【課題】無電極ランプが点灯される両端部に配置のランプハウスと内側配置のランプハウスとのＲＦスクリーンの開口率を変え、配光分布の高均斉度化を図る。
【解決手段】マグネトロン１３からマイクロ波を発生させ、バルブ内に紫外線を放射させる放電媒体が封入された無電極ランプ２６が配置されたランプハウス２５からなる複数の紫外線照射部１０Ａ〜１０Ｄ内に放射する。無電極ランプ２６は、マイクロ波が放電媒体を励起させて紫外線を放射し、反射板２８１，２８２によりはランプハウス２５の照射窓３０から、被照射体に照射させるようにした。紫外線照射部１０Ａ，１０Ｄの照射窓３０に配置されるＲＦスクリーン３１の網目は、紫外線照射部１０Ｂ，１０Ｃの照射窓３０に配置されるＲＦスクリーン２９の網目に比べて、赤外線がカットでき、マイクロ波が漏洩しない範囲内で粗いものを使用した。これにより、配光分布の均斉度の向上を図ることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】燃料電池の板状電極材を作製する際、結晶性が高い炭素板製の触媒担持体面に、欠損を均一に導入して表面調整を行い、かつ、この表面調整された板状担持体の表面の欠損部に金属触媒粒子を均一に担持させる方法を提供する。
【解決手段】結晶性の高い触媒担持板Ｗの表面に対しプラズマガス１３Ｇを照射することにより、触媒担持板Ｗの面に格子欠損を均一に導入し、該格子欠損が導入された触媒担持板Ｗと、有機金属化合物（導電性金属触媒となる金属分子を含む）を有機溶媒に溶解したものと、超臨界ＣＯ_２に溶解させたものとを反応させて、導電性金属触媒粒子を触媒担持体Ｗに担持させる。 （もっと読む）

【課題】照射物の温度差を小さくさせて高出力で紫外線照射することができる光照射装置を提供することである。
【解決手段】光透過性部材により覆われた放電ランプが複数並列に配置された光照射装置において、各放電ランプは光透過性部材との隙間に冷却風が当該放電ランプの長手方向に沿って流れるとともに、当該冷却風が流れる方向が放電ランプごとに交互に形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ランプハウス内に断面扁平４角形状のエキシマランプと、その上方に不活性ガス供給管が配置され、前記エキシマランプの上方壁には高圧側電極が、化法壁には低圧側（接地）電極が設けられたエキシマ光照射装置において、ランプとガス供給管の間に不所望の異常放電が発生することのない構造を提供することにある。
【解決手段】不活性ガス供給管の前記高圧側電極に対向する角部に電解集中回避手段を施したことを特徴とし、具体的には、角部を切り落とした平坦面とし、弧状面とし、あるいは、絶縁性被膜を被覆したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、電子放出量が多い素子でも素子内電流量は小さい、電子放出効率の高い電子放出素子を提供する。
【解決手段】電子放出素子１は、電極基板２と薄膜電極３との間に電子加速層４を有する。電子加速層４は、絶縁体微粒子５とＡｌｑ_３６とを含んでいる。 （もっと読む）

材料の所定部分に制御された方法でエネルギを印加して、前記所定部分の局所的な化学的性質を変えて所定の結果を提供するステップを備えることを特徴とする材料の処理方法。前記材料が形状記憶材料の場合には、前記所定の結果は、前記形状記憶材料の所定部分に付加的な記憶を提供するか、あるいは、前記形状記憶材料の擬弾性特性を変えることであってもよい。必ずしも形状記憶材材料に限定されない別の例では、前記プロセスは、表面の成分濃度を調節して前記材料の前記表面に酸化被膜を形成し耐食性を提供するため、前記材料から汚染物質を除去するため、表面テクスチャを調節するため、あるいは前記材料中に少なくとも１つの付加的な相粒子を生成し、次に前記材料を強化できる粒子成長用の核形成サイトを提供するため、に用いられてもよい。 （もっと読む）

試薬溶液から固体膜を基材上に堆積するための装置は、試薬溶液内における均一反応を阻害するのに十分低い温度に保った試薬溶液の貯槽を備える。冷却した溶液は、シャワーヘッドにより、一度に、基材上に分注される。シャワーヘッドの１つが試薬溶液を微細ミストとして送達するようにネブライザーを含むのに対して、他のシャワーヘッドは試薬を流れるストリームとして送達する。基材の下に配置されたヒータは、試薬溶液からの所望の固体相の堆積が開始され得る温度に基材を昇温して保つ。各試薬溶液は、少なくとも１種の金属およびＳもしくはＳｅのいずれかまたは両方を含有する。試薬溶液の少なくとも１つは、Ｃｕを含有する。該装置およびそれに関連する使用方法は、Ｃｕ含有化合物半導体の膜を形成するために特に適する。
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【課題】 高い洗浄処理能力を得ることができ、しかも、結合エネルギーが高い化学結合を有する有機化合物についても確実に除去することができる照射装置を提供する。
【解決手段】 放電容器および一対の電極を有するエキシマランプと、エキシマランプにおける一方の電極に誘電体を介して対向するよう配置されたプラズマ放電用電極とを備え、エキシマランプにおける一方の電極およびプラズマ放電用電極を介してプラズマ発生回路が形成されてなり、エキシマランプにおける一対の電極間に印加される高周波電界によって放電容器内にエキシマ放電が発生されると共に、エキシマランプとプラズマ放電用電極との間にプラズマ発生用反応性ガスが流過された状態で、エキシマランプにおける一方の電極とプラズマ放電用電極との間に印加された高周波電界によってプラズマ放電が発生されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】被処理材に対するダメージを完全になくすことができ、活性ガスを効率的に取り出すことができる、簡易な構成である活性ガス生成装置を提供する。
【解決手段】活性ガス生成装置７００は、少なくとも１以上の電極セル１，２と、電極セル１，２に交流電圧を印加する電源部と、電極セルを囲繞する筐体１６，１６１と、外部から筐体内に原料ガスを供給する原料ガス供給部２０とを、備えている。そして、電極セル１，２は、第一の電極１と、誘電体を有する第二の電極２とを備えている。さらに、第一の電極１は、誘電体および空間ギャップ（放電空間）１００を隔てて、第二の電極２と対面しており、電極セル１，２の平面視における中心領域には、ガス取り出し部１ｄが形成されている。 （もっと読む）

【課題】液中プラズマを用いて液体のみならず固体をも原料とした皮膜を基材の表面に成膜する方法において、成膜条件の大幅な変更を伴うことなく、所望の割合で固体の原料を含有する皮膜を成膜できる成膜方法を提供する。
【解決手段】本発明の液中プラズマを用いた成膜方法は、第一の原料を含む固体からなるターゲットＴ_１と基材Ｓ_１とを互いに対向させて、第二の原料を含むまたは含まない液体Ｌ_１中に配設する配設工程と、液体Ｌ_１中にスパッタガスＧ_１を供給して少なくともターゲットＴ_１と基材Ｓ_１との間に気相空間Ｖ_１を形成する気相空間形成工程と、気相空間Ｖ_１に少なくともスパッタガスＧ_１のプラズマを発生させるプラズマ発生工程と、を経て、プラズマによりターゲットＴ_１をスパッタリングさせて基材Ｓ_１の表面に少なくとも第一の原料を堆積させる。 （もっと読む）

【課題】オゾンよりも短い所定の寿命を有する活性粒子の発生密度および発生効率を向上させることができる活性粒子発生装置を提供する。
【解決手段】接地電極１と、空隙を介して接地電極１と対向し、空隙側の表面が誘電体４で覆われた高圧電極２との間に、高電圧を印加して誘電体バリア放電を生じさせるとともに、空隙に原料ガス８を供給して、誘電体バリア放電により活性粒子を発生させる活性粒子発生装置であって、活性粒子の寿命を、原料ガス８が空隙に滞在する平均時間で除した値が０．１以上１０以下であり、接地電極１および高圧電極２の単位面積に供給される放電電力が、原料ガス流の上流側から下流側に向けて増加されるものである。 （もっと読む）

組成物、方法、およびシステムは、反応器の金属部（チタンおよび／またはチタン合金など）における金属酸化物を選択的にエッチングできる。エッチング組成物はアルカリ金属水酸化物および没食子酸を含む。この方法は酸化アルミニウムなどの金属酸化膜の堆積に用いられる反応チャンバの洗浄に有用である。 （もっと読む）

【課題】マスフローコントローラが設置された配管にガス流量計を設けなくてもマスフローコントローラの異常を検出することができるようにする。
【解決手段】ガス導入配管２０は、処理室３にプラズマ生成用のプロセスガスを導入する。圧力調整バルブ５０は、排気管５に設けられている。マスフローコントローラ２は、ガス導入配管２０に設けられており、プロセスガスの流量を調整する。圧力計４は、処理室３内の圧力を検出する。制御部６は、圧力計４の検出値に基づいて圧力調整バルブ５０の開度を制御することにより、処理室３内の圧力を制御する。また制御部６は、マスフローコントローラ２からプロセスガスの流量を示す流量データを受信し、流量データと、電極に高周波が入力されたときの圧力計４の検出値の変動量に基づいて、マスフローコントローラ２の異常の有無を判断する。 （もっと読む）

【課題】イオン種等の荷電粒子の影響を回避し得る反応種生成方法、および反応種生成装置、並びに反応種による処理方法、および反応種による処理装置を提供する。
【解決手段】希ガス１を励起種に励起させるための第１の反応容器１１と、第１の反応容器１１内でプラズマを生成させるための電源１２及び電極１３と、第１の反応容器１１にて希ガス１を励起させるときに生成された荷電粒子が、第１の反応容器１１外に漏れるのを抑制する接地されたメッシュ１４と、第１の反応容器１１にて励起された希ガス１を移送させる流路と、励起された希ガス１とプロセスガス３とが混合される第２の反応容器１６と、プロセスガス３をプロセス領域４に導入するプロセスガス供給流路１５とを備える。プロセス領域４にて、励起された希ガス１によってプロセスガス３から励起された希ガス１に比べて短寿命である反応種を生成する。 （もっと読む）

【課題】光照射装置内のエアー浄化し、レンズやミラーといった光学部品の汚染を防ぐことができるエアー浄化装置つき光照射装置を提供すること。
【解決手段】紫外線を含む光を放射する光源１と、光源１からの光を反射または透過する光学部品と、光源１および上記光学部品を内部に収納する光照射装置に、光照射装置内のエアーを浄化するエアー浄化装置２０を設け、浄化されたエアーを光照射装置内に導入する。エアー浄化装置２０は、紫外線照射部２１と、紫外線照射部２１からの紫外線を照射したエアー（ガス）を水に接触させる水槽２４を備え、紫外線を照射した後のエアーを水に接触させ、エアーの中から光学部品の汚染の原因となるジメチルスルフィド（以下ＤＭＳ）等を除去する。これにより、光照射装置内の光学部品の硫酸アンモニウム等による汚染を防ぐことができる。 （もっと読む）

共集合法は、（ａ）水性多価電解質組成物に分散されており、かつ第一の極性の正味の電荷を有している第一の多価電解質、（ｂ）水性多価電解質組成物に分散されており、かつ該第一の極性とは反対の第二の極性の正味の電荷を有している第二の多価電解質、及び（ｃ）これらの多価電解質の共集合を防ぐのに有効な濃度で水性多価電解質組成物に溶解している電解質を含む水性多価電解質組成物中で：（１）該電解質の濃度を減少させる工程、又は（２）該水性多価電解質組成物と固体基材又は第二の液相の表面との間に界面を形成する工程であって、該表面はこれらの多価電解質の少なくとも一方に親和性を有する工程、又は（３）該電解質の濃度を減少させる工程及び前記界面を形成する工程により、これらの多価電解質を共集合させる工程を含む。 （もっと読む）

【課題】簡便かつ容易に表面が修飾剤で修飾された無機ナノ粒子を製造できる表面修飾無機ナノ粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】表面修飾剤Ａで修飾された無機ナノ粒子の表面を、前記表面修飾剤Ａの一部又は全部に代えて前記表面修飾剤Ａとは別の表面修飾剤Ｂで修飾する表面修飾無機ナノ粒子の製造方法であって、前記表面修飾剤Ａで修飾された無機ナノ粒子、表面修飾剤Ｂ、及び、溶媒を含有する分散液をピンチコックされたキャピラリー流路に通液する工程を有する表面修飾無機ナノ粒子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】特別な窒素ガスチャンバー等を用いることなく、簡易な構成で、不活性ガスの使用量を少なくすることができる電子線照射装置を提供する。
【解決手段】照射室２０の内部には、被処理物に電子線を照射する処理が行われる照射空間２１が含まれている。電子線発生部１０で発生した電子線は、照射窓部３０を介して照射空間２１内に取り出される。被処理物は、搬送装置４０により、照射空間２１を通過するように搬送される。照射空間２１は、照射窓部３０と、照射空間２１を通過した電子線を捕捉するビームキャッチャー５０と、被処理物の搬送を妨げることなく、電子線の照射方向に略平行に設けられた外枠部２１０とにより囲まれた空間として構成される。ガス供給部６０は、電子線照射処理の際、照射空間２１内に不活性ガスを供給することにより、照射空間２１内の照射雰囲気を不活性ガス雰囲気とする。 （もっと読む）

【課題】ガスと被処理物とを反応部内で反応させるにあたり、ガス反応部へのガスの入れ替え時間を短縮し、効率よく処理行うことができるガス反応装置を提供する。
【解決手段】供給部１からオゾンガスを貯留部３に供給し、貯留部３内に所定圧のオゾンガスを貯留させる。反応部５内に被処理物を挿入した後、排気ポンプ１２を作動させ、反応部５内を所定圧以下まで排気する。その後、貯留部３からオゾンガスを反応部５内に供給する。反応部５内のガス圧が規定値まで上昇した後、供給部１からオゾンガスを反応部５に直接に供給し、反応した排ガスをガス処理装置１０で処理して排出する。 （もっと読む）

【課題】発光ダイオードの使用量を節減して、発光ダイオード間に対応する接着シートＳの部分に対する光照射不足を生ずることのない光照射手段及び光照射方法を提供すること。
【解決手段】接着シートＳが貼付された半導体ウエハＷを支持する支持手段１１と、接着シートＳに相対するとともに、直線Ｌ上に所定間隔Ｐを隔てて設けられた複数の発光ダイオード１２を有する発光手段１４と、直線Ｌを横切る第１の方向Ｄ１に支持手段１１と発光手段１４とを相対移動させる移動手段１５と、支持手段１１と発光手段１４とを相対変位させる変位手段１６とを含む。変位手段１６は、直線Ｌに直交する方向を横切る第２の方向Ｄ２に支持手段１１と発光手段１４とを相対変位させて接着シートＳに光照射を行う。 （もっと読む）