【課題】反応容器内の気圧をセンシングすることのできる反応装置、その反応装置を用いた発電装置、及び、電子機器を提供する。
【解決手段】複合型マイクロ反応装置１００は、断熱真空容器（反応容器）１５０と、断熱真空容器１５０内に収容され、異なる温度で反応物の反応を起こす改質器及び一酸化炭素除去器と、断熱真空容器１５０内の真空度（気圧）を測定するマイクロ真空センサ（気圧センサ）１とを備える。 （もっと読む）

【課題】汚染汚泥類に付着したダイオキシン類を汚染汚泥類から分離してダイオキシン類の処理を容易にするダイオキシン類の前処理方法及びその処理装置を提供すること。
【解決手段】本発明に係るダイオキシン類の前処理方法は、ダイオキシン類が付着した汚染汚泥類を含む汚染水を処理するダイオキシン類処理の前処理方法であって、該汚染汚泥類を微細気泡を用いて洗浄して、前記ダイオキシン類を汚染汚泥類から分離して該ダイオキシン類を前記汚染水側（液側）に移行させることを特徴とする。また、本発明に係るダイオキシン類の前処理方法として好ましい態様は、微細気泡の気泡径が、２００μｍ以下であることである。 （もっと読む）

温度上昇の影響下で、タンクから来るガス流を化学結合によって吸収し、逆の熱化学反応によってこのガス流を脱着するのに適している少なくとも一つの反応体ブロック（２）を備える冷却および／または加熱機器用の熱化学反応装置（１）であり、反応体ブロック（２）は、壁を有する容器（３）内に配置され、該壁の少なくともいくつかはガス流を分配することを可能にする散気手段（７）を備えるものであり、反応体ブロック（２）は、ガス流の吸収のとき膨張し、ガス流の脱着のとき収縮することができる型のものであり、また、加熱手段に接続されている。壁の少なくともいくつかは、変形の連続する現象を可能にするように反応体ブロック（２）の縦方向の運動に従うのに適した可動壁からなる。 （もっと読む）

【課題】なし
【解決手段】低エネルギー水素種を生成するためのプラズマ反応炉およびプロセスを提供する。 （もっと読む）

【課題】気体からプラズマを発生させて被処理物をプラズマ処理する装置において、被処理物とプラズマ活性種との接触の効率を向上させ、これによって被処理物の処理効率を向上させるような構造を提供する。
【解決手段】プラズマを発生させるための電極装置３０において、電極装置３０は、誘電体からなる基板４０、この基板４０内に埋設されている第一の電極８、および基板の一方の主面７ａに設けられている第二の電極６Ａを備えている。基板４０にプラズマガスを供給する貫通孔２６が形成されており、第二の電極６Ａから基板４０に沿って生ずる沿面放電によってプラズマを発生させる。 （もっと読む）

【課題】 製造が容易で、特定の部位の正確な温度制御が可能な微小構造体、マイクロリアクタ、熱交換器、および微小構造体の製造方法を提供する。
【解決手段】 マイクロリアクタ１は、複数のパターン層１３Ａ〜１３Ｃを積層して形成され、第１のパターン層１３Ａの第１の入口２ａから第１の原料液Ｌ_１を導入し、第２の入口２ｂから第２の原料液Ｌ_２を導入すると、それらの原料液Ｌ_１，Ｌ_２は、流路３ａを流れて合流し、高温側反応部３ｃおよび低温側反応部３ｄを層流で移動する。２つの原料液Ｌ_１，Ｌ_２は、それらの界面において反応する。高温側反応部３ｃでは高温域で反応し、低温側反応部３ｄでは低温域で反応する。反応が終了した反応液Ｌ_１，Ｌ_２は、流路３ｂにより２つに分離され、出口２ｃ，２ｄから排出される。真空の空洞部３ｅにより高温側反応部３ｃと低温側反応部３ｄとの熱伝導を遮断する。 （もっと読む）

マイクロ波プラズマを発生するためのシステムおよび方法が開示されている。本発明は、ガスフロー管（４０）と、ガスフロー管（４０）内に配置されガスフロー管（４０）の出口付近に先端部（３３）を持つロッド状コンダクタ（３４）とを備えるノズル（２６）を提供する。ロッド状コンダクタ（３４）の部分（３４）はマイクロ波キャビティ（２４）内に延びて、キャビティ（２４）を通過するマイクロ波を受信する。受信されたマイクロ波は先端部（３３）に集中され、ガスを加熱しプラズマにする。マイクロ波プラズマノズル（２６）はまた、ロッド状コンダクタ（３４）とガスフロー管（４０）との間に位置し、管（４０）を流動するガスに螺旋状の流動方向を付与するうず巻状ガイド（３６）もまた備えている。マイクロ波プラズマノズル（２６）はさらに、ガスフロー管（４０）を通る際のマイクロ波のパワー損失を緩和するための遮蔽メカニズム（１０８）も備えている。
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槽（5）内の内容物（11）にエネルギーを供給するためのエネルギー供給システム（10）は、（i）槽内に位置決めされるように、かつ槽内に存在するときに無接触パワー供給されて内容物にエネルギーを放出するように、適合化され、（ii）指定のレジームに従ってエネルギー放出デバイスの動作を制御するように使用時に適合化される制御機構（40）を有する、無接触パワー供給可能なエネルギー放出デバイス（30）；および槽内に存在するときにエネルギー放出デバイスにパワー供給するためにエネルギー放出デバイスに無接触結合するように使用時に適合化されるパワー供給源（15）；を有する。デバイスは、スターラーの形態をとりうる。システムは、等温入力補償型熱量測定（IPCC）における使用を対象とする特定用途を有する。 （もっと読む）