本発明は、セラミック相（ＰＱ）およびバインダー相（ＲＳ）を含む、式（ＰＱ）（ＲＳ）（式中、Ｐは、Ｓｉ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗおよびそれらの混合物からなる群から選択される金属であり；Ｑは窒化物であり；Ｒは、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｍｎおよびそれらの混合物からなる群から選択される金属であり；Ｓは実質的に、Ｃｒ、Ａｌ、ＳｉおよびＹからなる群から選択される少なくとも一種の元素、並びにＴｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗおよびそれらの混合物からなる群から選択される少なくとも一種の反応性湿潤アリオバレント元素からなる）によって表されるサーメット組成物を含む。 （もっと読む）

【課題】空間的に均一な密度のプラズマを生成することができるプラズマ生成装置を提供する。
【解決手段】真空容器１１内に複数個の高周波アンテナ１６を配置し、各高周波アンテナ１６にインピーダンス素子１７を接続する。高周波電源２０に、銅板１８を介して複数の高周波アンテナ１６を並列に接続する。各インピーダンス素子１７をそれぞれ適切な値に調節することにより、高周波電源２０から各高周波アンテナ１６に供給される高周波電力を制御する。これにより、真空容器１１内のプラズマ密度の均一性を高くすることができる。 （もっと読む）

【技術課題】 基板に損傷や表面汚染を与えることなく、エッチングや成膜が行え、チャンバや電極等の構造は同一であるにも拘らず、導入するガスやプラズマ励起周波数を変えることにより、エッチングや成膜にも応用可能であり、生産性に優れるとともに、低価格で高性能なプラズマプロセス用装置を提供すること。
【解決手段】 容器内105に対向するように設けられ夫々平板状に形成された第１及び第２電極102，104と、プラズマに対して安定な材料から成り第１電極102上を覆うように設けられる保護部材101と、第２電極104上に被処理物103を取り付けるための保持手段と、第１電極102に接続される第１の高周波電源111と、第２電極104に接続される第２の高周波電源110と、容器105内に所望のガスを導入するためのガス供給手段とを少くとも備え、第１の高周波電源の周波数が前記第２の高周波電源の周波数より高いことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 メインテナンス後に再装着しても割れることのない電極板を有するプラズマ装置を提供する。
【解決手段】 電極支持体２２と電極板２３との境界面の少なくとも片方に，薄い絶縁被膜６２を設け，電極支持体２２と電極板２３との直接の接触を避け，絶縁被膜の厚さを調整して，融着を防止しつつ性能を保持したプラズマ装置を構成する。 （もっと読む）

【課題】 絶縁保持が効果的になされ、もれ電流を最小化することができる局所処理装置を提供する。
【解決手段】 外部からの電磁的遮蔽をなすケーシングを有する。前記ケーシングの管通路上に放電管を設ける。前記放電管の一端をガス供給源に接続して放電管内に処理用気体を導入可能とする。前記放電管の他端にノズルを脱着自在に連結して、当該ノズルより処理用気体を外部に放出可能とする。前記放電管を挟むように一対の電極を対向配置して、当該電極の一方にリードの一端を接続し、当該リードの他端をケーシング部材外部の高周波電力源に接続して伝導経路を形成しする。これにより、ケーシング内を密閉空間とするとともに前記伝導経路の周囲に中空部分を設けて絶縁空間を形成した。 （もっと読む）

プラスチックで作られた平らな表面の上に作られ、かつ異なる表面の性質を有する、２個またはそれ以上の部分を含むマイクロ・チャネル構造のセットを覆う方法。本方法は、（ａ）マイクロ・チャネル構造を含む表面を提供する；（ｂ）１つの面が、熱接着剤のむらのない層を有するふたを形成するシートを提供する；（ｃ）熱接着剤を有するシートの面を、マイクロ・チャネル構造を有する表面に当てる；（ｄ）段階（ｃ）で作られたアセンブリに熱をかけ、熱融解性接着剤を選択的に融解し、同時にシート状物質と基板の平らな表面を一緒にして圧力をかける；（ｅ）得られたラミネートで覆ったマイクロ・チャネル構造を冷却する；段階からなる。アセンブリは、（ａ）異なる機能性を示す部分からなる、１個またはそれ以上の開いたマイクロ・チャネル構造のセットを、その表面に有する平らな基板、（ｂ）マイクロ・チャネル構造を覆い、かつ１個もしくはそれ以上の、マイクロ・チャネル構造から環境雰囲気への開口部を有する、ふたを形成する物質、を含む。アセンブリは、表面とシート状物質の間を接合するものが、硬化し得る熱接着剤であることを特徴とする。 （もっと読む）