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Fターム[4G075AA30]の内容

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Fターム[4G075AA30]に分類される特許

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【課題】反応容器内を排気するのに要する時間を短縮でき、減圧条件下で行う処理を効率よく行うことができる技術の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、反応容器101の上方に取り付けられた上部真空ポンプ取り付け室134と、反応容器101の下方に取り付けられた下部真空ポンプ取り付け室135とを有する。上部真空ポンプ取り付け室132は、反応容器101の天井部に設けられた一対の上部真空ポンプ取り付け壁134a、134bを有し、真空ポンプ取り付け壁134a、134bの少なくとも一方に真空ポンプ130、131が取り付けられ、下部真空ポンプ取り付け室135は、反応容器101の底部に縦置き状態で設けられた一対の下部真空ポンプ取り付け壁を135a、135b有し、下部真空ポンプ取り付け壁135a、135bの少なくとも一方に真空ポンプ132が取り付けられている。 (もっと読む)


【課題】簡便な構造で酸素濃度の変動した大気の対流による紫外線の測定値変動を抑制した光センサを備えたエキシマランプ装置を提供する。
【解決手段】エキシマランプ2から放射される紫外エキシマ光を測定する光センサ3とエキシマランプ2とを収納する筐体4を有するエキシマランプ装置において、光センサ3は、光モニター部33と、筒状部31と、基台部32とを有し、筒状部31は、基台部32側からエキシマランプ2側に向けて形成された漸次小径化部313と、漸次小径化部313よりエキシマランプ2寄りに形成された最小内径部314と、最小内径部314よりエキシマランプ2側に向けて形成された漸次大径化部315とを有し、紫外エキシマ光の測定時、ガス導入口321から導入された不活性ガスを筒状部31内を通し、31筒状部の開口312から放出させることを特徴とするエキシマランプ装置である。 (もっと読む)


【課題】プラズマ発生前後において整合状態を維持し得るプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】グランド電位が付与されると共に一方の端部が閉塞板11bで閉塞され、かつ他方の端部が開放端に形成された筒状の筐体11と、閉塞板11bの内面に筐体11の筒長方向に沿って延出するように立設された棒状の放射器14とを備え、放射器14における開放端側の先端近傍に放電用ガスGが供給された状態において、放射器14が供給された高周波信号S1を放射することによって先端近傍にプラズマPを発生させるプラズマ処理装置1であって、放射器14における閉塞板11bに固定された基端部から所定距離L2だけ離間した給電位置Aに接続されて高周波信号S1を放射器14に供給する給電導体13を備えている。 (もっと読む)


【課題】表面処理装置の通常運転時には排出ガスから処理ガス成分を回収する負荷を軽減し、異常発生時には安全性を確保する。
【解決手段】被処理物9を搬入開口13から処理槽10の内部に搬入し、処理空間19に配置する。供給系30から処理ガスを処理空間19に供給し、被処理物9を表面処理する。その後、被処理物9を搬出開口14から搬出する。第1排気系40で処理槽10の内部からガスを排出する。再利用部50によって、排出ガスから処理ガス成分を回収し、供給系30に送る。異常時には、第2排気系60によって処理槽10内のガスを第1排気系40より大きな流量で排出する。 (もっと読む)


【課題】真空装置等の複雑な装置を必要としない、稼働開始時から均一な品質の薄膜を形成可能な薄膜形成装置及び、薄膜形成方法の提供。
【解決手段】大気圧または大気圧近傍でプラズマを発生させ薄膜を基材上に形成する薄膜形成装置において、
放電ガスを供給する放電ガス供給手段と、原料ガスを供給する原料ガス供給手段と、
1対の電極と、1対の電極間に高周波電界を発生させる高周波電源と、
前記放電ガス供給手段による放電ガスの供給開始と、前記原料ガス供給手段による原料ガスの供給開始と、前記高周波電源による電極への高周波電圧の印加開始とを、同時に行なわせる制御手段とを、有することを特徴とする薄膜形成装置。 (もっと読む)


【課題】大気圧プラズマ処理において、フッ素原料の回収率又は回収濃度の変動を抑制し、処理の安定性を確保する。
【解決手段】大気圧プラズマ処理部2から排出ライン30に出された排出ガスを、分離部40の分離膜41で回収ライン50への回収ガスと放出ライン60への放出ガスに分離する。回収ガスをプロセスガスの少なくとも一部に充てる。上記分離に際し、フッ素系原料の回収率及び回収濃度のうち何れか一方又は両方が所望になるよう、回収ガス、放出ガス、排出ガスのうち少なくとも2つのガスの上記分離に係る物理量(好ましくは圧力)をプロセスガスの流量に応じて調節する。 (もっと読む)


【課題】線状光源の長大化を招くことなく、紫外線光を均一照度で照射可能な照射領域を拡大することができる紫外線照射装置を提供する。
【解決手段】略四角筒形状をなすチャンバ15の内壁面16を反射面で構成し、これら内壁面16のうち、光源ユニット10に収容された水銀ランプ12の長手方向に位置する内壁面16aを基部側から先端側に向けて拡開する方向に傾斜させるとともに、水銀ランプ12から放射される光の一部を拡開傾斜する内壁面16aの方向に反射する反射部材22を水銀ランプ12の配列方向に延在させる。これにより、水銀ランプ12の有効長lよりも拡大された照射面101a上の領域についても十分な光量の紫外線を照射することができる。 (もっと読む)


【課題】製造コストの高騰を招くことなく、処理対象体にコンタミが生じる事態を回避し得るプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】プラズマ放電用ガスGを供給するガス供給管30と、高周波信号Sを入力して放射する放射器14と、ガス供給管30および放射器14が内部空間に配設されたトーチ型の筐体11とを備え、ガス供給管30を介して筐体11内にプラズマ放電用ガスGを供給した状態において放射器14から高周波信号Sを放射して放射器14の近傍にプラズマPを発生させるプラズマ処理装置1であって、筐体11の内面とガス供給管30との間に放射器14が配設されると共に、高周波信号Sの放射によってガス供給管30内に発生させたプラズマPをガス供給管30の一端部から噴出させて処理対象体Zに照射可能に構成されている。 (もっと読む)


【課題】製造コストの低減を図りつつ、各種の径のプラズマを低コストで照射し得るプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】高周波信号Sを入力して放射する放射器14と、放射器14が内部空間に配設されたトーチ型の筐体11と、筐体11内にプラズマ放電用ガスGを供給するガス供給部3と、放射器14が挿通されると共に筐体11の内面に取り外し可能に取り付けられた絶縁管30a〜30c(管状の絶縁体)とを備え、プラズマ放電用ガスGを供給した状態において放射器14から高周波信号Sを放射して放射器14の近傍に発生させたプラズマPを絶縁管30a〜30cの噴出口31a(一端部)から噴出させて処理対象体Zに照射可能に構成されている。 (もっと読む)


【課題】照射ヘッドを大型化することなく、LED光源の冷却を行うことができるLED光照射装置を提供する。
【解決手段】LED光源22を有する照射ヘッド12と、LED光源の給電及び/又は制御を行う制御部32が配置される制御装置14と、LED光源22を冷却する冷却手段とを備え、制御装置14と照射ヘッド12との間には連結管16が設けられて、該連結管16内を通過する電気ケーブル36,38を介して制御部32とLED光源22が接続される。冷却手段は、照射ヘッド12においてLED光源22に近接して設けられてLED光源から伝熱がされるヒートシンク40と、該ヒートシンク40が晒される風を強制的に発生させるファン42と、を備えており、ヒートシンク40とファン42とは、連結管16を介して隔てられて配置されて、連結管16を風が流通する。 (もっと読む)


【課題】連続して広幅基材の表面の均質な改質処理が出来るプラズマ放電処理装置の提供。
【解決手段】対向して設けられた第1の電極と第2の電極を有し、前記第1の電極と第2の電極の間に形成される放電部に、基材を通過させて、前記基材表面を処理するプラズマ放電処理装置において、前記第1の電極に対して非接触で設けられた給電部材と、前記第2の電極に対して非接触で設けられたアース部材とを有し、前記第1の電極は前記給電部材に対して、且つ、前記第2の電極は前記アース部材に対して移動可能に構成されていることを特徴とするプラズマ放電処理装置。 (もっと読む)


【課題】低温で短時間かつ効率良く薄膜を酸化又は還元する反応装置及び反応方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る反応装置は、チャンバー3と、前記チャンバー内に配置され、薄膜が形成された基板1を保持する保持機構2と、極性溶媒のpHを調製するpH調製機構と、前記pH調製機構によってpHが調製された極性溶媒を加熱する加熱機構と、前記加熱機構によって加熱された前記極性溶媒を前記保持機構に保持された前記基板に供給する供給機構と、を具備し、前記pHが調製され且つ加熱された極性溶媒によって前記薄膜に酸化反応又は還元反応を起こさせることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、安定したグロー放電環境下での高濃度の窒素官能基を付与することを可能とした粉体のプラズマ処理方法を提供することを目的とするものである。
【解決手段】本発明は、中心電極2と、中心電極2と所定の空隙部5を介して配置された筒状の周辺電極3と、中心電極2表面若しくは周辺電極3表面の少なくとも一方に設けられた誘電体4とを有する放電容器1を用いた粉体のプラズマ処理方法であって、不活性気体雰囲気とされた空隙部5内で、粉体と、粉体に窒素官能基を付加する窒素官能基供給部材にグロー放電によるプラズマ処理を行なう工程を備える。 (もっと読む)


【課題】煩雑な表面電位制御を要することもなく所望の超微粒子薄膜を形成することができ、かつ、下層側の超微粒子薄膜の脱落が生じることもなく緻密で欠陥のない積層膜を形成することが可能な超微粒子薄膜の製造方法を実現する。
【解決手段】基板とシランカップリング化合物とを接触させて第1の有機分子膜3を基板1の表面に形成し、第1の表面電位を付与する。また、第1の表面電位とは逆極性のゼータ電位を有する無機物の超微粒子4を分散させた第1の分散溶液5を作製する。前記第1の表面電位の付与面3aが第1の分散溶液5の溶液面5aに対し垂直状となるように、基板1を第1の分散溶液5に浸漬し、次いで垂直状又は略垂直状を保持しながら基板1を第1の分散溶液5から引き上げ、第1の有機分子膜3の表面に超微粒子薄膜7を形成する。 (もっと読む)


【課題】ガラス基板に3次元の微小構造を形成させる構造体において、その構造を効率的に形成することができる技術を提供する。
【解決手段】この発明は、ガラス基板からなりそのガラス基板の厚さ方向に形成される貫通孔を有する構造体の製造方法であって、以下の2つの工程からなる。第1工程では、ガラス基板1の貫通孔2の内周面の形成が予定される内周面予定領域3にレーザ光4を照射してそのレーザ光4の焦点を内周面予定領域3内において走査することにより、内周面予定領域3に変質領域5を形成する。第2工程では、ガラス基板1に対してエッチングを行い、変質領域5に係る部位を除去することにより変質領域5で囲まれていた中子6を抜き落として貫通孔2を形成する。 (もっと読む)


【課題】 プロセス回数にかかわらず基板に対する処理の均一性、再現性を改善できるプラズマ処理方法を提供する。
【解決手段】 本発明によるプラズマ処理方法は、真空容器内にプラズマを生成するプラズマ発生手段と、真空容器内で処理される基板を載せる基板ホルダを介してバイアスを印加するバイアス用電源と、真空容器内に処理ガス、キャリアガスをそれぞれ供給するガス供給源とを備えたプラズマ処理装置に適用される。特に、前記基板に対する処理終了後プラズマ生成をオフにして基板搬出を行うまでの間に、処理ガスの供給無しでキャリアガスのみでプラズマ生成を維持する期間を設けることで、真空容器内壁に蓄積される可能性のある処理物質をクリーニングできるようにした。 (もっと読む)


【課題】熱に弱い処理対象管を破損させることなく確実に処理する。
【解決手段】高周波信号を生成する高周波電源(高周波信号生成部)と、高周波信号を入力して放射する放射器と、プラズマ放電用ガスを供給するガス供給部と、高周波電源およびガス供給部を制御する制御部とを備え、制御部が、ガス供給部を制御して処理対象体の処理部位に向けてプラズマ放電用ガスを供給させると共に高周波電源を制御して高周波信号を生成させて放射器から高周波信号を放射させることにより、放射器の近傍にプラズマを発生させるプラズマ処理装置であって、制御部の制御に従って放射器に向けての放電を行う着火機構を備え、制御部は、高周波電源による高周波信号の生成開始に先立って着火機構を制御して放電を開始させ(ステップ42)、その後に高周波電源を制御して高周波信号を生成させる(ステップ43)。 (もっと読む)


【課題】マイクロ波に基づき無電極ランプから紫外線を得る紫外線照射装置の無電極ランプの交換性を向上させる。
【解決手段】マグネトロン131,132から発振されたマイクロ波を、アンテナ161,162から送信させ、導波管151,152の先端から放電媒体が封入された管状の無電極ランプ12に伝達させる。無電極ランプ12では、マイクロ波に基づき紫外線を放射させる。無電極ランプ12から照射される紫外線は、反射板21で集光または拡散させ、被照射体に照射させる。無電極ランプ12と反射板21は、金属製のフレーム24で一体化し空間体の空洞共振部23を構成している。マグネトロン131,132、導波管151,152、空洞共振部23は、共通の筐体11内に収納されて紫外線照射装置を構成する。空洞共振部23は、筐体11外に開閉蓋29から取り出し可能とし、無電極ランプ12あるいは反射板21の交換性の向上を図った。 (もっと読む)


【課題】無電極ランプ取り付けや破損等の不具合発生時における無電極ランプの点灯防止を可能とする。
【解決手段】筐体11内に、マイクロ波を発生するマグネトロン131,132および導波管151,152を介してマイクロ波に基づき紫外線を発光することが可能な放電媒体が封入された無電極ランプ12が配置される。筐体11内のマグネトロン131,132および無電極ランプ12は、ファンを主体とする冷却機構20を用いて冷却を行い、安定した紫外線特性が得られるようにしている。無電極ランプ12から照射される前記ランプの紫外線は、反射板21を用いて被照射物に対する集光または拡散を行う。無電極ランプ12が筐体11内の一部に通常状態で支持された位置から外れたことを、板バネ271,272の作用で、プッシュスイッチ28,29により検出し、この検出結果に基づいて電源14を制御し、マグネトロン151,152からマイクロ波の発生を停止するようにした。 (もっと読む)


【課題】安定で制御可能なプラズマを得ること。
【解決手段】プラズマを生成するプラズマ生成部と、独立して制御可能な第1電力と第2電力をプラズマ生成部に付与する電源と、を備え、第1電力は、プラズマを始動する高電圧小電流であり、第2電力は、プラズマを維持する低電圧大電流である、プラズマ生成装置、及び、プラズマガスに高電圧小電流の第1電力を付与してプラズマガスを始動状態にし、プラズマガスの始動状態に低電圧大電流の第2電力を付与してプラズマ状態を維持する、プラズマ生成方法。 (もっと読む)


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