【課題】アーク放電が生じることを抑制しつつ多量の酸性成分を生成でき、しかも安全性に優れ、コストを抑えた酸性成分発生装置を提供する。
【解決手段】放電電極１を備える。放電電極１に対向する対向電極２を備える。放電電極１と対向電極２の夫々に位相のずれた高周波電圧を印加することで、放電を生じさせて酸性成分を発生させる電圧印加手段３を備える。 （もっと読む）

【課題】アーク放電が生じることを抑制しつつ多量のラジカル又は窒素酸化物を生成でき、生成したラジカル又は窒素酸化物を効率良く利用できるラジカル発生装置及び窒素酸化物発生装置を提供する。
【解決手段】高周波電圧を放電電極２に印加して放電を生じさせる放電領域４に空気を供給するファン１０を備える。放電領域４に供給される空気の流速値と、ラジカルがファン１０によって放電領域２より下流側に供給される供給量との関係において、空気流速値の増加に伴ってラジカル供給量がピーク値から低下して定常状態に移行したときにおけるラジカル供給量及び空気流速値の夫々の値を閾値とする。ファン１０によって放電領域４に供給される空気流速値を、空気流速値の閾値よりも小さく、ラジカル供給量がラジカル供給量の閾値よりも高くなるときの空気流速値に設定する。 （もっと読む）

【課題】被処理物の品質低下を抑制すること。
【解決手段】相対向する放電電極と対向電極との間に電圧を印加して放電を発生させることにより、前記放電電極と前記対向電極との間に位置する被処理物の表面を改質する表面処理装置であって、前記放電電極と前記被処理物との間に、前記被処理物の表面のうち表面改質しない非処理領域を形成するための、遮蔽物が設けられること、を特徴とする表面処理装置。 （もっと読む）

【課題】プラズマ発生領域の体積を大きくしたプラズマ発生装置の提供。
【解決手段】大気圧プラズマ発生装置１００であって、長手方向に伸び、プラズマを発生する柱状のプラズマ化領域Ｐを内包する絶縁体から成る筐体１０と、プラズマ化領域Ｐにプラズマ発生ガスを前記長手方向に対して垂直な方向から長手方向に一様に供給するガス導入部１２と、プラズマ化領域Ｐにおいて、前記長手方向に離間して配置された１対の電極２ａ，２ｂと、プラズマ化領域Ｐに接続され、そのプラズマ化領域Ｐで生成された前記プラズマを排出し、プラズマ化領域Ｐの長手方向に沿って配列され、前記プラズマ発生ガスの流れる方向に長く伸びた多数の孔から成る排出部２４とを有する。 （もっと読む）

【課題】少なくとも１つの液滴を操作するためのマイクロ流体デバイスおよび方法を提供すること。
【解決手段】本デバイスは、平行であり、離間距離（Ｈ）だけ相互に離間された、第１のマイクロ流体表面および第２のマイクロ流体表面と、前記第１の表面の上に配置された少なくとも１つの第１の電気変位経路と、前記第２の表面の上に配置された少なくとも１つの第２の電気変位経路とを備える。第１の経路および第２の経路の少なくとも一方は、前記経路に沿って各流体フィンガを形成するように構成され、前記流体フィンガは、毛管作用により少なくとも１つの各液滴を生成することによって破裂する。第１の経路および第２の経路は、前記第１の表面と前記第２の表面との間の離間距離が、一方においては各流体フィンガにより形成される流体厚さよりも大きく、他方においては各液滴により形成される流体厚さよりも小さくなるように構成される。 （もっと読む）

【課題】 金属細片を半導体表面にパターン化しなくとも、光照射により発生したキャリアを効率的に利用する手段の提供。
【解決手段】 第一の半導体と第二の半導体とが接合し、第一の半導体側の接合界面に二次元ホールガス層が形成されたヘテロ接合半導体を含むデバイスであって、第二の半導体の厚さが３０ｎｍ以下であるエネルギー変換デバイス。 （もっと読む）

【課題】少なくとも１つのパケットに対して汚染なしに化学的または物理的処理を行うためのマイクロ流体デバイスおよび方法を提供する。
【解決手段】マイクロ流体デバイス１において、該デバイスが、軸Ｘを有するマイクロチャネル２、および下記の少なくとも１つを含むパケット操作手段を含むところのデバイス、発電ユニット９、および上記発電ユニット９に連結されかつ、上記マイクロチャネルの少なくとも一部分の内部に、上記マイクロチャネルの軸Ｘと実質的に共線的である電場を作るように構成された電極アッセンブリ３、ここで、上記発電ユニット９は、マイクロチャネルにおいて少なくとも１つのパケットを変形させるまたは少なくとも２つのパケットを互いの方に移動させるような振幅および周波数を有する電場を発生させることができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ナノパウダーを合成する装置を提供する。
【解決手段】ガス雰囲気と、ペアの削磨電極とを有する反応チャンバであって、該ペアの電極のうちの少なくとも１つはナノパウダーを生成するための前駆物質である、反応チャンバと、該ペアの削磨電極に電気接続された高電力パルス電源と、該ペアの削磨電極に接続されたオートヒューザデバイスであって、該オートヒューザデバイスは、オートヒューズ電源と、トリガ回路と、該削磨電極のうちの１つに電気接続された第１の一次電極、該オートヒューズ電源に電気接続された第２の一次電極および該トリガ回路に電気接続された二次電極を有するトリガードスパークギャップデバイスとを含む、オートヒューザデバイスとを備える、装置。 （もっと読む）

【課題】 プラズマ放電部を複数並べて任意の大きさの試料に対応できるように放電面積を拡大する場合であっても、単位あたりの電力コストを増加することなく、均一なプラズマ生成が可能なプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】 高周波信号回路１３及び高周波電力回路１１を有する高周波電源と筐体２１と放電電極２とを備えたプラズマ処理装置において、筐体２１内に設置された放電電極２と高周波電力回路１１とでプラズマモジュールを構成し、複数個並列接続されたプラズマモジュールに高周波信号回路１３からの周波数信号を入力する。 （もっと読む）

【課題】
マイクロメータスケールの微小物質を基板の任意な位置に確実に堆積させる方法を提供する。
【解決手段】
内部に電極が挿入され、且つ、微小物質を溶剤に溶かした溶融液、或いは、溶剤に分散させて得られた微小物質を含む分散液が充填されているマイクロピペットを傾けて配置させ、その先端部が基板表面に近接するように位置決めし、適切な電圧を印加することで分散液のメニスカスを成長させ、基板表面に接触移動させることによって、マイクロメータスケールの微小物質を確実に堆積させる方法。 （もっと読む）

【課題】放電空間におけるプラズマの分布及び流れを好適化できるプラズマ発生体を提供する。
【解決手段】誘電体３の貫通孔９は、放電空間９ａと、放電空間９ａとは反対側を拡径させる傾斜面３ｅを内周面の一部とする導入空間９ｂとを含む。第１対向電極５Ａは、ｚ方向の正側から放電空間９ａに面し、放電空間９ａ側が誘電体３により覆われている。第２対向電極５Ｂは、第１対向電極５Ａと放電空間９ａを挟んで対向している。第１イオン風用電極７Ａは、第１対向電極５Ａ側の傾斜面３ｅに位置している。プラズマ発生体１は、第１対向電極５Ａ及び第２対向電極５Ｂの間に電圧が印加されることにより放電空間９ａにプラズマを発生可能であり、第１対向電極５Ａ及び第１イオン風用電極７Ａの間に電圧が印加されることにより導入空間９ｂから放電空間９ａへ流れるイオン風を発生可能である。 （もっと読む）

【課題】本発明は、プラズマを用いてシランガスを効果的に分解するための手段を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、プラズマを用いたシランガス除去装置に関する。本発明の一実施形態によるシランガス除去装置は、既設定された周波数の電磁波を発振する電磁波供給部と、前記電磁波供給部から供給された前記電磁波及び渦流ガスからプラズマを発生させる放電管と、前記放電管に前記渦流ガスを供給する渦流ガス供給部と、前記放電管で発生された前記プラズマとシランガスとの反応により二酸化珪素及び水が生成される反応炉と、前記放電管内に前記プラズマの発生のための初期電子を供給する点火部と、前記反応炉の上端に形成され、前記反応炉内部の前記プラズマに前記シランガスを供給するシランガス供給部と、前記反応炉で生成された前記二酸化珪素及び水を排出するガス排出部とを備える。 （もっと読む）

【課題】分解過程のガス濃度の変化に対応して、最適な配合割合の触媒を採用させることにより、ガスの分解効率を高めたガス分解装置を提供する。
【解決手段】固体電解質層１０１と、この固体電解質層の一側に設けられる第１の電極層１０２と、他側に設けられる第２の電極層１０５とを備える複数のガス分解素子１００ａ，１００ｂ，１００ｃを含んで構成されるガス分解装置であって、上記第１の電極層又は／及び第２の電極層に含まれる触媒の組成が、上記ガス分解素子によって異なるように構成されているとともに、上記複数のガス分解素子に、ガスを順次作用させて分解するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】本発明は、工程チャンバと真空ポンプの間に位置し、低圧プラズマを生成して工程チャンバから排出される汚染物質を除去するプラズマ反応器を提供する。
【解決手段】プラズマ反応器３１０は、内部にプラズマ生成空間を形成する少なくとも１つの誘電体３０と、誘電体３０の少なくとも一端に連結する接地電極４１，４２と、誘電体３０の外周面に固定され、交流電源部６０と連結して交流駆動電圧が印加される少なくとも１つの駆動電極５０と、を含み、接地電極４１，４２は、プラズマ反応器３１０の長さ方向に沿って非均一直径を有する。 （もっと読む）

【課題】分解過程のガス濃度の変化に対応して、最適な配合割合の触媒を採用させることにより、ガスの分解効率を高めたガス分解素子を提供する。
【解決手段】固体電解質層１０１と、この固体電解質層の一側に設けられる第１の電極層（アノード電極）１０２と、他側に設けられる第２の電極層（カソード電極）１０５とを備えて構成されるガス分解素子１００であって、上記第１の電極層又は／及び第２の電極層に設けられる触媒１５１、１５２の配合割合が、ガスの流動方向に向けて変化するように形成されている。 （もっと読む）

【課題】駆動メカニズム（ＥＷＯＤまたはＤＥＰ）を、任意の時点にてアレイ素子に含まれる各列に応じて個別に選択可能なように構成されたアクティブマトリクス駆動回路を提供する。
【解決手段】マイクロ流体装置は、アレイ上の１個または複数の液滴４を操作するように構成されている複数のアレイ素子４３と、アクティブマトリクス駆動回路８４とを備えており、各アレイ素子は、上部基板３６上に形成されている上部基板電極２８と、下部基板７２上に形成されている駆動電極３８Ａ、３８Ｂとを含んでおり、上記上部基板電極および上記駆動電極の間に上記１個または複数の液滴を配置可能であり、上記アクティブマトリクス駆動回路は、上記複数のアイレ素子の、上記上部基板電極および上記駆動電極に駆動信号を与え、上記複数のアレイ素子の間で、上記１個または複数の液滴を操作するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】アーク放電が生じることを抑制しつつ、多量の酸性成分を生成できる酸性成分発生装置を提供する。
【解決手段】放電電極１を備える。また、放電電極１に高周波の電圧を印加して放電を生じさせることにより酸性成分を発生させる電圧印加手段３を備える。 （もっと読む）

【課題】誘電体の表面に汚れなどが付着した場合においても汚れを容易に除去することができる気流発生装置を提供する。
【解決手段】実施形態の気流発生装置１０は、固体からなる誘電体２０と、誘電体２０の表面に設けられた第１の電極３０と、第１の電極３０と誘電体２０を介して離間して設けられた第２の電極４０とを備え、第１の電極３０と第２の電極４０との間に電圧を印加して気流を発生させる。第１の電極３０側の誘電体２０の表面２０ａにおける水に対する接触角が８０度以上である。 （もっと読む）

【課題】表面弾性波を完全反射させることで、所定位置にある液体又は粉粒体の移動を容易に実現できるとともに、表面弾性波を一部反射させることで、異なる位置にある各液体又は各粉粒体の移動を容易に実現可能な表面弾性波発生装置を得る。
【解決手段】表面弾性波発生装置１は、一方の面２ａに凹部２ｂが形成された圧電基板２と、圧電基板２の一方の面２ａに形成されるとともに、凹部２ｂを介して粉粒体Ｐに伝搬可能な表面弾性波を発生可能な電極層３と、を備え、凹部２ｂの深さは、表面弾性波が凹部２ｂにおいて完全反射可能に構成されていることを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】大気圧下で長時間プラズマを生成することができるプラズマ生成装置を提供する。
【解決手段】プラズマ生成装置は、第１導電体と、第２導電体と、第１導電体と第２導電体との間に備えられた少なくとも１層の絶縁層とを備えたプラズマ生成部を有し、第１導電体と第２導電体との間に電圧を印加することによってプラズマを生成するプラズマ生成装置であって、プラズマ生成部は、第１導電体と第２導電体とは絶縁層を介して互いに接触する接触部を有するとともに、接触部の周囲における、第１導電体と絶縁層との間、第２導電体と絶縁層との間、絶縁層同士の間のいずれか１つ以上に、プラズマを生成するための流体に晒された隙間を有し、絶縁層はセラミック層からなる。このプラズマ生成装置は、絶縁層をセラミック層とするため、長時間プラズマを生成させることができる。 （もっと読む）