【課題】被処理物の表面に対するＵＶオゾン処理の処理効率を向上させる。
【解決手段】表面処理装置１００は、第１および第２の紫外線照射処理室１０ａ，１０ｂを備える。第１および第２の紫外線照射処理室１０ａ，１０ｂ内には、それぞれ、複数の紫外線ランプ２０ａ，２０ｂが配置される。そして、第１の紫外線照射処理室１０ａ内で被処理物５０の表面に対して紫外線照射処理が施された後、第２の紫外線照射処理室１０ｂ内で被処理物５０の表面に対して紫外線照射処理が施される。なお、紫外線ランプ２０ａ，２０ｂから放射される紫外線の強度は、互いに等しい。また、被処理物５０と紫外線ランプ２０ａとの距離と被処理物５０と紫外線ランプ２０ｂとの距離とは、互いに等しい。また、第２の紫外線照射処理室１０ｂ内に供給される混合ガス中の酸素濃度は、第１の紫外線照射処理室１０ａ内に供給される混合ガス中の酸素濃度よりも低い。 （もっと読む）

【課題】プラズマ処理空間からの排気を均一に行う。
【解決手段】プラズマ処理空間を囲う真空チャンバ２と、その壁を貫通する開口２ａに対して外側から吸引口５１ａが連通接続された真空ポンプ５０と、プラズマ処理空間に臨んで基板を乗載可能な基板支持体１２とを備えたプラズマ処理装置において、真空ポンプ５０を介して真空チャンバに基板支持体１２を固設する。また、その支持脚１２ａが、開口２ａの中央を通り、真空ポンプ５０の支軸５２を兼ねるようにする。さらに、その支軸５２を中空の杆体にする。これにより、プラズマ処理空間から開口に至る排気路が基板支持体の周りで同じになるうえ、その開口のところでも同一性が維持されて、排気が均一になる。コンパクトな装置にもなる。 （もっと読む）

【課題】プラズマ生成を低電圧で安定して行うことのできるプラズマ生成装置、およびこのプラズマ生成装置を用いた表面処理装置、表示装置、流体改質装置を提供する。
【解決手段】プラズマ生成装置２０は、第１絶縁被覆線１を経糸（縦糸）、第２絶縁被覆線２を緯糸（横糸）として平織（経糸２本、緯糸２本を最小単位として、経糸と緯糸とを交互に上下に交差させる織り方）で織り合せた平織構造（ファブリック構造）からなるプラズマ生成部８を備える。第１絶縁被覆線１と第２絶縁被覆線２間に交流電圧（電源３）を印加することで、第１絶縁被覆線１と第２絶縁被覆線２間に生じる微小な隙間においてプラズマＰを生成する。 （もっと読む）

【課題】ナノサイズの凸部を短時間に低コストで製造する。
【解決手段】接着剤１中にナノ粒子２を分散させて加工面３に塗布し、ナノ粒子２が加工面３に固定された状態で加工面３にガスクラスターイオンビーム４を照射し、ナノ粒子２によるマスク部分を除く加工面３を加工する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、単粒子膜を構成する各粒子が２次元に最密充填し、高精度に配列した曲面上の単粒子膜エッチングマスクとその製造方法、該単粒子膜エッチングマスクを用いた曲面上の微細構造体の製造方法および該製造方法で得られた高精度な曲面上の微細構造体を提供する。
【解決手段】曲面、傾斜および段差など非平面である部分で面方向のピッチまたは大きさが０．１μｍ〜１００００μｍである表面が一部若しくは全部である基板上に形成する、粒子が２次元に最密充填した単粒子膜であって、
下記式（１）で定義される粒子の配列のずれＤ（％）が１０％以下であることを特徴とする単粒子膜。
Ｄ（％）＝｜Ｂ−Ａ｜×１００／Ａ・・・（１）
（式（１）中、Ａは前記粒子の平均粒径、Ｂは前記単粒子膜における前記粒子間の平均ピッチを示す。） （もっと読む）

【課題】プラズマ処理が効率よく行われ、電極の絶縁が容易になり、内壁に沿う沿面放電が抑制されるプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】プラズマ処理装置１０００は、流路１０１８を持つチャンバ１０１０が絶縁体からなる。流路１０１８の軸方向に非平行な方向に延在する溝１０３６が流路１０１８を囲む内壁１０３４に刻まれる。第２の電極１０１４及び第３の電極１０１６は、それぞれ、第１の電極１０１２より流路１０１８の上流側及び下流側にある。第１の電極１０１２と第２の電極１０１４とは流路１０１８の軸方向に間隔を置いて対向する。第１の電極１０１２と第３の電極１０１６とは流路１０１８の軸方向に間隔を置いて対向する。第１の電極１０１２はパルス電源１００４の第１の極に電気的に接続され、第２の電極１０１４及び第３の電極１０１６はパルス電源１００４の第２の極に電気的に接続される。 （もっと読む）

【課題】表面にナノレベルの微細構造が形成された導電性材料を低コストで効率的に製造できる方法を提供する。
【解決手段】電解溶液３中に、不溶性陽極電極４と、被処理表面を有する導電性材料からなる、陰極電極５としての被処理材とを浸漬した後、電解溶液３中に浸漬した不溶性陽極電極４と、陰極電極５としての被処理材との間に、第１電圧以上、第２電圧未満の電圧を印加し、被処理表面を改質処理する表面改質処理工程を含み、第１電圧が、表面改質処理系の電圧−電流特性において、正電圧領域に最初に現れる第１電流極大値と、正電圧領域に最初に現れる第１電流極小値との和の１／２の電流値に対応する電圧であり、第２電圧が、完全プラズマ状態を呈する電圧であることを特徴とする表面改質された導電性材料の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】被加工物の被加工面を加工することにより平坦性が高く、かつ加工変質層のない被加工面を形成することのできる加工方法を提供する。
【解決手段】処理溶液３０中に被加工面２０ａを有する被加工物２０を設置する被加工物設置工程と、光触媒膜１２を被加工面２０ａに対向させて処理溶液３０中に設置する光触媒膜設置工程と、光触媒膜１２に光を照射して、光触媒膜１２の光触媒作用により処理溶液３０から活性種４０を生成させる活性種生成工程と、処理溶液３０に添加されたラジカル捕捉剤４２により、処理溶液３０中における活性種４０の拡散距離を制御する活性種拡散距離制御工程と、被加工面２０ａの表面原子２２と活性種４０を化学反応させ、処理溶液３０中に溶出する化合物５０を生成させることにより被加工物２０を加工する加工工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】樹脂製容器２に電子線を照射して殺菌する装置において、適正な殺菌が行われたことを確認するために、樹脂製容器２の内部に到達した電子量を測定する。
【解決手段】容器搬送装置２０のグリッパ２８に保持されて搬送される樹脂製容器２に電子線照射手段１６から電子線を照射して殺菌を行う装置であり、電子線を照射する際に、樹脂製容器２の口部２ｂから内部に電子捕捉部材（アースロッド）６０を挿入し、この電子捕捉部材６０からアース側に流れる電流を電流測定手段（電流計）７６で測定することにより、樹脂製容器２の内部側に到達した電子の量を測定する。 （もっと読む）

【目的】電極とワークとの間で放電が起き難くする。
【解決手段】放電空間４２Ｂとプラズマ出力口１６との間に設けられたプラズマ流出通路の構成要素である個別通路８１Ｂに関して、Ｘ部分８１ＢＸ、Ｚ部分８１ＢＺのＸ部分８１ＢＸＸの接続部Ｍより放電空間側の部分８１ＢＺO、Ｘ部分８１ＢＸＸ、拡散器８２Ｂ、スリット８６等により主通路が構成され、Ｚ方向部分８１ＢＺの接続部Ｍより放電空間とは反対側の部分８１ＢＺＰにより分岐通路が構成される。アース板９０は、分岐通路８１ＢＺＰを塞ぐ状態で設けられる。分岐通路８１ＢＺＰと主通路の部分８１ＢＺＯとは同一直線上に位置するため、アース板９０との間で放電が起き、ワークＷとの間では起き難くすることができる。 （もっと読む）

【課題】エキシマランプが複数並列に配置された光照射装置において、エキシマランプの照度を測定する照度センサーを適正に配置して、エキシマランプからの照射光を遮断することなく、有効照射領域内にあるランプ中央部の正常なエキシマ放電を正確に検出することのできる構造を提供することである。
【解決手段】前記エキシマランプの放射光を受光する照度センサーが、当該エキシマランプの長手方向における一方の端部に対応して配置され、受光面がエキシマランプの中央部に向いて傾斜していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ヒータツールを機械的に研磨することなくヒータツールに付着するフラックスや樹脂などを能率良く除去することができ、先端面の温度分布を変化させることがなく、接合のバラツキを少なくして接合の信頼性を向上させる。
【解決手段】ヒータツール１０の有機汚染物付着面１２に炭酸ガスレーザー２０を照射して有機汚染物を加熱し炭化する第一段階の処理工程と、ii）大気圧プラズマ装置３０がプロセスガスを励起して射出するプラズマを、有機汚染物の付着面１２に導き、炭化した有機汚染物を除去する第二段階の処理工程、とを有する。 （もっと読む）

【目的】放電電極部を処理ガスから保護し、酸化を防止して、寿命を長くする。
【解決手段】電極２２〜２５を電極カバー２２Ｐ〜２５Ｐで覆い、放電開口２２ＨＬ，ＨＲ〜２５ＨＬ，ＨＲ（２２ＨＬ、２５ＨＲは閉塞されている）を設ける。また、放電開口２２ＨＬ，ＨＲ〜２５ＨＬ，ＨＲの上流側で、９０°位相がずれた位置に保護ガス流入口２２Ｑ〜２５Ｑを設ける。保護ガス流入口２２Ｑ〜２５Ｑから流入させられた保護ガスは、放電電極部２２Ｓ〜２５Ｓの周辺を流れて放電空間に流出させられる。放電電極部２２Ｓ〜２５Ｓに保護ガスが供給されるため、放電電極部２２Ｓ〜２５Ｓが処理ガスに接触し難くすることができる。そのため、放電電極部２２Ｓ〜２５Ｓの酸化を抑制し、寿命を長くすることができる。 （もっと読む）

【課題】処理条件を効率的に設定することができる表面改質処理装置を提供する。
【解決手段】被処理物１０を真空に保持する第１処理室４と、前記被処理物１０の表面に紫外光を照射する第１紫外光照射部６とを有する表面改質処理装置１において、酸素を励起して処理ガスを生成するガス生成部３を備え、前記処理ガスを前記第１処理室４に供給する。前記ガス生成部３は、第２処理室２５と、前記第２処理室２５内に酸素を供給する第２酸素供給路２７と、前記酸素に紫外光を照射する第２紫外光照射部２６とを有し、前記第２処理室２５と前記第１処理室４とは連通路３０を介して連通されており、前記第２処理室２５内で生成された前記処理ガスを前記第１処理室４内に供給するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】不要な紫外線をカットする効果が高くかつ低コストの紫外線カットフィルタを備えた紫外線照射装置、紫外線照射方法、および紫外線照射装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】筒状、石英ガラス素材の発光管を有するメタルハライドランプと、メタルハライドランプの発光管を筒状に包囲する位置に設けられた筒状、石英ガラス素材の第１の管である内管と、該内管を筒状に包囲する位置に設けられた筒状、石英ガラス素材の第２の管である外管とを備え、第１の管と第２の管との間の空間に流体を流し得るように該第１の管と該第２の管との間の空間が閉じられた空間である二重管と、二重管の外管の外面上、または二重管の内管のメタルハライドランプに対向する面上に形設された、膜厚が０．３μｍ以上、１．３μｍ以下の、チタンを含有する酸化膜とを具備する。 （もっと読む）

【課題】ＴＣＰ窓を過度に腐食させることなく導電性の反応生成物の堆積を防止する。
【解決手段】誘電結合型プラズマエッチング装置は、チャンバと、チャンバ頂部の開口部を封止するための窓とを備える。窓は、チャンバの内部領域に露出した内面を有する。ファラデーシールドとして機能する金属板は、窓の上方に窓から離れて設置される。コイルは、窓の内面がスパッタリングされるのを最適に低減し、それと実質同時に、窓の内面上にエッチング副産物が堆積されるの防ぐような、ピークトゥピーク電圧を生成するように構成された接続位置において、金属板に導電結合される。別の実施形態において、この装置は、金属板に外部からピークトゥピーク電圧を印加するためのコントローラを備える。コントローラは、発振回路と、整合回路と、ＲＦ電源と、印加されたピークピーク電圧をモニタリングするためのフィードバック制御とを備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、内部電極を用いることなく、ワークの内表面を処理し得るプラズマ表面処理装置およびプラズマ表面処理方法を提供する。
【解決手段】本発明のプラズマ表面処理装置Ｓａは、内表面を持つ長尺筒状体のワークＷＫに対し前記内表面をプラズマによって表面処理する装置であって、ワークＷＫの外雰囲気における第１放電開始電圧よりも低い第２放電開始電圧の気体をワークＷＫ内に供給する供給部１０ａと、前記筒状体の外側から前記筒状体を挟み込むようにワークＷＫの大きさに応じた間隔を空けて互いに対向する一対の第１および第２電極２１、２２を備える電極部２０ａと、ワークＷＫおよび電極部２０ａを相対的に運動させる駆動部とを備える。 （もっと読む）

【課題】 少なくとも一部に通気性を有する処理対象物の当該通気性部分の内部にまでプラズマ処理を施すことができるとともに、コストを削減することができ、さらには、あらゆる処理対象物に対して様々なプラズマ処理を簡便に行うことが可能なプラズマ処理方法およびプラズマ処理装置ならびにプラズマ処理された処理対象物を提供すること。
【解決手段】 少なくともその一部が通気性を有する処理対象物１の内部にプラズマを透過させることにより所定のプラズマ処理を施すためのプラズマ処理装置２であって、プラズマを生成するプラズマ生成手段３と、前記プラズマを前記処理対象物１の内部に透過させるプラズマ透過手段とを備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】マイクロチップ用基板に紫外光を照射し、検査体を変質させることなく、基板の表面を良好に改質することを可能とすること。
【解決手段】検査体３１を載置した基板（ワーク）３０をワークステージ４０上に保持させ、その上にマスク２０を載せて、光照射ユニット１０から紫外光を照射して基板表面を活性化させる。マスク２０には、凹部が形成されその内面に遮光手段２０ｃが設けられ、この凹部と基板３０で閉空間が形成され、検査体３１が閉空間の中に配置される。このため、検査体３１に紫外光が照射されることがなく、また、紫外光をワーク３０に照射する際に発生するオゾンや酸素原子に上記検査体３１は暴露されることがない。このため、検査体３１に変質といった不具合が発生することがない。 （もっと読む）

【課題】本発明は、メンテナンスを従来よりも一段と簡易に行い得る表面処理装置を提供することを目的とする。
【解決手段】このコロナ放電表面処理装置１では、放電部２０を表面処理部２から取り外すことなく、支持軸３１で支持させた状態のまま、例えば放電部２０内に付着した粉塵や、コロナ電極３の表面に付着した粉塵を簡単に除去でき、また当該放電部２０内に設けられたコロナ電極３を簡単に交換することができ、かくしてメンテナンスを従来よりも一段と簡易に行い得る。 （もっと読む）