【課題】アーク放電が生じることを抑制しつつ多量のラジカル又は窒素酸化物を生成でき、生成したラジカル又は窒素酸化物を効率良く利用できるラジカル発生装置及び窒素酸化物発生装置を提供する。
【解決手段】高周波電圧を放電電極２に印加して放電を生じさせる放電領域４に空気を供給するファン１０を備える。放電領域４に供給される空気の流速値と、ラジカルがファン１０によって放電領域２より下流側に供給される供給量との関係において、空気流速値の増加に伴ってラジカル供給量がピーク値から低下して定常状態に移行したときにおけるラジカル供給量及び空気流速値の夫々の値を閾値とする。ファン１０によって放電領域４に供給される空気流速値を、空気流速値の閾値よりも小さく、ラジカル供給量がラジカル供給量の閾値よりも高くなるときの空気流速値に設定する。 （もっと読む）

【課題】 ガス吸収装置用規則充填物のぬれ性及び剛性を向上させることを目的とする。
【解決手段】
板状体のプレートを複数枚並列させて組み立ててなり、前記プレート本体には突出する複数の筒体からなる液受け部と、表裏両面に貫通する複数の透孔又は表裏両面に突出する複数の突出部からなる液分散部と、プレート本体の下面を凹凸上に形成してなる液渡し部から構成されることを特徴とする。前記プレート本体の表裏両面のうち少なくともいずれか一方の面に複数の小溝を水平方向に設けて形成した凹凸面による気液接触部を設けることが好ましい。前記板状体のプレートの左右両端部に、一方側の面に突出する突片と他方側の面に突出する溝とからなる連結部を形成し、複数枚並列させて各連結部の突片を隣接する溝に嵌めて組み立てるようにすることができる。 （もっと読む）

【課題】乳化凝集により粒子を連続製造するための装置及び方法を提供する。
【解決手段】原材料供給槽２及び４と、冷温添加プロセスのための反応器１０と、凝集プロセスのための反応器２０及び３０と、シェル添加プロセスのための反応器４０と、凍結プロセスのための反応器５０と、キレート化プロセスのための反応器６０と、昇温プロセスのための反応器７０と、融着プロセスのための反応器８０とを直列に配置した連続撹拌式槽型反応器（ＣＳＴＲ）、及びこの反応器を用いた連続乳化凝集による粒子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】気液を接触させたときの液体の逆混合を抑制して、液体の滞留時間分布の分布幅を狭くすることができる塔型接触装置を提供する。
【解決手段】塔型容器１１内において気液を上向き流れで接触させるための塔型接触装置１０であって、塔型容器１１内に２段以上のハニカム構造体１２ａ〜１２ｈを縦方向に収容し、ハニカム構造体間の空間部１３ａ〜１３ｇに、逆流防止手段となる整流部１４ａ〜１４ｇをハニカム構造体に接触しない状態で設置し、整流部は、穴径０．５〜８ｍｍの多数の穴を有する。 （もっと読む）

【課題】気液接触時の流動状態を安定化できる、ハニカム構造体が収容された塔型容器内において気液を上向き流れで接触させるための塔型接触装置と、その運転方法を提供する。
【解決手段】塔型容器１１内において気液を上向き流れで接触させるための塔型接触装置１０であって、塔型容器内には、気液を接触させるためのハニカム構造体１２が収容され、ハニカム構造体が、多数の平行な細管流路からなり、細管流路が、幅方向の断面形状の水力直径が１ｍｍ未満であり、好ましくは、細管流路の幅方向の断面形状が三角形である塔型接触装置。 （もっと読む）

【課題】構成が簡易でしかも、長期間に亙っての運転でも濡れ性能が良好な気液接触板、気液接触積層ブロック体、気液接触積層構造体及びガス浄化装置を提供する。
【解決手段】本発明の気液接触板１０は、基板１１の上側から下側方向に処理液１２が流れ、処理液１２に接触したガス１３の一部が該処理液１２に吸収される気液接触板であって、基板１１の下端部側が所定間隔のピッチを有する下に凸状の鋸歯状部１４を有するものである。また、基板１１には、所定間隔を持って複数段の液分散用の孔群２０が設けられている。その配列は千鳥状配列としている。 （もっと読む）

【課題】分留、質量輸送、熱輸送のために蒸気と液体の接触を効率良く行う接触モジュールを備えた装置を提供する。
【解決手段】接触モジュールは、離間して配置される一組のデミスタ２４と、前記一組のデミスタの間に配置される液体分配器２２を備え、デミスタと液体分配器により蒸気と液体の接触空間５６が画定され、デミスタは接触空間と流体連通する入口面４２及び反対側に流体連通する出口面４４を有し、液体分配器は接触空間に流体連通する出口３４を有しており、この接触モジュールは収容パン２６に収容されて複数個並べて配置されることにより一つの段を形成し、この段がさらに上下に複数段重ねて配置された構成を有する装置。 （もっと読む）

【課題】気相プロセス処理を含む、粒子の流動化を利用する化学プロセスと、マイクロチャンネル（以下、単にチャンネルとも称する）を通して流体中を移動する触媒粒子の触媒作用を受ける化学反応とを提供することである。
【解決手段】化学反応を実施するための方法であって、ヘッダーと、流れ改質用マニホルド連結部とを通して流体流れを流動させることにより分与流れを形成すること、を含み、ヘッダーがマイクロチャンネル列との間にインターフェース部分を有し、（ａ）分与流れがマイクロチャンネル列を通して固形粒子を搬送し、（ｂ）分与流れが固形粒子を連行する方法。 （もっと読む）

【課題】カラム壁部に沿った液体の迂回が大幅に回避できるカラムを提供すること。
【解決手段】物質移動用カラム１内でパッキング２を固定するための、頂部要素５と、壁部要素６と、底部要素７とを備える細長いシート４を備える冠状要素３であって、第１の曲げ線８が頂部要素５と壁部要素６との間に形成されるように、壁部要素６は頂部要素５と底部要素７との間に配置される、冠状要素。第２の曲げ線９が壁部要素６と底部要素７との間に形成され、頂部要素５は複数の切り込み１５を伴って設けられ、底部要素７は複数の溝１７を伴って設けられる。切り込み１５の数は溝１７の数より少ない。 （もっと読む）

【課題】線条とスペーサーの交差部からの液の飛散を生じることなく処理量を増加できる気液接触機構を提供する。
【解決手段】各充填体構成要素（２６）は、液分配器（２１）の複数の液出口のそれぞれに１本ずつ懸架され、各充填体構成要素の下端は液集合器（２３）に設けられた固定板（２７）に１本ずつ結合され、液は固定板を介して液集合器に集められ、気体の出口（３２）は液分配器（２１）の上部にあり、気体の入り口（２９）は規則充填体（２６）の下端よりも下方にある気液接触機構。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、空冷ファンを有するマイクロ波照射装置内であっても、触媒充填部からの余計な放熱を防ぎ、より省エネギーで効率よく触媒反応を促進できるマイクロ波反応装置を提供することにある。
【解決手段】
空冷ファンを有するマイクロ波照射装置内で、反応管内の触媒充填部にマイクロ波を照射して該触媒充填部に導入したガス流体を触媒反応させるマイクロ波反応装置であって、前記触媒充填部位置の反応管周囲を比誘電率が１．０〜５．０のマイクロ波透過性の保温材で被覆したことを特徴とするマイクロ波化学反応装置である。 （もっと読む）

【課題】パッキング内のガスおよび液体の流れを改善して、液体滴の形成を防止し、または液体滴がガス流によって搬送されることを防止し、よって滴分離器の使用を排除する接触装置を提供する。
【解決手段】ガス流のために装置の下方に配置された入口３と、処理済みのガス流を排出するための出口４、その間に配置された構造化パッキング８、さらに液体流のための入口６、および処理済みの液体流を排出するための出口７、さらに少なくとも１つの液体ディストリビュータ２１が液体流のために前記入口６に配置される接触装置１において、液体ディストリビュータ２１が、構造化パッキング８の流路１８内に突出する少なくとも１つのノズルを備え、ノズルが、前記流路１８内のガス流の基本的に完全な遮断を達成する。 （もっと読む）

【課題】パッキング内のガスと液体の分配を改善する。
【解決手段】本発明は、装置の下部（２）に位置する上方向に導かれるガス流の入口（３）と処理されたガス流を排出するその上部（５）の出口（４）の間に、同様に、下方向に導かれる液体流のための装置の上部（５）の入口（６）と処理された液体流を排出するためのその下部（２）の出口（７）の間に配置され、異なる方向に配列する複数のパッキング層（１１〜１７）で構造化したパッキング（８）を含む接触装置（１）であって、パッキング層（１１〜１７）を通るそれぞれの流路（１８）が一定の方向に配向している接触装置において、前記ガス流の入口（３）が、構造化したパッキング（８）の下限面（１０）と実質上同じ高さに開口する。 （もっと読む）

波様の形状を有する構造化充填物に用いる層１０が含まれており、波様の形状によって、複数の開放通路１２、１４、１６が形成される吸収装置又は脱着装置である。本発明によれば、前記開放通路は、第１の波の谷２２、第１の波の山３２及び第２の波の山４２を有している。第１の波の山３２及び第２の波の山４２は、第１の波の谷２２の境界を定めている。第１の波の山及び第２の波の山は、第１の頂部及び第２の頂部を定めている。第１の頂部３３の方向に延在している凹所３４は、第１の波の山３２の第１の頂部３３に形成されている。第１の波の谷２２は谷底２３を有しており、凹所３４の少なくとも１つの点から波の谷２２の谷底２３までの垂直距離２７は、第１の頂部３３から波の谷２２の谷底２３までの垂直距離２８より短い。
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媒体の外面に組み込まれた流体分散流路を有する不規則な方向を向いたセラミックの媒体の床を含む容器が開示される。流路は流体を取り込みかつ向け直し、それによって容器内の流体の分散を向上させる。
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本発明は、平形供給フードを有する管束反応器に関する。選択的に、排出フードも平形デザインを有していることができる。この平形デザインは、管束内のみならず、起こるタイプの反応（非触媒作用反応及び均一に分配された触媒を用いる反応）の場合に、フード内に生じる反応熱を減少させる。これにより、蓄積された熱に基づき既にフード中で起こる不所望の反応は著しく抑圧され、これによって、温度敏感な反応の場合の高い選択率が達成される。更に、フード内の温度分布を精密にコントロールすることができる。この管束反応器は、管束反応器の供給フードと結合している供給端部を有する管束を包含しており、この際、平形デザインを有するこの供給フードは、供給端部に横断面積を有し、内部容積を有して構成されており、内部容積と横断面積との比は０．３５ｍより小さい。更にこの発明は、出発物混合物を管束中に導入し、出発物混合物の少なくとも一部を、この管束内で生成物まで変換させることからなる、管束反応器の作動法を用いて実現される。この導入は、出発混合物を管束反応器の供給フードの内部空間中に供給し、かつ、出発物混合物を管束の供給端部中に液体流の形で更に導通させることからなる。この液体流は、供給端部中への進入の際に横断面積を有し、その中を液体流が流れる供給フードの内部空間は、内部容積を有し、この際、内部容積と横断面積との比は、０．３５ｍより小さい。
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【課題】空気を循環させ浄化処理を繰り返すことにより、汚染空気中の水銀濃度が高い場合でも確実に浄化しあるいは室内雰囲気中の水銀濃度を低レベルに維持できる空気清浄機、及びこの空気清浄機を備えた分析室、並びに当該空気清浄機を用いた空気の浄化方法を提供する。
【解決手段】処理対象となる、水銀蒸気を含む空気を装置内に吸い込むためのファンと、前記ファンにより吸い込まれた前記空気に対し波長２５４ｎｍの光を照射し、前記水銀蒸気より酸化水銀を生成する照射手段と、前記照射手段の照射空間を取り囲む壁面に配置され、前記酸化水銀を吸着し前記空気を浄化する吸着手段とを有する。 （もっと読む）

【課題】粒径の均等性を向上させることが可能な造粒装置の提供を目的とする。
【解決手段】本発明の造粒装置１００によれば、造粒容器６１の中心部、天井部、側部、底部そして中心部へと循環する循環ガス流に乗って粉体が造粒容器６１内を循環する。この過程で粉体がプラズマフレームＦ２によって加熱されて粉体同士が付着し、粒径が徐々に大きくなる。そして、所定の粒径以上に成長した大径粒体は、自重によって循環ガス流から離脱する。ここで、循環ガス流から離脱した大径粒体は、造粒容器６１の底部に貫通形成された環状孔８２を通って直ちに造粒容器６１の外部、即ち、回収容器１０へと排出されるから、所定の粒径以上に成長した大径粒体に、循環中の粉体又は粒体がさらに付着することが防がれる。これにより、大径粒体の過剰な大型化を抑えて、粒径の均等性を向上させることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】充填物ブロック同士を水平方向に隣接させた接合部で、接合部の隙間を通って液体が下方に流れ落ちてしまうことを防止し、気液接触を効率よく行うことができる気液接触装置を提供する。
【解決手段】複数の充填物ブロック２１を水平方向に隣接させて形成した規則充填物１２を有する気液接触装置において、前記複数の充填物ブロック２１の側端部に開口した流路同士が対向する隣接面２１ａの鉛直方向に対して傾斜させる。隣接面２１ａの傾斜角度は、波形金属板の折曲線の傾斜角度と同じ角度であることが好ましく、３０〜４５度の範囲が好ましい。 （もっと読む）

本発明は、液体と少なくとも１つの第２の流体とを継続的に反応させるための装置及び方法に関するものであって、当該装置は、互いに並列に接続された少なくとも２つのジェットループ反応器と、１つの共通の外部の液体循環路とを有している。
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