プレート状物品の超音波湿式処理のための方法およびそれぞれの装置が開示され、この方法は、プレート状物品の表面に近接するトランスデューサに接続された固体要素を移送するステップであって、固体要素とプレート状物品との間に隙間が形成され、隙間は０．１ｍｍと５ｍｍとの間の距離ｄ２を有するような、ステップと、固体要素とプレート状物品との間の隙間を満たすための液体を分配するステップと、超音波を検出するおよび／または距離ｄ２を測定することによって距離ｄ２を制御するステップと、測定された距離を所望の距離ｄ０と比較し、それに応じて距離を調節するステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】親水性である微細流路を備えた基板の製造方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）アルカリ性溶液をケミカルエッチング液として用いることで、ポリイミド樹脂層１１をエッチングするとともに、該エッチングされた前記ポリイミド樹脂層１１の表面を親水性化する工程と、（Ｂ）前記エッチングされたポリイミド樹脂層１１に、他のポリイミド樹脂層１２，１３を積層することで流路を形成する工程と、を少なくとも行なうポリイミド樹脂製の流路基板の製造方法とすること。
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基板洗浄チャンバは、基板支持体に面する弧状面を有する輪郭付けされた天井電極を含み、弧状面と基板支持体との間のギャップの大きさを変えて基板支持体にわたり変化するプラズマ密度を与えるための可変断面厚みを有している。洗浄チャンバのための誘電体リングは、ベースと、峰部と、基板支持体の周囲リップをカバーする半径方向内方の張出部とを含む。ベースシールドは、少なくとも１つの周囲壁を有する円形ディスクを含む。洗浄チャンバのための洗浄及びコンディショニングプロセスについても説明する。 （もっと読む）

【課題】 マイクロ波非常に強く吸収し急激に加熱される物質、とりわけ炭素素材に強磁性超ナノ粒子や触媒活性ナノ粒子を坦持、内包させ、ナノ炭素素材を合成方法を提供する。
【解決手段】
炭素素材ｋｅｔｊｅｎｂｌａｃｋに前駆体である金属塩を混合し、マイクロ波照射加熱を行い、Ｐｔ／Ｃ，Ｆｅ／Ｃ，ＰｔＦｅ／Ｃ，ＰｔＲｕ／Ｃ等の磁性ナノ粒子や触媒活性ナノ粒子を合成する。 （もっと読む）

【課題】従来よりも高感度なプラズマ内励起種測定を行うための方法および装置を提供する。
【解決手段】プラズマ内に存在する励起種の緩和に伴う発光の検出において、ある励起種から放出される発光のうち特定のエネルギー準位間の緩和（遷移）のエネルギー準位を特定するエネルギー準位特定工程と、前記緩和（遷移）エネルギーに相当する波長の光をシード光（種光）として選択するシード光波長選択工程と、シード光波長選択工程で選択された波長の光をシード光としてプラズマ内に照射するシード光照射工程と、照射したシード光との相互作用により起きた発光を検出する発光検出工程と、前記発光検出工程で検出した発光から励起種を判定する励起種判定工程と、を具備することを特徴とするプラズマ内励起種測定方法。 （もっと読む）

【課題】ラジアルラインスロットアンテナを使ったマイクロ波プラズマ処理装置において、アンテナ中の遅波板とマイクロ波放射面を構成するスロット板との間の密着性を向上させ、異常放電を防止する。
【解決手段】スロット板１６を、遅波板１８と熱膨張率が近い材料により形成する。あるいはスロット板１６を、遅波板１８を構成する誘電体板上に、金属を付着させることにより形成する。 （もっと読む）

【課題】排気コンダクタンスの上昇を抑えつつプロセスガスを短時間で効率的に加熱できるようにした低コストの加熱装置、および、この加熱装置を用いてプロセスガスを高温に加熱して下流の長距離にわたりプロセスガスを高温に維持するプロセスガス処理システムを提供する。
【解決手段】加熱装置１の加熱流路部２００に複数枚配置されたフィン２２０の孔部２２１は、プロセスガスを螺旋状に案内しつつ流すように設けられている。孔部２２１を通過して螺旋状となったプロセスガスが円筒２１０およびフィン２２０から放射される熱により加熱され、反応副生成物の付着を防止する温度が下流の排気流路の終端まで維持されるプロセスガスとする。 （もっと読む）

【課題】プラズマの状態を乱すことなく、粒子密度を正確に測定できるようにすること。
【解決手段】プラズマ雰囲気の原子又は分子密度を吸光分光により測定する粒子密度測定プローブである。プラズマ雰囲気に設けられる円柱状の導光体２０であって、その先端部１３に、導光体を伝搬した光を反射する反射板１４と、その反射板の手前に、導光体の長手方向に垂直な断面において一部の壁面が欠落した部分が長手方向に所定長だけ形成され、この部分を通過する光とプラズマ雰囲気の原子又は分子とが接触可能にしたプラズマ導入部１５を有する。光伝搬体３２は、プラズマ導入部１５の手前に位置し側壁による全反射により光を軸方向に案内する。 （もっと読む）

【課題】多機能化により小型で且つ低コストな巻取式複合真空表面処理装置を提供する。
【解決手段】真空容器全体を真空引きする真空ポンプを備えた略円筒状の真空容器内に、一対のフィルム巻取巻出ロールと、真空容器と軸中心をほぼ一致させた回転可能キャンロールとを備え、容器周壁にキャンロールに対向して固定された複数の表面処理手段と、容器周壁とキャンロールの間をほぼ遮蔽するように表面処理手段が配置された処理ゾーンを一対のフィルム巻取巻出ロールから分離する一対の第１遮蔽板と、容器周壁に固定されてキャンロール近くまで延長し、処理ゾーン内を少なくとも２つの表面処理手段を含む複数の処理室に区画する複数の第２遮蔽板と、容器周壁にそれぞれ設置された各処理室用真空ポンプとを有し、各々の処理室において互いに異なる圧力やガス種の表面処理を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】ラジアルラインスロットアンテナを使ったマイクロ波プラズマ処理装置において、アンテナ中の遅波板とマイクロ波放射面を構成するスロット板との間の密着性を向上させ、異常放電を防止する。
【解決手段】スロット板１６を、遅波板１８と熱膨張率が近い材料により形成する。あるいはスロット板１６を、遅波板１８を構成する誘電体板上に、金属を付着させることにより形成する。 （もっと読む）

【課題】微粒子本来の機能を損なうことなく、任意の基材表面にパターン状に絶縁性微粒子を１層のみ並べたパターン状の単層微粒子膜、および複数層累積したパターン状の積層微粒子膜、ならびにそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】パターン状の微粒子膜１、３は、第１の官能基を有する第１の膜化合物の形成するパターン状の被膜で被覆された基材１４の表面に、第１の官能基とカップリング反応により結合を形成する第１のカップリング反応基を有する第１のカップリング剤の形成する被膜で被覆された反応性微粒子４２が配列した微粒子層が、カップリング反応により形成される結合を介して１層結合固定されている。あるいは、さらにその上に第１のカップリング反応基と反応する膜化合物の被膜で被覆された微粒子３４および反応性微粒子４２が交互に結合固定されている。 （もっと読む）

【課題】処理領域が不連続に設定されたワークに対してプラズマ処理を施す際に、速やかに安定な活性種をワークの処理領域に供給することができるプラズマ処理装置を提供すること。
【解決手段】プラズマ処理装置１は、１対の電極２、３と、電源回路７と、ガス供給手段８と、プラズマ噴出口５と、第１の状態と第２の状態とにプラズマ遮蔽部材５１を変位可能な遮蔽手段と、制御手段とを備え、制御手段により、遮蔽手段の作動を制御して、プラズマ遮蔽部材５１を第１の状態とすることにより、ワーク１０の被処理面１０１へのプラズマ処理を停止する非処理モードと、プラズマ遮蔽部材５１を第２の状態とすることにより、ワーク１０の被処理面１０１に活性種を接触させてプラズマ処理する処理モードとに切り替え可能なように構成されている。 （もっと読む）

【課題】紫外線の強度分布をより均一にするとともに、紫外線ランプの端部においても、十分な照射強度を得ることができる紫外線照射装置を提供する。
【解決手段】紫外線ランプ１１からの紫外線を反射して集光する集光反射板１２の開口部側に、上記紫外線ランプ１１の延長方向に垂直な反射面を有する平板状の追加反射板１３，１３を配置して、上記紫外線ランプ１１から上記開口部の外側に拡散する直接光をコンベヤベルト４０の内側に集光するようにした。 （もっと読む）

【課題】排気装置及びこれを含む基板処理装置、そして排気方法を提供する。
【解決手段】プロセスチャンバ内のガス及び反応副産物は排気ラインを通して排出される。排気ライン上には排出ポートが連結され、反応副産物は排出ポートを通して捕集される。排出ポートは、排気ラインの側壁に形成された排出口に連結され、捕集された反応副産物を格納する捕集筒と捕集筒を排気ライン上に連結する締結部材を含む。排気ラインは、第１及び第２排気ライン、そして連結ラインを含み、連結ライン上には排出口及びガイド面が形成される。 （もっと読む）

【課題】長尺細管を含む種々の被処理物の内面処理が可能な表面処理装置を提供する。
【解決手段】 管状の被処理物２１の一端から導入された処理ガスを、被処理物２１の他端から排気してガス流を生成するための真空ポンプ３２と、被処理物２１の一端側に配置され、放電開始初期にガス流に初期プラズマを供給する励起粒子供給系（１６，１７，１８）と、被処理物２１を挟むように互いに対峙して配置された第１主電極１１及び第２主電極１２と、初期プラズマを維持し、被処理物２１の内部にプラズマ流を生成するデューティ比１０^−７〜１０^−１の電気パルス（主パルス）を第１主電極１１及び第２主電極１２間に印加するパルス電源１４とを備え、プラズマ流に含まれるラジカルにより、被処理物２１の内面を処理する。 （もっと読む）

【解決手段】材料を実質的に大気圧のプラズマに曝す工程を含み、それにより、高価な真空装置およびポンプアセンブリを準備する必要性を取り除くと同時に、制御された作業環境においても持続的且つ迅速な処理を促進する、材料を処理するためのプラズマ処理方法である。処理される材料に応じて、複数の処理方法を用いることができる。 （もっと読む）

【課題】コストの増大を招くことなく、プラスチック部品の鮮映性（ＤＯＩ）及び塗膜密着性を向上可能な、プラスチック部品をプラズマ処理するための装置を提供する。
【解決手段】外側表面12及び内側表面14を有するプラスチック部品10をプラズマ処理するための装置が提供される。装置は少なくとも一つの取付具16を備える。取付具16は、互いに協働して外側表面12の一部を特定の公差内にて配設定する、支持構造体40、複数の位置決め機構42及び複数の保持装置44を含む。装置は、外側表面12に対して所定の経路に沿って移動するように構成される少なくとも一つの大気圧プラズマ・ノズル20を更に備え、そこにおいて大気圧プラズマ・ノズル20は、外側表面12の一部を覆う官能基を持つポリマー層を生成する部分にプラズマ・ジェット22を誘導する。 （もっと読む）

【課題】真空容器内部がマイクロ波の波長に比べて十分に広い空間になっていたとしても、そのマイクロ波を用いて、その真空容器内部でプラズマを効率良くかつ容易に発生できる装置、或いは、その真空容器内部で効率良くかつ容易にプラズマを発生させて高品質な薄膜の形成ができる装置を提供する。
【解決手段】マイクロ波を発生する発振器（６）と、マイクロ波を伝播させる導波管（１）と、マイクロ波のインピーダンスを調整する整合器（７）と、真空容器（８）と、前記導波管（１）と前記真空容器（８）とを分離する誘電体（２）と、前記誘電体（２）に接しているアース電極（３）と、前記アース電極（３）と垂直に設置され前記真空容器（８）にガスを導入するガスパイプ（４）とを備えることを特徴とするマイクロ波プラズマ発生装置。 （もっと読む）

【課題】電子ビーム照射対象体が筒状の立体的なものであっても、電子ビーム照射対象体に対して電子ビームの照射を、部分的に過剰に照射することなく、確実かつ容易に行うことのできる電子ビーム照射装置を提供すること。
【解決手段】電子ビーム照射装置は、真空状態が形成された内部に電子ビーム発生器が配設されてなり、当該電子ビーム発生器において発生した電子ビームを放射するための電子ビーム出射窓を有する電子ビーム管と、当該電子ビーム管を収容するための電子ビーム管収容空間を有するケーシングとを備えた電子ビーム照射装置であって、前記電子ビーム管の電子ビーム出射窓から放射される電子ビームの放射方向に伸び、電子ビーム出射窓から放射される電子ビームを導通するための電子ビーム照射ノズルが設けられていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】比較的簡単な構成で、ワークの処理面の形状に拘わらず、その形状に対応してプラズマ処理を施すことができるプラズマ処理装置を提供すること。
【解決手段】プラズマ処理装置１は、第１の電極２と、ワーク設置部２１の第１の電極２の対向側に位置し、外周面が前記ワーク設置部２１に設置されたワーク１０の処理面１１に対面するように設置され、中心軸を回動軸として回転可能な円筒状の第２の電極３とを有し、発生したプラズマにより処理面１１を処理するものであり、第２の電極３は、その外周面に、周方向に沿って、有効電極領域３１ａの幅が変化している部分を有し、この第２の電極３を、その中心軸を回動軸として回転させることにより、処理面１１と対面する有効電極領域３１ａの幅が変化するよう構成され、ガス供給手段５により、有効電極領域３１ａの幅の大きさに応じて、処理ガスを供給する幅も変化するよう構成されている。 （もっと読む）