【課題】低い電力であってもプラズマ処理を行い得るプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】準マイクロ波帯またはマイクロ波帯の高周波信号Ｓ１を生成して出力する高周波電源２と、入力した高周波信号Ｓ１に基づいてプラズマ放電用ガスＧをプラズマ化させると共にプラズマＰを導電性を有する処理対象体８に照射する放射器１４と、放射器１４の電位に対する処理対象体８の電位を所定電位に規定する電源部４（直流電源部や交流電源部）とを備えている。 （もっと読む）

【課題】万が一シャワープレートが割れても、毒性ガスが装置外部に放出するのを防止することができるプラズマ処理装置およびプラズマ処理方法を提供する。
【解決手段】チャンバー１とスペーサ１ｂとアッパープレート１ａとから構成される処理容器の上部開口を閉鎖するようにシャワープレート７を配置し、シャワープレート７の開口部９からチャンバー１内にプラズマ励起用ガスを放射する。シャワープレート７の外側に配置されたスロットアンテナ１２にマイクロ波を供給してプラズマを発生し、スペーサ１ｂの内壁と、シャワープレート７の外周面との間の第１の隙間１６、スロットアンテナ１２の放射面と誘電体カバープレート６との間の第２の隙間１９の大気をガス排気口１８，２２からガス吸引装置２８により吸引し、ガス除害装置２９により毒性ガスを除害することにより、シャワープレート７が割れても有毒な毒性ガスがプラズマ処理装置５０の周辺に放出されることがない。 （もっと読む）

【課題】真空装置中の全圧を制御しつつ気体供給路を短時間で変更できる調圧機能付高速ガス切替装置とする。
【解決手段】第１流量制御バルブを介して第１供給ガスを真空装置に供給する第１管路と、第２流量制御バルブを介して第２供給ガスを供給する第２管路とを第１三方向バルブで連結して、第１供給ガスと第２供給ガスのいずれかのガスを第１三方向バルブから第３流量制御バルブを介して真空装置に供給可能とする。また、第２管路の第２流量制御バルブと第１三方向バルブとの間の管路と、第４流量制御バルブを介して排気する排気管路とを第２三方向バルブで連結するとともに、排気管路の第４流量制御バルブと第２三方向バルブとの間の管路に前記第１管路から分岐した管路を連結して、第１供給ガスと第２供給ガスのいずれかのガスを第４流量制御バルブを介して排気可能とする。 （もっと読む）

【課題】従来よりも高い濃度で銀を担持させることを可能にする、プラスチックへの銀担持方法を提供する。
【解決手段】プラスチックに対して、銀を含有するプラズマを照射するプラズマ照射工程を行って、プラズマ照射工程で照射したプラズマの銀をプラスチックに担持させる。 （もっと読む）

吸着方法は、ハイブリッド粒子のコロイド分散体と第二相の界面で前記コロイド分散体からハイブリッド粒子を吸着させる工程を含み、前記ハイブリッド粒子は：（ａ）外面を有するナノスケール無機コア、及び（ｂ）無機コアの表面の少なくとも一部分上に配置され、かつ下記構造式（Ｉ）：


｛式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、ｍ及びｎは、明細書で規定された通りである｝
で表される１つ以上のホスホネートを含む有機層を含む。 （もっと読む）

【課題】長時間に渡って付着物が真空容器の内壁面に付着することを防止でき、しかも成膜された無機膜の機能（例えばガスバリヤー膜としての機能）を損ねることがない。
【解決手段】排気系統２０を備えた真空容器２２内に原料ガスを導入すると共に、真空容器２２内に発生させたプラズマによる気相反応によってフィルム１２（基板）上に無機膜を成膜するプラズマＣＶＤ工程を備えた成膜方法において、プラズマＣＶＤ工程では、真空容器１２内の内壁面温度を、無機膜が成膜されるフィルム１２の基板温度よりも５０℃以上、２００℃以下の範囲で高い温度に維持した状態で成膜する。 （もっと読む）

【課題】簡便な構造で不所望な負荷によるエキシマランプの破損を防止すると共に、酸素濃度の変動した大気の対流による測定値変動を抑制した光センサおよびこれを備えたランプユニットを提供すること。
【解決手段】紫外線を放射するエキシマランプ５と、紫外線を受光する光センサ６と、少なくとも光センサ６を収納保持する筐体４と、からなるランプユニットにおいて、光センサ６は、可視光を検知する光検知体６１と、光検知体６１に付設された筒状の保持体６３と、保持体６３内に移動可能に保持されると共に、エキシマランプ５に当接可能に設けられた筒状または柱状の可動体６４とを備え、エキシマランプ５からの紫外線を透過する透過部材６４５と、透過部材６４５を透過した紫外線を可視光に変換する変換部材６４６とは、該光検知体と該保持体と該可動体とに取り囲まれるように設けられたことを特徴とするランプユニットである。 （もっと読む）

【課題】電子ビーム装置の保守が容易で、連続排気用の真空ポンプを作動させないで真空チャンバ内の真空度を上げる電子加速方法を提供する。
【解決手段】電子ビーム放射窓２４を清浄な空気環境に制御された場所内で真空チャンバ４６に気密にろう付け、溶接または接着結合して密封して連続排気用の真空ポンプを作動させないで持続的に真空を維持する真空チャンバ４６を設け、真空チャンバ内に配置した電子発生器３１で電子を発生し、電子発生器をハウジング３０により囲み、このハウジングは、電子発生器と電子ビーム放射窓間に開口が形成され、ハウジングと電子ビーム放射窓２４間に電圧が供給されたときに、電子を電子発生器３１から電子ビームにして電子ビーム放射窓２４の外に加速し、真空チャンバ内の分子をイオン化し、真空チャンバ内にイオン化された分子を捕獲して真空チャンバ内の真空度を上げる電子加速方法。 （もっと読む）

【課題】光センサの蛍光体の水分やオゾンによる劣化を防止すると共に、光センサに入射される大気による紫外線の変動を防止することを可能にしたエキシマランプおよびそのエキシマランプを備えたランプユニットを提供することにある。
【解決手段】発光ガスが封入された放電空間５４を有する誘電体からなる放電容器５１と、該放電容器５１と前記放電空間５４を介して対向させた電極５２，５３と、からなる紫外線用放電ランプ５において、該紫外線用放電ランプ５の周辺のガス雰囲気の変動の影響を受けない当該紫外線用放電ランプ５の任意の領域に、受光した紫外線を可視光に変換する蛍光ガラス５６を設けたことを特徴とする紫外線用放電ランプである。 （もっと読む）

【課題】 電源装置の複雑化、大型化を必要とせず、汚れなどが付着しやすい配管や排水口の内面と液面とが接する部分の浄化や改質を可能とした放電装置及び放電方法を提供する
【解決手段】 パルス電源と、
前記パルス電源の端部に接続された一対の電極とを有し、
前記電極のうち一方の電極の少なくとも一部の領域が誘電体で覆われてなる放電装置であって、
前記誘電体と前記他方の電極との間に、誘電体に液面が接するように液体を介在させ、
前記一対の電極間に、パルス電圧を印加し、
前記パルス電圧の極性が、正または負の直流であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】放射線の短い露出時間でもワークの内面を処理できる処理装置および処理方法を提供することにある。
【解決手段】ビーム（Ｐ、Ｐ’、Ｉ）と、該ビーム（Ｐ、Ｐ’、Ｉ）を発生する少なくとも１つの発生ユニット（２、２０、４１、６２）と、該少なくとも１つの発生ユニット（２、２０、４１、６２）を一回転軸線（１３、３４、４７、６３、８７、９３）の回りで回転させる駆動ユニット（４５、８６、９４）とを有し、前記少なくとも１つの発生ユニット（２、２０、４１、６２）が、発生されるビーム（Ｐ、Ｐ’、Ｉ）を、処理すべき表面（Ｏ）に向かう優先方向（Ｖ、Ｖ’、Ｖ”、Ｖ’’’、Ｖ’’’’）に指向させるように設計されている、ワーク（Ｗ）の内面（Ｏ）を処理する装置（１、２０、４０、６０、８０、９０）。 （もっと読む）

【課題】グラフェンシート系材料の処理方法及び装置に関し、所望の層数のグラフェンシートを有するグラフェンシート系材料の形成しうるグラフェンシート系材料の処理方法及び装置を提供する。
【解決手段】グラフェンシート系材料４０の表面に、グラフェンシート系材料４０に作用する反応性物質３４を含む雰囲気中で紫外線３６を照射することにより、グラフェンシート系材料の最表面層を除去し又は最表面層を改質化してグラフェンシート系材料４０の電気的性質を変化する。 （もっと読む）

【課題】ひび割れの発生や大理石の強度低下等を招くことなく大理石表面に良好な滑り止め効果を付与することができ、その効果を長期間持続させることができる大理石の表面処理方法を提供する。
【解決手段】大理石１の表面にシリカを含有する液体を塗布して乾燥させた後、当該大理石表面にレーザ光２を照射して照射箇所を３５０〜９５０℃に加熱することにより、当該大理石の主成分である炭酸カルシウムと上記液体中のシリカとの反応を引き起こし、上記照射箇所を粗面化する。 （もっと読む）

【課題】表面処理、改質に使用されたガスにより装置が損傷することを抑止できる表面処理装置を提供する。
【解決手段】表面処理装置１００は、希釈ガスを供給する希釈ガス供給装置１と、フッ素ガスを供給するフッ素ガス供給装置２と、前記希釈ガスと、前記フッ素ガスとを混合し、混合ガスを発生させる混合器５と、前記混合ガスを被処理物に接触させる反応器６とを備えた表面処理装置１００であって、前記反応器内から排気ガスを排出する排気装置７と、前記反応器６と前記排気装置７との間に設けられており、前記排気ガスを流通させる複数の流路１９、２０、２１、２２と、前記複数の流路の各々に設けられている複数の弁２３、２４、２５、２６とをさらに備えている。 （もっと読む）

【課題】装置を構成している部材等の損傷及び被処理物の処理ムラを抑止することができる表面処理装置を提供する。
【解決手段】表面処理装置１００は、希釈ガスを供給する希釈ガス供給装置１と、フッ素ガスを供給するフッ素ガス供給装置２と、前記希釈ガスと、前記フッ素ガスとを混合して混合ガスを生成させる混合器５と、前記混合ガスに被処理物を接触させる反応器６とを備えた表面処理装置１００であって、前記希釈ガスを加熱する加熱手段８をさらに備えている。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、速やかにエキシマランプの周囲に不活性ガスを満たすことのできる紫外線照射ユニットを提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明の紫外線照射ユニットは、放電容器内に形成された密閉空間に放電ガスが封入されると共に、当該密閉空間を挟んで一対の電極が前記放電容器の外表面に形成された複数のエキシマランプと、当該複数のエキシマランプを取り囲み鉛直方向における一方向が開口したランプハウスと、当該ランプハウスの内部に不活性ガスを供給するためのガス供給機構とを備える紫外線照射ユニットであって、前記ランプハウス内には、前記エキシマランプによって占有されている空間以外の空間に空間閉塞体が配置されていることを特徴とする。 （もっと読む）

人工容器内に配設されている媒質中に変化を引き起こすための方法およびシステムを提供する。この方法では、プラズモニクス作用物質とエネルギー変調作用物質のうちの少なくとも一方を媒質に近接して配置する。この方法は、人工容器を通して開始エネルギーを媒質に印加する。開始エネルギーは、プラズモニクス作用物質またはエネルギー変調作用物質と相互作用して、媒質の変化を直接的にまたは間接的に発生させる。システムは、開始エネルギーを媒質に印加しプラズモニクス作用物質またはエネルギー変調作用物質を活性化させるように構成された開始エネルギー源を備える。
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【課題】環境負荷が小さくかつ効率の良い窒化処理法（材料を窒化する方法）を提供する。
【解決手段】窒素を少なくとも含む原料ガス４０を用いて発生させた大気圧プラズマジェット２を材料（ＴｉＯ₂膜３２が表面に形成されたガラス基板３０）に照射する。大気圧プラズマジェット２内部では、高電圧パルス放電により、窒素分子が電離されるだけでなく効率よく解離されて、高濃度の窒素原子が生成される。窒素を少なくとも含む原料ガス（空気でも良い）４０を用いる大気圧プラズマジェット２を材料表面に照射させると、プラズマフレームに含まれている高密度の窒素原子が材料表面を短時間のうちに窒化する。 （もっと読む）

【課題】大気圧・窒素中の放電が容易で、長時間のストリーマ放電に耐え、広範囲で均一な処理ができ、対象物に低ダメージの処理ができ、処理時間が短縮されたプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】一辺に刃部を設けた複数の板状のアノード埋込ブレード１１_l-1〜１１_l-6を、互いの主面を対向させて並列配置した分割型アノード電極と、アノード埋込ブレード１１_l-1〜１１_l-6のそれぞれの刃部に対向して配置されたカソードとを備える。アノード埋込ブレードのは、板状のアノード誘電体と、このアノード誘電体の内部に埋め込まれたアノードメタルからなる。複数のアノード埋込ブレードは、長手方向の両端部において、スペーサブロック７１₁〜７１₆，７３₁〜７３₆，７２₁〜７２₆，７４₁〜７４₆を挟む。 （もっと読む）

【課題】多孔性素材の表面のみならず細孔内も効率的に紫外線処理する方法及び処理装置を提供する。
【解決手段】 微量の酸素を含む混合ガスを、前記多孔性素材に接触させた状態で前記多孔性素材の裏面から吸引することにより、前記混合ガスを前記多孔性素材の細孔内に充填する充填工程と、前記充填工程後、前記多孔性素材に紫外線処理を施し、前記細孔内を改質する改質工程とを有する多孔性素材の紫外線処理方法。 反応室１００内に配管２０から微量の酸素を含む混合ガスを導入し、多孔性支持体３２により多孔性素材１を支持し、かつ多孔性素材１の裏面から混合ガスを吸引した後、多孔性素材１に紫外線ランプ１０から紫外線を照射し、多孔性素材１の細孔内を改質する多孔性素材の紫外線方処理方法および処理装置。 （もっと読む）