【課題】低コスト化を図れる導膜製造装置、製造した電気機械変換素子、液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】第１のアライメント調整工程では着弾位置２５１をカメラ２０５で捕捉し着弾位置２５１がカメラ２０５の撮影撮影基準位置２５２に一致するように基板又は液滴吐出ヘッド２０１を相対的に移動する。第２のアライメント調整工程ではレーザレッドによってレーザ光を照射して照射跡を形成し照射跡をカメラ２０５で捕捉し照射跡がカメラ２０５の撮影撮影基準位置２５２に一致するように基板又はレーザヘッドを相対的に移動する。第３のアライメント調整工程では基板上に予め形成されているアライメントマークを撮像手段２０５で撮影したアライメントマークの形状に基づいて基板の向きを検知して基板の向きの調整を行いアライメントマークを撮像手段２０５の撮影基準位置に一致するように基板を移動することで基板の組付け位置の調整を行う。 （もっと読む）

【課題】グラフェンシート系材料の処理方法及び装置に関し、所望の層数のグラフェンシートを有するグラフェンシート系材料の形成しうるグラフェンシート系材料の処理方法及び装置を提供する。
【解決手段】グラフェンシート系材料４０の表面に、グラフェンシート系材料４０に作用する反応性物質３４を含む雰囲気中で紫外線３６を照射することにより、グラフェンシート系材料の最表面層を除去し又は最表面層を改質化してグラフェンシート系材料４０の電気的性質を変化する。 （もっと読む）

【課題】特性の異なる二種類の多孔性表面領域を有する粒子、及び粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】表面を有する支持体を提供する工程、支持体上で第１多孔性層を形成する工程、支持体上で１個以上の粒子をパターン形成する工程、支持体上で第１多孔性層より大きい多孔度を有する第２多孔性層を形成する工程、さらに、パターン形成された１個以上の粒子を、第２多孔性層の破壊を含む処理によって支持体から解放することにより、第１多孔性層の一部及び第２多孔性層の一部を表面に含む多孔性粒子を製造する。 （もっと読む）

【課題】物品に付着しているよごれなどの有機物を大気中に飛散させることなく分解または除去でき、かつ物品の損傷が抑えられる表面処理方法、物品の損傷を抑えながら、物品表面をエッチングする表面処理方法、および表面を高度に洗浄し、損傷がほとんどない物品や表面をエッチングしながら、損傷のない物品を提供する。
【解決手段】水を含む液体中の水蒸気気泡内に発生したプラズマを、該液体中において、水に対する接触角が９０度以下である材料に付着している有機物に接触させて、該有機物を材料から除去する表面処理方法；水を含む液体中の水蒸気気泡内に発生したプラズマを、前記液体中において、水に対する接触角が９０度以下である材料に接触させて、該材料を破壊せずに、該材料の表面をエッチングするエッチング方法。 （もっと読む）

【課題】プラズマ化が困難なガスのプラズマを容易に生成することができるプラズマ生成用ガスおよびプラズマ生成方法並びにこれにより生成された大気圧プラズマを提供する。
【解決手段】大気圧プラズマを生成するために用いられるプラズマ生成用ガスであって、プラズマとなることにより処理能力を有するとともに、プラズマ生成用ガス全体をプラズマ源に搬送するためのベースガス（キャリアーガス）としてのアルゴン（Ａｒ）と、前記大気圧プラズマの処理効果を向上する処理効果向上ガスとしての酸素ガスもしくは炭酸ガスとの混合ガスとした。 （もっと読む）

【課題】プラズマ処理空間からの排気を均一に行う。
【解決手段】プラズマ処理空間を囲う真空チャンバ２と、その壁を貫通する開口２ａに対して外側から吸引口５１ａが連通接続された真空ポンプ５０と、プラズマ処理空間に臨んで基板を乗載可能な基板支持体１２とを備えたプラズマ処理装置において、真空ポンプ５０を介して真空チャンバに基板支持体１２を固設する。また、その支持脚１２ａが、開口２ａの中央を通り、真空ポンプ５０の支軸５２を兼ねるようにする。さらに、その支軸５２を中空の杆体にする。これにより、プラズマ処理空間から開口に至る排気路が基板支持体の周りで同じになるうえ、その開口のところでも同一性が維持されて、排気が均一になる。コンパクトな装置にもなる。 （もっと読む）

【課題】ナノサイズの凸部を短時間に低コストで製造する。
【解決手段】接着剤１中にナノ粒子２を分散させて加工面３に塗布し、ナノ粒子２が加工面３に固定された状態で加工面３にガスクラスターイオンビーム４を照射し、ナノ粒子２によるマスク部分を除く加工面３を加工する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、単粒子膜を構成する各粒子が２次元に最密充填し、高精度に配列した曲面上の単粒子膜エッチングマスクとその製造方法、該単粒子膜エッチングマスクを用いた曲面上の微細構造体の製造方法および該製造方法で得られた高精度な曲面上の微細構造体を提供する。
【解決手段】曲面、傾斜および段差など非平面である部分で面方向のピッチまたは大きさが０．１μｍ〜１００００μｍである表面が一部若しくは全部である基板上に形成する、粒子が２次元に最密充填した単粒子膜であって、
下記式（１）で定義される粒子の配列のずれＤ（％）が１０％以下であることを特徴とする単粒子膜。
Ｄ（％）＝｜Ｂ−Ａ｜×１００／Ａ・・・（１）
（式（１）中、Ａは前記粒子の平均粒径、Ｂは前記単粒子膜における前記粒子間の平均ピッチを示す。） （もっと読む）

【課題】表面にナノレベルの微細構造が形成された導電性材料を低コストで効率的に製造できる方法を提供する。
【解決手段】電解溶液３中に、不溶性陽極電極４と、被処理表面を有する導電性材料からなる、陰極電極５としての被処理材とを浸漬した後、電解溶液３中に浸漬した不溶性陽極電極４と、陰極電極５としての被処理材との間に、第１電圧以上、第２電圧未満の電圧を印加し、被処理表面を改質処理する表面改質処理工程を含み、第１電圧が、表面改質処理系の電圧−電流特性において、正電圧領域に最初に現れる第１電流極大値と、正電圧領域に最初に現れる第１電流極小値との和の１／２の電流値に対応する電圧であり、第２電圧が、完全プラズマ状態を呈する電圧であることを特徴とする表面改質された導電性材料の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】ＴＣＰ窓を過度に腐食させることなく導電性の反応生成物の堆積を防止する。
【解決手段】誘電結合型プラズマエッチング装置は、チャンバと、チャンバ頂部の開口部を封止するための窓とを備える。窓は、チャンバの内部領域に露出した内面を有する。ファラデーシールドとして機能する金属板は、窓の上方に窓から離れて設置される。コイルは、窓の内面がスパッタリングされるのを最適に低減し、それと実質同時に、窓の内面上にエッチング副産物が堆積されるの防ぐような、ピークトゥピーク電圧を生成するように構成された接続位置において、金属板に導電結合される。別の実施形態において、この装置は、金属板に外部からピークトゥピーク電圧を印加するためのコントローラを備える。コントローラは、発振回路と、整合回路と、ＲＦ電源と、印加されたピークピーク電圧をモニタリングするためのフィードバック制御とを備える。 （もっと読む）

【課題】平行平板型ドライエッチング装置において被処理基板上におけるプラズマ密度の分布特性を向上させること。
【解決手段】 このドライエッチング装置では、上部電極１８の周囲で環状突出部材５０が上部電極１８に対して被処理基板Ｗを載置する下部電極２０側へ突出して段差ｄを形成することで、上部電極１８の周辺部付近において電界が補強され、プラズマ密度が高められる。この電界の補強ひいてはプラズマ密度の増強の度合いは、環状突出部材５０の突出量ｄを変えることで可変調整できる。 （もっと読む）

ナノ粒子を形成するためのナノインプリントリソグラフィ法は、多層基板上に犠牲材料をパターン形成すること含む。幾つか場合では、多層基板のリムーバブル層に又は層内にパターンを転写し、機能材料を、多層基板のリムーバブル層に配置して凝固させる。その後、機能材料の少なくとも１つの部分を除去して、リムーバブル層の凸部を露出させ、機能材料の柱をリムーバブル層から剥離させて、ナノ粒子を得る。他の場合では、多層基板は機能材料を含み、多層基板のリムーバブル層に又は層内にパターンを転写する。犠牲層を除去し、機能材料の柱をリムーバブル層から剥離させて、ナノ粒子を得る。 （もっと読む）

本発明は、表面を構造化するための方法、言い換えれば、サブミクロンの高さＨと、ミクロン又はサブミクロンの幅と称される少なくとも１つの横方向の特性寸法とを有する凹凸又はパターン（２）の少なくとも一組を、基材（１）、特にガラスの表面に、任意選択的に中和されたイオンビームを用いるイオンビームエッチングにより形成するための方法であって、次の工程、すなわち、厚さが少なくとも１００ｎｍの材料を供給し、この材料は混成且つ固体の材料であって、１以上の元素の単一の酸化物又は混合酸化物であり前記材料中の酸化物のモル百分率が少なくとも４０％、とりわけ４０％と９４％の間であるもの、及び前記酸化物の元素と別の少なくとも１つの種、特に金属であって、当該材料中における種のモル百分率が６〜５０％の範囲であって前記酸化物の百分率よりも小さく、当該種の少なくとも大部分は５０ｎｍより小さい最大特性寸法を有するもの、を含み、前記混成材料は特に、前記エッチングの前において準安定性である工程と、前記エッチングの前に前記混成材料を任意選択的に加熱する工程と、前記混成材料の表面の１ｃｍ²より大きいエッチング表面を１時間未満のエッチング時間で、前記パターンの組が形成されるまで構造化する工程を含み、この構造化工程は前記混成材料を加熱することを任意選択的に含むことを特徴とする。
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【課題】処理空間内のプラズマ密度分布を制御することができ、プラズマ処理の面内均一性を向上させることのできるプラズマ処理装置及びシャワーヘッドを提供する。
【解決手段】内部で基板を処理する処理チャンバー２０１に、前記基板を載置するための載置台２０３と対向するように設けられ、前記載置台２０３と対向する対向面に複数設けられたガス吐出孔１１から前記基板に向けてガスをシャワー状に供給するためのシャワーヘッド１００を備えたプラズマ処理装置２００であって、前記シャワーヘッド１００の前記対向面と反対側の面とを貫通する複数の排気孔１３と、前記反対側の面側の前記排気孔１３と連通した排気空間内に、立設状態で設けられた複数の棒状の磁石柱１６ａ，ｂと、前記磁石柱１６ａ，ｂの少なくとも一部を移動させて前記排気孔１３との距離を変更するための移動手段１６１ａ，ｂと、を具備している。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、異方性粒子の異方性部位の面積を容易かつ精密に変えることが可能な異方性粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】
第一の粒子１１と、第一の粒子１１の平均粒径よりも平均粒径が小さく、かつ、第一の粒子１１とは異なる材料からなるマトリクス材１２、あるいはマトリクス材１２の前駆体とを含む液体１３を基板１４上に付与することにより、第一の粒子１１の間にマトリクス材１２が第一の粒子１１の平均粒径未満の高さで充填されている第一の粒子１１の単層膜を基板１４上に形成する工程と、第一の粒子１１のマトリクス材１２から露出している部分を改質することにより異方性粒子１５を得る工程と、異方性粒子１５を１４基板及びマトリクス材１２から分離する工程と、を有することを特徴とする異方性粒子１５の製造方法。 （もっと読む）

【課題】イオン種等の荷電粒子の影響を回避し得る反応種生成方法、および反応種生成装置、並びに反応種による処理方法、および反応種による処理装置を提供する。
【解決手段】希ガス１を励起種に励起させるための第１の反応容器１１と、第１の反応容器１１内でプラズマを生成させるための電源１２及び電極１３と、第１の反応容器１１にて希ガス１を励起させるときに生成された荷電粒子が、第１の反応容器１１外に漏れるのを抑制する接地されたメッシュ１４と、第１の反応容器１１にて励起された希ガス１を移送させる流路と、励起された希ガス１とプロセスガス３とが混合される第２の反応容器１６と、プロセスガス３をプロセス領域４に導入するプロセスガス供給流路１５とを備える。プロセス領域４にて、励起された希ガス１によってプロセスガス３から励起された希ガス１に比べて短寿命である反応種を生成する。 （もっと読む）

組成物、方法、およびシステムは、反応器の金属部（チタンおよび／またはチタン合金など）における金属酸化物を選択的にエッチングできる。エッチング組成物はアルカリ金属水酸化物および没食子酸を含む。この方法は酸化アルミニウムなどの金属酸化膜の堆積に用いられる反応チャンバの洗浄に有用である。 （もっと読む）

【課題】マスフローコントローラが設置された配管にガス流量計を設けなくてもマスフローコントローラの異常を検出することができるようにする。
【解決手段】ガス導入配管２０は、処理室３にプラズマ生成用のプロセスガスを導入する。圧力調整バルブ５０は、排気管５に設けられている。マスフローコントローラ２は、ガス導入配管２０に設けられており、プロセスガスの流量を調整する。圧力計４は、処理室３内の圧力を検出する。制御部６は、圧力計４の検出値に基づいて圧力調整バルブ５０の開度を制御することにより、処理室３内の圧力を制御する。また制御部６は、マスフローコントローラ２からプロセスガスの流量を示す流量データを受信し、流量データと、電極に高周波が入力されたときの圧力計４の検出値の変動量に基づいて、マスフローコントローラ２の異常の有無を判断する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、放電管の寿命を延ばすことができるプラズマ発生装置およびプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】内部にプラズマを発生させる領域を有する放電管と、マイクロ波発生手段から放射されたマイクロ波を伝播させて、前記プラズマを発生させる領域にマイクロ波を導入する導入導波管と、プラズマ生成物に含まれる荷電粒子の極性を利用して、前記放電管の内壁からプラズマ生成物を引き離すプラズマ生成物制御手段と、を備えたことを特徴とするプラズマ発生装置が提供される。 （もっと読む）

【課題】反応装置における反応剤の混合の均一性を高めつつ、反応装置の製造工程が煩雑になるのを防ぐ。
【解決手段】反応装置の第１流路構造体１ａは、基板４と、基板４の一方の面を覆った状態でその面に接合されている第１封止部材６と、基板４の他方の面を覆った状態でその面に接合されている第２封止部材６とを有し、基板４の一方の面には、第１導入路１０を構成する第１導入溝１８が形成されているとともに、反応路１６を構成する反応溝２４が形成されている一方、基板４の他方の面には、第２導入路１２を構成する第２導入溝２０が形成されており、合流路１４を構成する合流孔２２が第１導入溝１８及び第２導入溝２０と反応溝２４との間で基板４の一方の面から他方の面へ貫通してそれら導入溝１８，２０の下流側端部と反応溝２４の上流側端部とを繋ぐように設けられ、反応溝接続部２４ａの深さは、第１導入溝接続部１８ａの深さよりも大きい。 （もっと読む）