１が交互に伸縮を繰り返すことにより各振動体２１から超音波を放射する。 （もっと読む）

【課題】２種類以上の性質の異なる表面状態を有する基板およびマイクロチップ並びにそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に金属パターンまたは金属酸化物パターンが形成され、上記金属パターンまたは上記金属酸化物パターン上に表面処理膜を形成することにより、２種類以上の性質の異なる表面状態を有する基板およびマイクロチップを提供する。 （もっと読む）

【課題】省エネルギー，省スペース，メンテナンスフリー化を達成し、気体中のサブミクロン粒子を容易に集塵し、かつガス吸収を同時に処理できる大型化の容易な高効率の気液接触装置・放散装置の提供。
【解決手段】気体と液体とを接触・混合させる気液接触方法および気液接触装置であって、気液接触装置１は、筒状の容器２の上流部に螺旋状の羽根体を内設した静止型流体混合器を第１の気液接触部３に配置し、第１の気液接触部３の下流部に螺旋状の羽根体を内設した静止型流体混合器を第２の気液接触部４に配置し、第１および第２の気液接触部３，４の上方に散水ノズル２２，２３を配置し、容器２の上流部から加圧または減圧された異種物質を含有している気体を導入し、散水ノズル２２，２３から液体を供給・噴霧し、第１の気液接触部３ではガス速度を２０〜１５０ｍ／ｓ、第２の気液接触部４ではガス空塔速度を０．５〜２０ｍ／ｓで通流させる。 （もっと読む）

【課題】リアクターの内部の状態を知ることができる化学反応装置を提供する。
【解決手段】液状の内容物が、上方に未充填空間を有した状態で水平方向に流れる横型のフロー式のリアクター１３と、マイクロ波を発生するマイクロ波発生器１４と、マイクロ波発生器１４の発生したマイクロ波を、リアクター１３の未充填空間に伝送する１以上の導波管１５と、リアクター１３と接続され、内容物が流通できる管であり、マイクロ波発生器１４の発生したマイクロ波の侵入を阻止できる属性を有する管であるマイクロ波侵入阻止管５１と、マイクロ波侵入阻止管内の内容物を介して、リアクター内の内容物の液面レベル位置を検出可能な検出部５２と、を備えることにより、リアクター１３内の液面レベル位置を知ることができる。 （もっと読む）

【課題】付加的な外部の支持部無しに、容易に、装置内で圧力を加えられた流体が発生するすべての力に耐えることができる装置を提供する。
【解決手段】流体処理装置は、第１のエンドピース１１及び第２のエンドピース１２と、第１のエンドピース１１と前記第２のエンドピース１２との間に配置される少なくとも１つの流体処理ユニット１３と、前記第１のエンドピース１１と前記第２のエンドピース１２との間に延びて、流体処理ユニット１３と、前記第１のエンドピース１１及び前記第２のエンドピース１２とを共に押し付けるように配置されたリテーナー２６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】内容物の量が変化しても、内容物に効率よくマイクロ波を照射することができる化学反応装置を提供する。
【解決手段】内部が仕切り板によって複数の室に仕切られており、液状の内容物が、上方に未充填空間を有した状態で水平方向に流れる横型のフロー式のリアクター１３と、マイクロ波を発生するマイクロ波発生器１４と、マイクロ波発生器１４の発生したマイクロ波を、リアクター１３の未充填空間に伝送する１以上の導波管１５と、を備え、リアクター１３は、内容物の量の変化に応じて液面の高さが変化しても、液面の面積が不変である形状を有している。 （もっと読む）

【課題】濾過時間及び乾燥時間を短縮することができるとともに、多用途に使用することができる濾過乾燥機を提供すること。
【解決手段】被処理物Ｗを処理する気体を選択的に供給する気体供給源５と、気体供給源５から気体を槽本体２内に導入するために攪拌翼３の背面及び槽本体２の上部にそれぞれ形成された供給口２Ａ、３Ａと、槽本体２内及び濾物の排出口２０Ａから気体を強制的に排出する強制排気手段６、７とを備え、気体供給源５から目詰まり防止用気体を攪拌翼３の背面に形成した供給口３Ａを介して濾過手段４の濾過面に向けて噴射しながら気体供給源５から加圧用気体を槽本体２の上部に形成された供給口２Ａから供給することにより被処理物Ｗを濾過した後、強制排気手段６、７によって槽本体２内の気体を排出しながら気体供給源５から乾燥用気体を攪拌翼３の背面に形成した供給口３Ａを介して濾物に向けて噴射することにより濾物を乾燥させる。 （もっと読む）

【課題】仮想円筒上に配置された各ランプ保護管に１本又は複数本の紫外線ランプを軸方向にずらして収容してなる直交流型の紫外線照射装置において、紫外線ランプの紫外線強度を精度よく計測して監視できるようにする。
【解決手段】仮想円筒上に配置された各ランプ保護管に１本又は複数本の紫外線ランプを軸方向にずらして収容してなる直交流型の紫外線照射装置であって、監視用紫外線強度計３２を強度計保護管３１が流路中心面１９と交差する中心位置に受光部３２ａを位置させて挿入し、受光部３２ａを包囲して遮光筒３２ｃを設け、遮光筒３２ｃの筒壁に軸方向及び周方向に分散させて紫外線を受光部に導く複数の導光孔３６を穿設し、各導光孔３６は各紫外線ランプ１４に設定された受光長から照射される紫外線を、各紫外線ランプ１４の位置に応じて受光部３２ａに導く位置に設けることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】内容物の流通時に短絡を防止できる、横型のフロー式のリアクターを有する化学反応装置を提供する。
【解決手段】内部が複数の仕切り板によって複数の室に仕切られており、液状の内容物が、上方に未充填空間を有した状態で水平方向に流れる横型のフロー式のリアクター１３と、マイクロ波を発生するマイクロ波発生器１４と、マイクロ波発生器１４の発生したマイクロ波を、リアクター１３の未充填空間に伝送する１以上の導波管１５と、を備え、内容物は、仕切り板の上方をオーバーフローで流れるものであり、各室において、流入側の堰高が、流出側の堰高より、流出側の仕切り板における越流深以上高い。 （もっと読む）

【課題】少なくとも１つの液滴を操作するためのマイクロ流体デバイスおよび方法を提供すること。
【解決手段】本デバイスは、平行であり、離間距離（Ｈ）だけ相互に離間された、第１のマイクロ流体表面および第２のマイクロ流体表面と、前記第１の表面の上に配置された少なくとも１つの第１の電気変位経路と、前記第２の表面の上に配置された少なくとも１つの第２の電気変位経路とを備える。第１の経路および第２の経路の少なくとも一方は、前記経路に沿って各流体フィンガを形成するように構成され、前記流体フィンガは、毛管作用により少なくとも１つの各液滴を生成することによって破裂する。第１の経路および第２の経路は、前記第１の表面と前記第２の表面との間の離間距離が、一方においては各流体フィンガにより形成される流体厚さよりも大きく、他方においては各液滴により形成される流体厚さよりも小さくなるように構成される。 （もっと読む）

【課題】結晶異方性エッチングにより安定的に流路を形成する流路デバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明によると、第１の幅を有する第１領域と、第１の幅より広い第２の幅を有する第２領域と、一端が第１領域に接続し、他端が第２領域に接続する接続領域と、を含む流路を備えた流路デバイスの製造方法であって、一主面が｛１１０｝面であるシリコン基板を準備し、シリコン基板の一主面上に｛１１０｝面と｛１１１｝面の交線に沿った第１の端部と、交線に直交し＜１１１＞方向に延びる第２の端部と、を含むマスクパターンを形成し、マスクパターンを介して結晶異方性エッチングを行うことにより、シリコン基板の一主面に前記流路を形成すること、を含み、第２領域の両側にそれぞれ配置された第２の端部は、互いに第１領域との距離が異なるように形成されることを特徴とする流路デバイスの製造方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】簡便で精度の高い分析を可能とするマイクロチップの提供。
【解決手段】流路において、流路壁の一部が変形することによって、流路内空へ突出して、流路が狭窄又は閉塞される逆流防止構造が形成されるマイクロチップを提供する。逆流防止構造が流路内に形成されることによって、ウェルに充填された溶液の逆流が妨げられ、ウェル間での溶液の通流による汚染が防止され、マイクロチップ内の複数のウェルにおいて、異なる分析を同時に行う場合であっても、精度の高い分析が可能となる。 （もっと読む）

【課題】 本発明が解決しようとする課題は、基板処理部の端部領域における紫外線照度の低下を抑制することで、照射エリアの大面積化を図ることが可能な紫外線照射装置を提供する。
【解決手段】 実施形態の紫外線照射装置は、紫外線処理される基板Ａが配置される基板処理部１と、基板処理部１と面するように格子状に配置された複数の紫外線照射ユニット２１を有する紫外線照射部２と、を具備する紫外線照射装置において、紫外線照射部２は、第１の紫外線照射ユニット２１Ａと、前記第１の紫外線照射ユニット２１Ａに対して基板処理部１の位置における紫外線照度のピーク値Ｐが高く、かつ、ピーク値Ｐの５０％の値以上を照射する照射面積Ｓが狭い第２の紫外線照射ユニット２１Ｂとを備え、紫外線照射部２の配列の少なくとも一部の行または列においてその中央領域に第１の紫外線照射ユニット２１Ａを、その端部領域に第２の紫外線照射ユニット２１Ｂを配列する。 （もっと読む）

【課題】少なくとも１つのパケットに対して汚染なしに化学的または物理的処理を行うためのマイクロ流体デバイスおよび方法を提供する。
【解決手段】マイクロ流体デバイス１において、該デバイスが、軸Ｘを有するマイクロチャネル２、および下記の少なくとも１つを含むパケット操作手段を含むところのデバイス、発電ユニット９、および上記発電ユニット９に連結されかつ、上記マイクロチャネルの少なくとも一部分の内部に、上記マイクロチャネルの軸Ｘと実質的に共線的である電場を作るように構成された電極アッセンブリ３、ここで、上記発電ユニット９は、マイクロチャネルにおいて少なくとも１つのパケットを変形させるまたは少なくとも２つのパケットを互いの方に移動させるような振幅および周波数を有する電場を発生させることができる。 （もっと読む）

【課題】立ち上がり時間とたち下がり時間が大幅に異なる交番電流をコイルに流すことにより、コイル周辺に生じる電界を、プラスあるいはマイナスに自由に変更する方法であって、この電界によって影響範囲にある液体、気体又は固体の電位を任意に変換する方法を開発・提供する。
【解決手段】気体、液体、固体の流路を形成する管体の外周にコイルを巻きつけ、該コイル周囲に、金属物質などを置くことにより、交番磁界の波形を歪ませて、片側の極性に大きく影響を与えることを特徴とする多重周波数電位変換方法であり、コイルに与える電流を、プラス側か、マイナス側か、どちらかの極性へ限定し、あるいは、立ち上がり時間と、たちさがり時間の大幅に異なる交番電流をコイルに流すことにより、コイル周辺に生ずる電界の最高強度を、プラスあるいはマイナスに自由に変更することを特徴とする多重周波数電位変換方法である。 （もっと読む）

【課題】
マイクロメータスケールの微小物質を基板の任意な位置に確実に堆積させる方法を提供する。
【解決手段】
内部に電極が挿入され、且つ、微小物質を溶剤に溶かした溶融液、或いは、溶剤に分散させて得られた微小物質を含む分散液が充填されているマイクロピペットを傾けて配置させ、その先端部が基板表面に近接するように位置決めし、適切な電圧を印加することで分散液のメニスカスを成長させ、基板表面に接触移動させることによって、マイクロメータスケールの微小物質を確実に堆積させる方法。 （もっと読む）

【課題】タクトタイムを短縮し、混合均一性を維持し、スラリー堆積を抑制する。
【解決手段】本発明に係る運転方法は、回転軸４に複数段のパドル翼５Ａ，５Ｂを保持して成る撹拌翼３と、撹拌槽２の軸挿通口１５において槽内をシールする軸封装置６とを備え、隣接２段のパドル翼５Ａ，５Ｂを上下方向にオーバーラップするように並べ、複数段のパドル翼５Ａ，５Ｂの全高Ｈが槽径Ｄの0.7倍以上である化学反応装置１に適用され、槽内に物質を投入する投入工程と、槽内の液面が最上段のパドル翼５Ｂよりも上方に位置する状態で回転軸４を所定回転速度で回転させることにより物質を撹拌する撹拌工程と、槽内から物質を排出する排出工程と、を備え、投入工程及び排出工程のうちの少なくとも何れかにおいて、槽内の液面が複数段のパドル翼５Ａ，５Ｂを通過する状態で回転軸４を所定回転速度以下の一定の回転速度で回転させる。 （もっと読む）

【課題】ナノストラクチャまたはマイクロストラクチャ表面に置かれた小滴の移動が、ナノストラクチャ・フィーチャ・パターンの少なくとも１つの特性または小滴の少なくとも１つの特性によって決定される方法および装置を提供する。
【解決手段】小滴の横方向の移動が、ナノストラクチャ・フィーチャ・パターンの少なくとも１つの特性によって、小滴がナノストラクチャ・フィーチャ・パターンに沿って所望の方向に移動するように決定される。他の実施形態では、小滴の移動が、ナノストラクチャ・フィーチャ・パターンの少なくとも１つの特性または小滴の少なくとも１つの特性によって、小滴が所望の領域のフィーチャ・パターンに侵入し、そこで実質的に不動化するように決定される。 （もっと読む）