【課題】付加的な外部の支持部無しに、容易に、装置内で圧力を加えられた流体が発生するすべての力に耐えることができる装置を提供する。
【解決手段】流体処理装置は、第１のエンドピース１１及び第２のエンドピース１２と、第１のエンドピース１１と前記第２のエンドピース１２との間に配置される少なくとも１つの流体処理ユニット１３と、前記第１のエンドピース１１と前記第２のエンドピース１２との間に延びて、流体処理ユニット１３と、前記第１のエンドピース１１及び前記第２のエンドピース１２とを共に押し付けるように配置されたリテーナー２６と、を備える。 （もっと読む）

【課題】結晶異方性エッチングにより安定的に流路を形成する流路デバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明によると、第１の幅を有する第１領域と、第１の幅より広い第２の幅を有する第２領域と、一端が第１領域に接続し、他端が第２領域に接続する接続領域と、を含む流路を備えた流路デバイスの製造方法であって、一主面が｛１１０｝面であるシリコン基板を準備し、シリコン基板の一主面上に｛１１０｝面と｛１１１｝面の交線に沿った第１の端部と、交線に直交し＜１１１＞方向に延びる第２の端部と、を含むマスクパターンを形成し、マスクパターンを介して結晶異方性エッチングを行うことにより、シリコン基板の一主面に前記流路を形成すること、を含み、第２領域の両側にそれぞれ配置された第２の端部は、互いに第１領域との距離が異なるように形成されることを特徴とする流路デバイスの製造方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】簡便で精度の高い分析を可能とするマイクロチップの提供。
【解決手段】流路において、流路壁の一部が変形することによって、流路内空へ突出して、流路が狭窄又は閉塞される逆流防止構造が形成されるマイクロチップを提供する。逆流防止構造が流路内に形成されることによって、ウェルに充填された溶液の逆流が妨げられ、ウェル間での溶液の通流による汚染が防止され、マイクロチップ内の複数のウェルにおいて、異なる分析を同時に行う場合であっても、精度の高い分析が可能となる。 （もっと読む）

【課題】少なくとも１つのパケットに対して汚染なしに化学的または物理的処理を行うためのマイクロ流体デバイスおよび方法を提供する。
【解決手段】マイクロ流体デバイス１において、該デバイスが、軸Ｘを有するマイクロチャネル２、および下記の少なくとも１つを含むパケット操作手段を含むところのデバイス、発電ユニット９、および上記発電ユニット９に連結されかつ、上記マイクロチャネルの少なくとも一部分の内部に、上記マイクロチャネルの軸Ｘと実質的に共線的である電場を作るように構成された電極アッセンブリ３、ここで、上記発電ユニット９は、マイクロチャネルにおいて少なくとも１つのパケットを変形させるまたは少なくとも２つのパケットを互いの方に移動させるような振幅および周波数を有する電場を発生させることができる。 （もっと読む）

【課題】放電空間におけるプラズマの分布及び流れを好適化できるプラズマ発生体を提供する。
【解決手段】誘電体３の貫通孔９は、放電空間９ａと、放電空間９ａとは反対側を拡径させる傾斜面３ｅを内周面の一部とする導入空間９ｂとを含む。第１対向電極５Ａは、ｚ方向の正側から放電空間９ａに面し、放電空間９ａ側が誘電体３により覆われている。第２対向電極５Ｂは、第１対向電極５Ａと放電空間９ａを挟んで対向している。第１イオン風用電極７Ａは、第１対向電極５Ａ側の傾斜面３ｅに位置している。プラズマ発生体１は、第１対向電極５Ａ及び第２対向電極５Ｂの間に電圧が印加されることにより放電空間９ａにプラズマを発生可能であり、第１対向電極５Ａ及び第１イオン風用電極７Ａの間に電圧が印加されることにより導入空間９ｂから放電空間９ａへ流れるイオン風を発生可能である。 （もっと読む）

【課題】２軸連続式の処理装置において、その回転軸に装着された装着部材のケーシング内面との接触に起因する不具合を防止する。
【解決手段】ケーシング本体部１ｃの排出口８の近傍で回転軸２の外周に装着され、外周面の平坦な頂部５ａでケーシング本体部１ｃの内周に嵌め込んだブッシュ１３の内面に摺接するとともに、各回転軸２の同一軸方向位置に装着されたものどうしでセルフクリーニングを行う排出スクリュ５を、ガラス繊維を２５ｗｔ％分散させたポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）で形成することにより、装着部材としての強度を確保しながら、排出スクリュ５とブッシュ１３の摺接部および排出スクリュ５どうしの間で金属粉の発生や被処理物の固着が生じないようにしたのである。 （もっと読む）

【課題】ナノストラクチャまたはマイクロストラクチャ表面に置かれた小滴の移動が、ナノストラクチャ・フィーチャ・パターンの少なくとも１つの特性または小滴の少なくとも１つの特性によって決定される方法および装置を提供する。
【解決手段】小滴の横方向の移動が、ナノストラクチャ・フィーチャ・パターンの少なくとも１つの特性によって、小滴がナノストラクチャ・フィーチャ・パターンに沿って所望の方向に移動するように決定される。他の実施形態では、小滴の移動が、ナノストラクチャ・フィーチャ・パターンの少なくとも１つの特性または小滴の少なくとも１つの特性によって、小滴が所望の領域のフィーチャ・パターンに侵入し、そこで実質的に不動化するように決定される。 （もっと読む）

【課題】誘電体の表面に汚れなどが付着した場合においても汚れを容易に除去することができる気流発生装置を提供する。
【解決手段】実施形態の気流発生装置１０は、固体からなる誘電体２０と、誘電体２０の表面に設けられた第１の電極３０と、第１の電極３０と誘電体２０を介して離間して設けられた第２の電極４０とを備え、第１の電極３０と第２の電極４０との間に電圧を印加して気流を発生させる。第１の電極３０側の誘電体２０の表面２０ａにおける水に対する接触角が８０度以上である。 （もっと読む）

【課題】大気圧下で長時間プラズマを生成することができるプラズマ生成装置を提供する。
【解決手段】プラズマ生成装置は、第１導電体と、第２導電体と、第１導電体と第２導電体との間に備えられた少なくとも１層の絶縁層とを備えたプラズマ生成部を有し、第１導電体と第２導電体との間に電圧を印加することによってプラズマを生成するプラズマ生成装置であって、プラズマ生成部は、第１導電体と第２導電体とは絶縁層を介して互いに接触する接触部を有するとともに、接触部の周囲における、第１導電体と絶縁層との間、第２導電体と絶縁層との間、絶縁層同士の間のいずれか１つ以上に、プラズマを生成するための流体に晒された隙間を有し、絶縁層はセラミック層からなる。このプラズマ生成装置は、絶縁層をセラミック層とするため、長時間プラズマを生成させることができる。 （もっと読む）

【課題】 ガス吸収装置用規則充填物のぬれ性及び剛性を向上させることを目的とする。
【解決手段】
板状体のプレートを複数枚並列させて組み立ててなり、前記プレート本体には突出する複数の筒体からなる液受け部と、表裏両面に貫通する複数の透孔又は表裏両面に突出する複数の突出部からなる液分散部と、プレート本体の下面を凹凸上に形成してなる液渡し部から構成されることを特徴とする。前記プレート本体の表裏両面のうち少なくともいずれか一方の面に複数の小溝を水平方向に設けて形成した凹凸面による気液接触部を設けることが好ましい。前記板状体のプレートの左右両端部に、一方側の面に突出する突片と他方側の面に突出する溝とからなる連結部を形成し、複数枚並列させて各連結部の突片を隣接する溝に嵌めて組み立てるようにすることができる。 （もっと読む）

【課題】多段階反応のためのマイクロリアクタにおいて、混合部同士の距離が短く、さらに、必要に応じて簡便な方法で混合部の距離を変更可能であり、流路の密閉性に優れたマイクロリアクタを提供すること。
【解決手段】本発明のマイクロリアクタは、第一のマイクロミキサと第二のマイクロミキサとを備え、第一のマイクロミキサは突出部を備え、第二のマイクロミキサは陥入部を備え、第一及び第二のマイクロミキサは、流体を導入するための複数の導入経路と、前記の導入経路を合流して前記流体を混合するための混合部と、前記混合部で混合した流体を導出するための導出経路とを備え、前記突出部と前記陥入部とが係合され、その係合部分において導入経路と導出経路とが接続されることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光電変換素子のバッファ層として、低コストに、かつ、より高い品質のバッファ層を得る。
【解決手段】化学浴析出装置１において、成膜用基板１０の成膜面１０ａに対して膜を化学浴析出させるための反応液２を蓄える反応槽３と、成膜用基板１０の裏面が密着固定されるステンレスからなる固定面２１ａを有し、少なくとも成膜面１０ａを反応液２に接触させるように成膜用基板１０を保持する基板保持部２０と、成膜用基板１０をその裏面側から加熱する、固定面２１ａの裏側に装着されたヒーター３０と、反応槽３中の反応液２の温度を制御する反応液温度制御部４０とを備える。 （もっと読む）

【課題】シンプルな構造で、混合性能が良いマイクロ混合デバイスを提供する。
【解決手段】従来のＴ字型マイクロミキサーでは、デッドボリュームとなり、使われていなかった配管のフェラル部より先の部分の空間を活用したマイクロミキサーであって、シンプルな構造で有りながら、効率が良い高価なマイクロミキサーと同等かそれ以上の混合効率を有し、しかも常温常圧またはそれ以下から高温高圧条件下で使用することができるマイクロ混合デバイス。
【効果】安価で、シンプルな構造で、２液以上の流体を混合するデバイスであり、大流量にも適応可能であり、例えば、クロマトグラフィーのグラジェントに用いることや、マイクロリアクターとして、様々な化学反応に用いることができる高効率なマイクロミキサーを提供することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】シングルモードの空胴共振器を使用したマイクロ波装置に関し、被処理液の流量を多くして均一に効率良く処理可能にする。
【解決手段】被処理液とは異なる誘電率を有すると共に被処理液の流れを乱す障害手段６３を収容してあり、照射室内に生じる電界方向に対し軸線を沿わせて、空胴共振器の照射室に設置される流通管６０を提案する。この流通管をマイクロ波装置の照射室に設置すると、被処理液を流す流通管内において電界分布が一様ではなくなり、被処理液に吸収されるマイクロ波が抑制され、Ｑの低下が抑えられて同調が外れにくくなるので、被処理液の流量を増やすことができる。 （もっと読む）

【課題】気体を効果的に改質し、気体の反応効率を高めるようにする。
【解決手段】気体改質方法は、気体の流路中に、セラミック粒子をバインダーで塗布して得た改質面を配置し、改質面近傍に気体を通過させて、当該気体の改質を行う。セラミック粒子は、ルチル系酸化チタン粒子と、ルチル系酸化チタン粒子との酸化還元処理により電解質を生成する程度の高いイオン化傾向を有する金属粒子と、の混合物を酸化還元処理し、当該酸化還元処理により生成した電解質を溶媒で電気分解し、陰極に析出された物質を焼成して得たものである。 （もっと読む）

【課題】簡易な設備構成で水の分離効率を向上可能で、反応時間を任意に設定可能な水分離システムを提供する。
【解決手段】原料を化学反応させた後に得られる生成物溶液から水を分離する水分離システムであって、前記原料が供給されて混合される混合手段３と、混合手段３の下流に接続され、混合された前記原料の化学反応が進行される化学反応進行手段４と、化学反応進行手段４の下流に接続され、化学反応進行手段４において生成した水を分離する水分離手段６と、化学反応進行手段４における化学反応時間を制御する制御手段１２と、を備え、制御手段１２は、化学反応進行手段４から排出される溶液中の生成物の量が多いときには、化学反応進行手段４における化学反応時間を短くし、化学反応進行手段４から排出される溶液中の生成物の量が少ないときには、化学反応進行手段４における化学反応時間を長くする制御を行う。 （もっと読む）

【課題】クッション作用に優れたエネルギー回収装置を提供する。
【解決手段】シリンダー２０内で端部に設けた内径縮小部２４側に筒状部材２８を軸方向に所定範囲で移動自在とし、コイルバネ３２で筒状部材２８を内径縮小部２４から離れてピストン３０側に向けて弾性付勢する。筒状部材２８に内径縮小部２４側に向けて同軸芯上に先端の径が小さいるテーパ部３４を突設し、このテーパ部３４の先端部を内径縮小部２４内に挿入し得るようにする。筒状部材２８がピストン３０に押されて内径縮小部２４に近づくと、テーパ部３４と内径縮小部２４の間ｄが小さくなり、流路面積を縮小させる絞り流路が形成される。筒状部材２８と内径縮小部２４の対向する両端面の間に形成された封水室３６内の流体が、絞り流路を経て連通孔２６側に流出する。流路抵抗の増大によりピストン３０にブレーキが掛かりクッションとして作用する。 （もっと読む）

【課題】各部材に形成された領域を高精度かつ簡便に位置決めして繋ぎ合わせることが可能な複合材料構造物の提供。
【解決手段】熱可塑性樹脂からなり、熱圧着により接合された二以上の基材１１，１２と、前記熱可塑性樹脂よりも熱変形温度が高い材料からなり、基材１１，１２の少なくとも一つに形成された空間内に挿入された一以上の部材２と、から構成され、前記空間内に挿入された部材２が、熱圧着により熱変形した基材１１，１２の前記空間を構成する壁面１３によって固定保持されている複合材料構造物Ａを提供する。 （もっと読む）

【課題】適切なパワーのマイクロ波を照射する方法、およびマイクロ波支援反応装置を提供する。
【解決手段】マイクロ波支援反応装置１０を、マイクロ波放射源１１、内部に複数の異なるタイプの反応容器１４を有するキャビティ１２、マイクロ波放射源およびキャビティをマイクロ波連通する導波路１３、センサ１５、インターフェース２０、コンピュータコントローラ２１から構成し、キャビティ内に位置決めされた反応容器の数および／またはタイプに応答して、マイクロ波放射源の出力を決定する。 （もっと読む）

【課題】射出成形で得られる樹脂基板をマイクロ流路デバイスとして用いる場合であって、電極部を有するマイクロ流路デバイスの製造方法、及びそれを用いて製造したマイクロ流路チップを提供する。
【解決手段】第１基板２が流路を有し、第２基板３が電極部４を有する基板同士の接着が熱圧着であって、その熱圧着が、低温および高温の二温度の二段階で行い、二温度間の温度差が２０度以上、５０度未満であることを特徴として得られる。 （もっと読む）