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Fターム[4G075EB50]の内容

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Fターム[4G075EB50]に分類される特許

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【課題】アーク放電が生じることを抑制しつつ多量の酸性成分を生成でき、しかも安全性に優れ、コストを抑えた酸性成分発生装置を提供する。
【解決手段】放電電極1を備える。放電電極1に対向する対向電極2を備える。放電電極1と対向電極2の夫々に位相のずれた高周波電圧を印加することで、放電を生じさせて酸性成分を発生させる電圧印加手段3を備える。 (もっと読む)


【課題】液体の前進および停止を任意のタイミングで制御することが可能な、コンパクトな流路チップ100を提供する。
【解決手段】流路チップ100は、第1開放路112、第2開放路113、第1導入路102、第1合流路103、及び、第1交差位置と第2交差位置との間、あるいは、第2交差位置に配設され、第1導入路102および第1合流路103から流路114へ導入される液体の流れを制御するバルブ141を備える。 (もっと読む)


【課題】付加的な外部の支持部無しに、容易に、装置内で圧力を加えられた流体が発生するすべての力に耐えることができる装置を提供する。
【解決手段】流体処理装置は、第1のエンドピース11及び第2のエンドピース12と、第1のエンドピース11と前記第2のエンドピース12との間に配置される少なくとも1つの流体処理ユニット13と、前記第1のエンドピース11と前記第2のエンドピース12との間に延びて、流体処理ユニット13と、前記第1のエンドピース11及び前記第2のエンドピース12とを共に押し付けるように配置されたリテーナー26と、を備える。 (もっと読む)


【課題】混合流体に含まれる複数の流体同士の相互作用が生じた後、その混合流体から所望の流体又は生成物を分離する分離作業を簡略化する。
【解決手段】流路構造体では、流通路2は、互いに混合された第1流体と第2流体からなる混合流体が流れる第1混合流体流路28と、第1混合流体流路28の下流側に繋がり、第1混合流体流路28から流入した混合流体が比重の小さい軽質流体とその軽質流体よりも比重の大きい重質流体とに比重差によって分離するような断面形状を有する分離空間30と、分離空間30のうち重質流体が溜まる部分に繋がり、分離空間30から重質流体が流入する重質流路32と、分離空間30のうち軽質流体が溜まる部分に繋がり、分離空間30から軽質流体が流入する軽質流路34とを有する。 (もっと読む)


【課題】内容物の量が変化しても、内容物に効率よくマイクロ波を照射することができる化学反応装置を提供する。
【解決手段】内部が仕切り板によって複数の室に仕切られており、液状の内容物が、上方に未充填空間を有した状態で水平方向に流れる横型のフロー式のリアクター13と、マイクロ波を発生するマイクロ波発生器14と、マイクロ波発生器14の発生したマイクロ波を、リアクター13の未充填空間に伝送する1以上の導波管15と、を備え、リアクター13は、内容物の量の変化に応じて液面の高さが変化しても、液面の面積が不変である形状を有している。 (もっと読む)


【課題】簡便で精度の高い分析を可能とするマイクロチップの提供。
【解決手段】流路において、流路壁の一部が変形することによって、流路内空へ突出して、流路が狭窄又は閉塞される逆流防止構造が形成されるマイクロチップを提供する。逆流防止構造が流路内に形成されることによって、ウェルに充填された溶液の逆流が妨げられ、ウェル間での溶液の通流による汚染が防止され、マイクロチップ内の複数のウェルにおいて、異なる分析を同時に行う場合であっても、精度の高い分析が可能となる。 (もっと読む)


【課題】温度制御が可能であり、所望の滞留時間を保証するのに適した、改善されたマイクロリアクターシステムアッセンブリーを提供する。
【解決手段】マイクロリアクターシステムアッセンブリーは、少なくともnのプロセスモジュール(1−6)であって、ここにおいて、nは1以上の整数であり、強固な第1の材料で作られており、および、反応液を収容しおよび導くために、少なくとも1つの反応液通路(1A、1B、2A、3A、6A)を含むプロセスモジュール、および少なくともn+1の熱交換モジュール(7、8)であって、前記第1の材料とは異なる延性のある第2の材料で作られており、および、熱交換液を収容しおよび導くために、少なくとも1つの熱交換液通路(7A、8A)を含む熱交換モジュールのスタックを含み、ここにおいて、それぞれのプロセスモジュール(1−6)は、2つの隣接する熱交換モジュール(7、8)により挟まれる。 (もっと読む)


【課題】少なくとも1つの液滴を操作するためのマイクロ流体デバイスおよび方法を提供すること。
【解決手段】本デバイスは、平行であり、離間距離(H)だけ相互に離間された、第1のマイクロ流体表面および第2のマイクロ流体表面と、前記第1の表面の上に配置された少なくとも1つの第1の電気変位経路と、前記第2の表面の上に配置された少なくとも1つの第2の電気変位経路とを備える。第1の経路および第2の経路の少なくとも一方は、前記経路に沿って各流体フィンガを形成するように構成され、前記流体フィンガは、毛管作用により少なくとも1つの各液滴を生成することによって破裂する。第1の経路および第2の経路は、前記第1の表面と前記第2の表面との間の離間距離が、一方においては各流体フィンガにより形成される流体厚さよりも大きく、他方においては各液滴により形成される流体厚さよりも小さくなるように構成される。 (もっと読む)


【課題】結晶異方性エッチングにより安定的に流路を形成する流路デバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明によると、第1の幅を有する第1領域と、第1の幅より広い第2の幅を有する第2領域と、一端が第1領域に接続し、他端が第2領域に接続する接続領域と、を含む流路を備えた流路デバイスの製造方法であって、一主面が{110}面であるシリコン基板を準備し、シリコン基板の一主面上に{110}面と{111}面の交線に沿った第1の端部と、交線に直交し<111>方向に延びる第2の端部と、を含むマスクパターンを形成し、マスクパターンを介して結晶異方性エッチングを行うことにより、シリコン基板の一主面に前記流路を形成すること、を含み、第2領域の両側にそれぞれ配置された第2の端部は、互いに第1領域との距離が異なるように形成されることを特徴とする流路デバイスの製造方法が提供される。 (もっと読む)


【課題】少なくとも1つのパケットに対して汚染なしに化学的または物理的処理を行うためのマイクロ流体デバイスおよび方法を提供する。
【解決手段】マイクロ流体デバイス1において、該デバイスが、軸Xを有するマイクロチャネル2、および下記の少なくとも1つを含むパケット操作手段を含むところのデバイス、発電ユニット9、および上記発電ユニット9に連結されかつ、上記マイクロチャネルの少なくとも一部分の内部に、上記マイクロチャネルの軸Xと実質的に共線的である電場を作るように構成された電極アッセンブリ3、ここで、上記発電ユニット9は、マイクロチャネルにおいて少なくとも1つのパケットを変形させるまたは少なくとも2つのパケットを互いの方に移動させるような振幅および周波数を有する電場を発生させることができる。 (もっと読む)


【課題】
マイクロメータスケールの微小物質を基板の任意な位置に確実に堆積させる方法を提供する。
【解決手段】
内部に電極が挿入され、且つ、微小物質を溶剤に溶かした溶融液、或いは、溶剤に分散させて得られた微小物質を含む分散液が充填されているマイクロピペットを傾けて配置させ、その先端部が基板表面に近接するように位置決めし、適切な電圧を印加することで分散液のメニスカスを成長させ、基板表面に接触移動させることによって、マイクロメータスケールの微小物質を確実に堆積させる方法。 (もっと読む)


【課題】駆動メカニズム(EWODまたはDEP)を、任意の時点にてアレイ素子に含まれる各列に応じて個別に選択可能なように構成されたアクティブマトリクス駆動回路を提供する。
【解決手段】マイクロ流体装置は、アレイ上の1個または複数の液滴4を操作するように構成されている複数のアレイ素子43と、アクティブマトリクス駆動回路84とを備えており、各アレイ素子は、上部基板36上に形成されている上部基板電極28と、下部基板72上に形成されている駆動電極38A、38Bとを含んでおり、上記上部基板電極および上記駆動電極の間に上記1個または複数の液滴を配置可能であり、上記アクティブマトリクス駆動回路は、上記複数のアイレ素子の、上記上部基板電極および上記駆動電極に駆動信号を与え、上記複数のアレイ素子の間で、上記1個または複数の液滴を操作するように構成されている。 (もっと読む)


【課題】ナノストラクチャまたはマイクロストラクチャ表面に置かれた小滴の移動が、ナノストラクチャ・フィーチャ・パターンの少なくとも1つの特性または小滴の少なくとも1つの特性によって決定される方法および装置を提供する。
【解決手段】小滴の横方向の移動が、ナノストラクチャ・フィーチャ・パターンの少なくとも1つの特性によって、小滴がナノストラクチャ・フィーチャ・パターンに沿って所望の方向に移動するように決定される。他の実施形態では、小滴の移動が、ナノストラクチャ・フィーチャ・パターンの少なくとも1つの特性または小滴の少なくとも1つの特性によって、小滴が所望の領域のフィーチャ・パターンに侵入し、そこで実質的に不動化するように決定される。 (もっと読む)


【課題】 アニオン部位の原料とカチオン部位の原料を効率よく使用でき、かつアニオン部位の原料とカチオン部位の原料の反応速度の制御が可能なイオン性化合物の製造方法により、高純度のイオン性化合物を提供することを目的とする。
【解決手段】 特定のペルフルオロアルキルスルホン酸エステルまたはN−アルキルペルフルオロアルキルスルホニルイミドであるアニオンと、特定のアミンであるカチオンとからなるイオン性化合物であって、原料のアニオンと、原料のカチオンと、をマイクロリアクタにより形成された反応流路で連続的に接触させて製造され、原料のアニオンの含有量:A(ppm)と原料のカチオンの含有量:B(ppm)との和:(A+B)が、500(ppm)以下であることを特徴とする、イオン性化合物である。 (もっと読む)


【課題】断熱構造を持つマイクロ流体デバイスを提供する。
【解決手段】半導体基板と、半導体基板内の少なくとも1つのマイクロリアクタ105と、半導体基板内でマイクロリアクタに接続された1つ以上のマイクロ流体チャネル101と、マイクロ流体チャネルを封止するための、半導体基板に接合されたカバー層と、マイクロリアクタ及びマイクロ流体チャネルを包囲する基板貫通トレンチ100とを備えたマイクロ流体デバイス104であって、基板貫通トレンチは空隙であるか、または断熱材料で充填されている、マイクロ流体デバイス (もっと読む)


【課題】従来の貼り合せ工程で必要とされている面精度の向上を不要としかつ貼り合わせ用の設備を省略でき、コストも削減も実現することができる微細中空流路を有する石英ガラス物品の製造方法の提供。
【解決手段】平坦なシリカ基板10の上面に燃焼除去可能な物質からなる凸状微小流路パターン部12を形成する工程と、該微小流路パターン部を被覆するようにシリカ粉含有グリーン層14を設けシリカ基板及びシリカ粉含有グリーン層からなるシリカ複合体16を形成する工程と、該シリカ複合体を酸化性雰囲気で加熱保持して該微小流路パターン部を燃焼除去することにより微小中空流路12Aを形成し微小中空流路を有するシリカ複合体16Aを形成する工程と、該微小中空流路を有するシリカ複合体を高温に加熱して焼結透明化しかつ溶融一体化することにより微小中空流路を有する石英ガラス物品20を形成する工程と、を含むようにした製造方法。 (もっと読む)


【課題】流路構造体において流体を流通させる流路が一方側へ延びる部分とその部分の下流側で他方側へ延びる部分とが交互に繋がる形状を有していても、その流路内を十分且つ容易に清掃できるようにする。
【解決手段】流路構造体1では、本体部4の第1端面4aには、合流流体流路2cのうちの一方側へ延びる部分とその下流側に配置されて他方側へ延びる部分とを繋ぐ第1折返し部2gが開口し、本体部4の第2端面4bには、合流流体流路2cのうちの他方側へ延びる部分とその下流側に配置されて一方側へ延びる部分とを繋ぐ第2折返し部2hが開口し、第1蓋部6は、第1折返し部2gの開口を封止するように第1端面4aに接触した状態で本体部4に着脱可能となるように結合され、第2蓋部8は、第2折返し部2hの開口を封止するように第2端面4bに接触した状態で本体部4に着脱可能となるように結合される。 (もっと読む)


【課題】高温セラミック膜反応装置の分野では、これらの潜在的な運転上の問題に対処しこれらを克服する新しい膜モジュール及び反応装置システム設計に対するニーズが存在する。
【解決手段】(a)各々反応物質ゾーン、酸化剤ゾーン、該反応物質ゾーンと該酸化剤ゾーンを分離する単数又は複数のイオン輸送膜、反応物質ガス入口領域、反応物質ガス出口領域、酸化剤ガス入口領域及び酸化剤ガス出口領域を含む2つ以上の膜酸化段;(b)各々の膜酸化段対の間に配置されかつ該対の第1の段の反応物質ガス出口領域を該対の第2の段の反応物質ガス入口領域と流動連絡状態に置くように適合されている段間反応物質ガス流路;及び(c)各々、任意の段間反応物質ガス流路又は段間反応物質ガスを収容する任意の膜酸化段の反応物質ゾーンと流動連絡状態にある、単数又は複数の反応物質段間フィードガスライン、を含んで成るイオン輸送膜酸化システムを提供する。 (もっと読む)


【課題】流体処理装置及び流体処理方法を提供する。
【解決手段】少なくとも1種類の流体については被処理物を少なくとも1種類含む、少なくとも2種類の流体を用い、近接・離反可能な少なくとも一方が他方に対して相対的に回転する処理用部における処理用面の間で流体の処理を行う。回転する処理用面の中央より処理用面に施された凹部13によって作用するマイクロポンプ効果を用いて、第1流体を処理用面1,2間に導入する。この導入された流体とは独立し、処理用面間に通じる開口部d20を備えた別の流路d2から第2流体を導入し、処理用面1,2間で混合・攪拌して処理を行う。第2流体の処理用面への上記の開口部からの導入方向が、上記の処理用面に対して傾斜している。 (もっと読む)


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