【課題】アーク放電が生じることを抑制しつつ多量の酸性成分を生成でき、しかも安全性に優れ、コストを抑えた酸性成分発生装置を提供する。
【解決手段】放電電極１を備える。放電電極１に対向する対向電極２を備える。放電電極１と対向電極２の夫々に位相のずれた高周波電圧を印加することで、放電を生じさせて酸性成分を発生させる電圧印加手段３を備える。 （もっと読む）

【課題】リアクターの内部の状態を知ることができる化学反応装置を提供する。
【解決手段】液状の内容物が、上方に未充填空間を有した状態で水平方向に流れる横型のフロー式のリアクター１３と、マイクロ波を発生するマイクロ波発生器１４と、マイクロ波発生器１４の発生したマイクロ波を、リアクター１３の未充填空間に伝送する１以上の導波管１５と、リアクター１３と接続され、内容物が流通できる管であり、マイクロ波発生器１４の発生したマイクロ波の侵入を阻止できる属性を有する管であるマイクロ波侵入阻止管５１と、マイクロ波侵入阻止管内の内容物を介して、リアクター内の内容物の液面レベル位置を検出可能な検出部５２と、を備えることにより、リアクター１３内の液面レベル位置を知ることができる。 （もっと読む）

【課題】２種類以上の性質の異なる表面状態を有する基板およびマイクロチップ並びにそれらの製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に金属パターンまたは金属酸化物パターンが形成され、上記金属パターンまたは上記金属酸化物パターン上に表面処理膜を形成することにより、２種類以上の性質の異なる表面状態を有する基板およびマイクロチップを提供する。 （もっと読む）

【課題】付加的な外部の支持部無しに、容易に、装置内で圧力を加えられた流体が発生するすべての力に耐えることができる装置を提供する。
【解決手段】流体処理装置は、第１のエンドピース１１及び第２のエンドピース１２と、第１のエンドピース１１と前記第２のエンドピース１２との間に配置される少なくとも１つの流体処理ユニット１３と、前記第１のエンドピース１１と前記第２のエンドピース１２との間に延びて、流体処理ユニット１３と、前記第１のエンドピース１１及び前記第２のエンドピース１２とを共に押し付けるように配置されたリテーナー２６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】プラズマ発生領域の体積を大きくしたプラズマ発生装置の提供。
【解決手段】大気圧プラズマ発生装置１００であって、長手方向に伸び、プラズマを発生する柱状のプラズマ化領域Ｐを内包する絶縁体から成る筐体１０と、プラズマ化領域Ｐにプラズマ発生ガスを前記長手方向に対して垂直な方向から長手方向に一様に供給するガス導入部１２と、プラズマ化領域Ｐにおいて、前記長手方向に離間して配置された１対の電極２ａ，２ｂと、プラズマ化領域Ｐに接続され、そのプラズマ化領域Ｐで生成された前記プラズマを排出し、プラズマ化領域Ｐの長手方向に沿って配列され、前記プラズマ発生ガスの流れる方向に長く伸びた多数の孔から成る排出部２４とを有する。 （もっと読む）

【課題】温度制御が可能であり、所望の滞留時間を保証するのに適した、改善されたマイクロリアクターシステムアッセンブリーを提供する。
【解決手段】マイクロリアクターシステムアッセンブリーは、少なくともｎのプロセスモジュール（１−６）であって、ここにおいて、ｎは１以上の整数であり、強固な第１の材料で作られており、および、反応液を収容しおよび導くために、少なくとも１つの反応液通路（１Ａ、１Ｂ、２Ａ、３Ａ、６Ａ）を含むプロセスモジュール、および少なくともｎ＋１の熱交換モジュール（７、８）であって、前記第１の材料とは異なる延性のある第２の材料で作られており、および、熱交換液を収容しおよび導くために、少なくとも１つの熱交換液通路（７Ａ、８Ａ）を含む熱交換モジュールのスタックを含み、ここにおいて、それぞれのプロセスモジュール（１−６）は、２つの隣接する熱交換モジュール（７、８）により挟まれる。 （もっと読む）

【課題】放射導体の先端から筒長方向に沿って延びる状態でプラズマを発生させる。
【解決手段】一方の端部が閉塞板１１ｂによって閉塞されると共に他方の端部に噴出口２５が形成された筒体１１ａを有する筐体１１と、閉塞板１１ｂの内面に筐体１１の筒長方向に沿って延出するように立設されると共に入力した高周波信号Ｓ１を放射する棒状の放射器１４とを備え、ガス供給部４によって筐体１１内に放電用ガスＧが供給され、かつ放射器１４が高周波信号Ｓ１を放射している状態において、放射器１４の先端近傍から噴出口２５を介して筐体１１の外方に延びるプラズマＰを発生させるプラズマ処理装置１であって、筐体１１の内面には、ガス供給部４から供給される放電用ガスＧを筐体１１内に互いに異なる方向で放出するガス放出口２２が複数形成されている。 （もっと読む）

【課題】少なくとも１つのパケットに対して汚染なしに化学的または物理的処理を行うためのマイクロ流体デバイスおよび方法を提供する。
【解決手段】マイクロ流体デバイス１において、該デバイスが、軸Ｘを有するマイクロチャネル２、および下記の少なくとも１つを含むパケット操作手段を含むところのデバイス、発電ユニット９、および上記発電ユニット９に連結されかつ、上記マイクロチャネルの少なくとも一部分の内部に、上記マイクロチャネルの軸Ｘと実質的に共線的である電場を作るように構成された電極アッセンブリ３、ここで、上記発電ユニット９は、マイクロチャネルにおいて少なくとも１つのパケットを変形させるまたは少なくとも２つのパケットを互いの方に移動させるような振幅および周波数を有する電場を発生させることができる。 （もっと読む）

【課題】 金属細片を半導体表面にパターン化しなくとも、光照射により発生したキャリアを効率的に利用する手段の提供。
【解決手段】 第一の半導体と第二の半導体とが接合し、第一の半導体側の接合界面に二次元ホールガス層が形成されたヘテロ接合半導体を含むデバイスであって、第二の半導体の厚さが３０ｎｍ以下であるエネルギー変換デバイス。 （もっと読む）

【課題】本発明は、プラズマを用いてシランガスを効果的に分解するための手段を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、プラズマを用いたシランガス除去装置に関する。本発明の一実施形態によるシランガス除去装置は、既設定された周波数の電磁波を発振する電磁波供給部と、前記電磁波供給部から供給された前記電磁波及び渦流ガスからプラズマを発生させる放電管と、前記放電管に前記渦流ガスを供給する渦流ガス供給部と、前記放電管で発生された前記プラズマとシランガスとの反応により二酸化珪素及び水が生成される反応炉と、前記放電管内に前記プラズマの発生のための初期電子を供給する点火部と、前記反応炉の上端に形成され、前記反応炉内部の前記プラズマに前記シランガスを供給するシランガス供給部と、前記反応炉で生成された前記二酸化珪素及び水を排出するガス排出部とを備える。 （もっと読む）

【課題】 プラズマ放電部を複数並べて任意の大きさの試料に対応できるように放電面積を拡大する場合であっても、単位あたりの電力コストを増加することなく、均一なプラズマ生成が可能なプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】 高周波信号回路１３及び高周波電力回路１１を有する高周波電源と筐体２１と放電電極２とを備えたプラズマ処理装置において、筐体２１内に設置された放電電極２と高周波電力回路１１とでプラズマモジュールを構成し、複数個並列接続されたプラズマモジュールに高周波信号回路１３からの周波数信号を入力する。 （もっと読む）

【課題】
マイクロメータスケールの微小物質を基板の任意な位置に確実に堆積させる方法を提供する。
【解決手段】
内部に電極が挿入され、且つ、微小物質を溶剤に溶かした溶融液、或いは、溶剤に分散させて得られた微小物質を含む分散液が充填されているマイクロピペットを傾けて配置させ、その先端部が基板表面に近接するように位置決めし、適切な電圧を印加することで分散液のメニスカスを成長させ、基板表面に接触移動させることによって、マイクロメータスケールの微小物質を確実に堆積させる方法。 （もっと読む）

【課題】ガス状のハロゲン化チタンと酸素とを反応させ、酸化チタン粒子を製造する化学反応装置を提供する。
【解決手段】化学反応装置は、ガス状のハロゲン化チタン及び酸素の流れを導くことができる反応装置導管と、前記動いている成分ストリームに、ガス状ハロゲン化チタン及び酸素及びそれらの混合物から選ばれた追加の成分を注入し、ナタリー数が０．５又はそれ以下である流れを提供するためのインジェクターアッセンブリとを有する。 （もっと読む）

【課題】駆動メカニズム（ＥＷＯＤまたはＤＥＰ）を、任意の時点にてアレイ素子に含まれる各列に応じて個別に選択可能なように構成されたアクティブマトリクス駆動回路を提供する。
【解決手段】マイクロ流体装置は、アレイ上の１個または複数の液滴４を操作するように構成されている複数のアレイ素子４３と、アクティブマトリクス駆動回路８４とを備えており、各アレイ素子は、上部基板３６上に形成されている上部基板電極２８と、下部基板７２上に形成されている駆動電極３８Ａ、３８Ｂとを含んでおり、上記上部基板電極および上記駆動電極の間に上記１個または複数の液滴を配置可能であり、上記アクティブマトリクス駆動回路は、上記複数のアイレ素子の、上記上部基板電極および上記駆動電極に駆動信号を与え、上記複数のアレイ素子の間で、上記１個または複数の液滴を操作するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】アーク放電が生じることを抑制しつつ、多量の酸性成分を生成できる酸性成分発生装置を提供する。
【解決手段】放電電極１を備える。また、放電電極１に高周波の電圧を印加して放電を生じさせることにより酸性成分を発生させる電圧印加手段３を備える。 （もっと読む）

【課題】気相と液相の両方を伴う反応を行うのに有用な反応器装置を提供する。
【解決手段】反応容器の上方部分（ヘッドスペース領域）に配置されたスリンガーを含む気液相反応器装置。スリンガーは、反応器容器のまわりに液体を効果的に分配する、湾曲した形状で外側へ放射状に延びる複数の垂直に立った羽根を含む上方水平面を含む。気液相反応器装置を用いて酸化反応を行う方法も開示する。開示された反応器装置および方法は広範囲の用途を有するが、テレフタル酸の製造に特に適している。 （もっと読む）

【課題】 アニオン部位の原料とカチオン部位の原料を効率よく使用でき、かつアニオン部位の原料とカチオン部位の原料の反応速度の制御が可能なイオン性化合物の製造方法により、高純度のイオン性化合物を提供することを目的とする。
【解決手段】 特定のペルフルオロアルキルスルホン酸エステルまたはＮ−アルキルペルフルオロアルキルスルホニルイミドであるアニオンと、特定のアミンであるカチオンとからなるイオン性化合物であって、原料のアニオンと、原料のカチオンと、をマイクロリアクタにより形成された反応流路で連続的に接触させて製造され、原料のアニオンの含有量：Ａ（ｐｐｍ）と原料のカチオンの含有量：Ｂ（ｐｐｍ）との和：（Ａ＋Ｂ）が、５００（ｐｐｍ）以下であることを特徴とする、イオン性化合物である。 （もっと読む）

【課題】 養殖池や湖沼のような静水域の水質保全に横軸水車や噴水で水を跳ね上げる方法がとられているが、これでは表面の流れを起こすだけで、静水域全体に大きな対流を発生させることができず、溶存酸素を水底まで到達させることができないため、ヘドロの堆積に伴う水質劣化に対応できない。
【解決手段】 本発明では、水面上で自己浮遊式の水平回転翼を、低速で回転させるとともに、その水平回転翼の真下の散気ヘッダーパイプの多数の微細な穴から、１〜２０テラヘルツの共鳴電磁波を発振するフィルターを吸気側に取り付けた送風機からの供給空気を放出することにより、エアーリフト効果で水底部の水を水面部まで上昇させ、大きな対流を発生させるとともに、活性化された空気や酸素を、高濃度で水に溶存させ、水質を保全する。 （もっと読む）

【課題】速やかに成膜でき、不純物が少なく、緻密な有機薄膜を安定に複数回連続して形成可能な有機薄膜製造方法の提供。
【解決手段】基板上に形成されてなる化学吸着膜であって、前記基板が結晶性を有さず、かつ、化学吸着膜が結晶性を有しており、膜を構成している分子が規則的に高密度充填しており、かつ膜の面間隔が約４．１Åであることを特徴とする化学吸着膜。 （もっと読む）