【課題】アーク放電が生じることを抑制しつつ多量のラジカル又は窒素酸化物を生成でき、生成したラジカル又は窒素酸化物を効率良く利用できるラジカル発生装置及び窒素酸化物発生装置を提供する。
【解決手段】高周波電圧を放電電極２に印加して放電を生じさせる放電領域４に空気を供給するファン１０を備える。放電領域４に供給される空気の流速値と、ラジカルがファン１０によって放電領域２より下流側に供給される供給量との関係において、空気流速値の増加に伴ってラジカル供給量がピーク値から低下して定常状態に移行したときにおけるラジカル供給量及び空気流速値の夫々の値を閾値とする。ファン１０によって放電領域４に供給される空気流速値を、空気流速値の閾値よりも小さく、ラジカル供給量がラジカル供給量の閾値よりも高くなるときの空気流速値に設定する。 （もっと読む）

【課題】超音波の放射面積を十分に確保し、超音波を均一に放射することができる超音波放射体を提供すること。
【解決手段】超音波放射体１５は、径方向に軸対称振動をする複数の振動体２１を備える。各振動体２１は、中心部に貫通孔２３を有し、その軸方向から見た平面視で正八角形状に形成されている。超音波放射体１５において、振動体２１の外面が接続された状態で該各振動体２１が複数行及び複数列からなるマトリクス状に規則正しく配列されている。超音波放射体１５は、行方向及び列方向において隣り合う振動体２１が交互に伸縮を繰り返すことにより各振動体２１から超音波を放射する。 （もっと読む）

【課題】濾過時間及び乾燥時間を短縮することができるとともに、多用途に使用することができる濾過乾燥機を提供すること。
【解決手段】被処理物Ｗを処理する気体を選択的に供給する気体供給源５と、気体供給源５から気体を槽本体２内に導入するために攪拌翼３の背面及び槽本体２の上部にそれぞれ形成された供給口２Ａ、３Ａと、槽本体２内及び濾物の排出口２０Ａから気体を強制的に排出する強制排気手段６、７とを備え、気体供給源５から目詰まり防止用気体を攪拌翼３の背面に形成した供給口３Ａを介して濾過手段４の濾過面に向けて噴射しながら気体供給源５から加圧用気体を槽本体２の上部に形成された供給口２Ａから供給することにより被処理物Ｗを濾過した後、強制排気手段６、７によって槽本体２内の気体を排出しながら気体供給源５から乾燥用気体を攪拌翼３の背面に形成した供給口３Ａを介して濾物に向けて噴射することにより濾物を乾燥させる。 （もっと読む）

【課題】仮想円筒上に配置された各ランプ保護管に１本又は複数本の紫外線ランプを軸方向にずらして収容してなる直交流型の紫外線照射装置において、紫外線ランプの紫外線強度を精度よく計測して監視できるようにする。
【解決手段】仮想円筒上に配置された各ランプ保護管に１本又は複数本の紫外線ランプを軸方向にずらして収容してなる直交流型の紫外線照射装置であって、監視用紫外線強度計３２を強度計保護管３１が流路中心面１９と交差する中心位置に受光部３２ａを位置させて挿入し、受光部３２ａを包囲して遮光筒３２ｃを設け、遮光筒３２ｃの筒壁に軸方向及び周方向に分散させて紫外線を受光部に導く複数の導光孔３６を穿設し、各導光孔３６は各紫外線ランプ１４に設定された受光長から照射される紫外線を、各紫外線ランプ１４の位置に応じて受光部３２ａに導く位置に設けることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】少なくとも１つの液滴を操作するためのマイクロ流体デバイスおよび方法を提供すること。
【解決手段】本デバイスは、平行であり、離間距離（Ｈ）だけ相互に離間された、第１のマイクロ流体表面および第２のマイクロ流体表面と、前記第１の表面の上に配置された少なくとも１つの第１の電気変位経路と、前記第２の表面の上に配置された少なくとも１つの第２の電気変位経路とを備える。第１の経路および第２の経路の少なくとも一方は、前記経路に沿って各流体フィンガを形成するように構成され、前記流体フィンガは、毛管作用により少なくとも１つの各液滴を生成することによって破裂する。第１の経路および第２の経路は、前記第１の表面と前記第２の表面との間の離間距離が、一方においては各流体フィンガにより形成される流体厚さよりも大きく、他方においては各液滴により形成される流体厚さよりも小さくなるように構成される。 （もっと読む）

【課題】簡便で精度の高い分析を可能とするマイクロチップの提供。
【解決手段】流路において、流路壁の一部が変形することによって、流路内空へ突出して、流路が狭窄又は閉塞される逆流防止構造が形成されるマイクロチップを提供する。逆流防止構造が流路内に形成されることによって、ウェルに充填された溶液の逆流が妨げられ、ウェル間での溶液の通流による汚染が防止され、マイクロチップ内の複数のウェルにおいて、異なる分析を同時に行う場合であっても、精度の高い分析が可能となる。 （もっと読む）

【課題】放射導体の先端から筒長方向に沿って延びる状態でプラズマを発生させる。
【解決手段】一方の端部が閉塞板１１ｂによって閉塞されると共に他方の端部に噴出口２５が形成された筒体１１ａを有する筐体１１と、閉塞板１１ｂの内面に筐体１１の筒長方向に沿って延出するように立設されると共に入力した高周波信号Ｓ１を放射する棒状の放射器１４とを備え、ガス供給部４によって筐体１１内に放電用ガスＧが供給され、かつ放射器１４が高周波信号Ｓ１を放射している状態において、放射器１４の先端近傍から噴出口２５を介して筐体１１の外方に延びるプラズマＰを発生させるプラズマ処理装置１であって、筐体１１の内面には、ガス供給部４から供給される放電用ガスＧを筐体１１内に互いに異なる方向で放出するガス放出口２２が複数形成されている。 （もっと読む）

【課題】少なくとも１つのパケットに対して汚染なしに化学的または物理的処理を行うためのマイクロ流体デバイスおよび方法を提供する。
【解決手段】マイクロ流体デバイス１において、該デバイスが、軸Ｘを有するマイクロチャネル２、および下記の少なくとも１つを含むパケット操作手段を含むところのデバイス、発電ユニット９、および上記発電ユニット９に連結されかつ、上記マイクロチャネルの少なくとも一部分の内部に、上記マイクロチャネルの軸Ｘと実質的に共線的である電場を作るように構成された電極アッセンブリ３、ここで、上記発電ユニット９は、マイクロチャネルにおいて少なくとも１つのパケットを変形させるまたは少なくとも２つのパケットを互いの方に移動させるような振幅および周波数を有する電場を発生させることができる。 （もっと読む）

【課題】 プラズマ放電部を複数並べて任意の大きさの試料に対応できるように放電面積を拡大する場合であっても、単位あたりの電力コストを増加することなく、均一なプラズマ生成が可能なプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】 高周波信号回路１３及び高周波電力回路１１を有する高周波電源と筐体２１と放電電極２とを備えたプラズマ処理装置において、筐体２１内に設置された放電電極２と高周波電力回路１１とでプラズマモジュールを構成し、複数個並列接続されたプラズマモジュールに高周波信号回路１３からの周波数信号を入力する。 （もっと読む）

【課題】
マイクロメータスケールの微小物質を基板の任意な位置に確実に堆積させる方法を提供する。
【解決手段】
内部に電極が挿入され、且つ、微小物質を溶剤に溶かした溶融液、或いは、溶剤に分散させて得られた微小物質を含む分散液が充填されているマイクロピペットを傾けて配置させ、その先端部が基板表面に近接するように位置決めし、適切な電圧を印加することで分散液のメニスカスを成長させ、基板表面に接触移動させることによって、マイクロメータスケールの微小物質を確実に堆積させる方法。 （もっと読む）

【課題】タクトタイムを短縮し、混合均一性を維持し、スラリー堆積を抑制する。
【解決手段】本発明に係る運転方法は、回転軸４に複数段のパドル翼５Ａ，５Ｂを保持して成る撹拌翼３と、撹拌槽２の軸挿通口１５において槽内をシールする軸封装置６とを備え、隣接２段のパドル翼５Ａ，５Ｂを上下方向にオーバーラップするように並べ、複数段のパドル翼５Ａ，５Ｂの全高Ｈが槽径Ｄの0.7倍以上である化学反応装置１に適用され、槽内に物質を投入する投入工程と、槽内の液面が最上段のパドル翼５Ｂよりも上方に位置する状態で回転軸４を所定回転速度で回転させることにより物質を撹拌する撹拌工程と、槽内から物質を排出する排出工程と、を備え、投入工程及び排出工程のうちの少なくとも何れかにおいて、槽内の液面が複数段のパドル翼５Ａ，５Ｂを通過する状態で回転軸４を所定回転速度以下の一定の回転速度で回転させる。 （もっと読む）

【課題】駆動メカニズム（ＥＷＯＤまたはＤＥＰ）を、任意の時点にてアレイ素子に含まれる各列に応じて個別に選択可能なように構成されたアクティブマトリクス駆動回路を提供する。
【解決手段】マイクロ流体装置は、アレイ上の１個または複数の液滴４を操作するように構成されている複数のアレイ素子４３と、アクティブマトリクス駆動回路８４とを備えており、各アレイ素子は、上部基板３６上に形成されている上部基板電極２８と、下部基板７２上に形成されている駆動電極３８Ａ、３８Ｂとを含んでおり、上記上部基板電極および上記駆動電極の間に上記１個または複数の液滴を配置可能であり、上記アクティブマトリクス駆動回路は、上記複数のアイレ素子の、上記上部基板電極および上記駆動電極に駆動信号を与え、上記複数のアレイ素子の間で、上記１個または複数の液滴を操作するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】ナノストラクチャまたはマイクロストラクチャ表面に置かれた小滴の移動が、ナノストラクチャ・フィーチャ・パターンの少なくとも１つの特性または小滴の少なくとも１つの特性によって決定される方法および装置を提供する。
【解決手段】小滴の横方向の移動が、ナノストラクチャ・フィーチャ・パターンの少なくとも１つの特性によって、小滴がナノストラクチャ・フィーチャ・パターンに沿って所望の方向に移動するように決定される。他の実施形態では、小滴の移動が、ナノストラクチャ・フィーチャ・パターンの少なくとも１つの特性または小滴の少なくとも１つの特性によって、小滴が所望の領域のフィーチャ・パターンに侵入し、そこで実質的に不動化するように決定される。 （もっと読む）

【課題】誘電体の表面に汚れなどが付着した場合においても汚れを容易に除去することができる気流発生装置を提供する。
【解決手段】実施形態の気流発生装置１０は、固体からなる誘電体２０と、誘電体２０の表面に設けられた第１の電極３０と、第１の電極３０と誘電体２０を介して離間して設けられた第２の電極４０とを備え、第１の電極３０と第２の電極４０との間に電圧を印加して気流を発生させる。第１の電極３０側の誘電体２０の表面２０ａにおける水に対する接触角が８０度以上である。 （もっと読む）

【課題】複数Ｎのホログラフィック光トラップを生み出すためにビームが収束されたレーザ光を用いて生体物質を操作する方法の提供。
【解決手段】ビームが収束された連続波レーザ光と、可視光の波長から紫外線の波長の範囲内から選択され、且つ操作されるべき前記生体物質の強い吸収特性に関係する波長を使用することを避ける波長λを有する前記ビームが収束された連続波レーザ光から前記複数Ｎのホログラフィック光トラップを生み出すステップと、前記波長連続波レーザ光と複数Ｎの光トラップによってトラップされるような大きさの前記広がった生体物質との組み合わせを利用するステップとを備え、前記ホログラフィック光トラップのパワーＰは、前記複数Ｎのトラップのレーザ光のエネルギーを前記生体物質の複数の点に広げることを特徴とする方法。 （もっと読む）

【課題】表面弾性波を完全反射させることで、所定位置にある液体又は粉粒体の移動を容易に実現できるとともに、表面弾性波を一部反射させることで、異なる位置にある各液体又は各粉粒体の移動を容易に実現可能な表面弾性波発生装置を得る。
【解決手段】表面弾性波発生装置１は、一方の面２ａに凹部２ｂが形成された圧電基板２と、圧電基板２の一方の面２ａに形成されるとともに、凹部２ｂを介して粉粒体Ｐに伝搬可能な表面弾性波を発生可能な電極層３と、を備え、凹部２ｂの深さは、表面弾性波が凹部２ｂにおいて完全反射可能に構成されていることを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】放射導体の先端近傍を内包する空間内での放電用ガスの流れをより均一にする。
【解決手段】筒体１１ａの一方の端部が閉塞板１１ｂで閉塞されて筒体１１ａの他方の端部側が開放端に形成された筐体１１と、閉塞板１１ｂに立設された放射器１４とを備え、筐体１１の内部には、閉塞板１１ｂ側の内部空間ＳＢ１と、放射器１４の先端近傍を内包して筒長方向に沿って延び、かつ内部空間ＳＢ１に供給された放電用ガスＧを筒長方向に沿って放射器１４の先端近傍を経由して筐体１１の他方の端部から外方へ放出する内部空間ＳＢ２と、筒体１１ａに設けられたガス放出口２２ｃから放出された放電用ガスＧを筒長方向に沿って内部空間ＳＢ１に誘導する誘導流路ＳＡとが形成されて、放電用ガスＧの供給状態において、内部空間ＳＢ２から放出される放電用ガスＧの気流に乗って放射器１４の先端近傍から筐体１１の開放端を越えて伸びるプラズマＰを発生させる。 （もっと読む）

【課題】電極剥がれや電極内での放電等を防止し、耐熱性に優れた放電電極および放電装置を提供することを目的とする。
【解決手段】従来の電極の部分を導電性の粉体５に替えることで、温度影響による電極剥がれを防止することができる。また、従来の誘電体バリアの部分を、セラミックあるいは石英で形成され、粉体５を収容可能に構成した筒６に替えることで、筒６と粉体５との間に隙間が生じにくいので、放電電圧が上昇しにくく、発熱しにくくなる。また、筒６がセラミックあるいは石英で形成されているので、耐熱性に優れ、ピンホールもなく、非常に長寿命が期待できる。その結果、電極剥がれや電極内での放電等を防止し、耐熱性に優れたプラズマ用電極１を実現することができる。 （もっと読む）

【課題】光電変換素子のバッファ層として、低コストに、かつ、より高い品質のバッファ層を得る。
【解決手段】化学浴析出装置１において、成膜用基板１０の成膜面１０ａに対して膜を化学浴析出させるための反応液２を蓄える反応槽３と、成膜用基板１０の裏面が密着固定されるステンレスからなる固定面２１ａを有し、少なくとも成膜面１０ａを反応液２に接触させるように成膜用基板１０を保持する基板保持部２０と、成膜用基板１０をその裏面側から加熱する、固定面２１ａの裏側に装着されたヒーター３０と、反応槽３中の反応液２の温度を制御する反応液温度制御部４０とを備える。 （もっと読む）