【課題】放射導体の先端から筒長方向に沿って延びる状態でプラズマを発生させる。
【解決手段】一方の端部が閉塞板１１ｂによって閉塞されると共に他方の端部に噴出口２５が形成された筒体１１ａを有する筐体１１と、閉塞板１１ｂの内面に筐体１１の筒長方向に沿って延出するように立設されると共に入力した高周波信号Ｓ１を放射する棒状の放射器１４とを備え、ガス供給部４によって筐体１１内に放電用ガスＧが供給され、かつ放射器１４が高周波信号Ｓ１を放射している状態において、放射器１４の先端近傍から噴出口２５を介して筐体１１の外方に延びるプラズマＰを発生させるプラズマ処理装置１であって、筐体１１の内面には、ガス供給部４から供給される放電用ガスＧを筐体１１内に互いに異なる方向で放出するガス放出口２２が複数形成されている。 （もっと読む）

【課題】少なくとも１つのパケットに対して汚染なしに化学的または物理的処理を行うためのマイクロ流体デバイスおよび方法を提供する。
【解決手段】マイクロ流体デバイス１において、該デバイスが、軸Ｘを有するマイクロチャネル２、および下記の少なくとも１つを含むパケット操作手段を含むところのデバイス、発電ユニット９、および上記発電ユニット９に連結されかつ、上記マイクロチャネルの少なくとも一部分の内部に、上記マイクロチャネルの軸Ｘと実質的に共線的である電場を作るように構成された電極アッセンブリ３、ここで、上記発電ユニット９は、マイクロチャネルにおいて少なくとも１つのパケットを変形させるまたは少なくとも２つのパケットを互いの方に移動させるような振幅および周波数を有する電場を発生させることができる。 （もっと読む）

【課題】放電空間におけるプラズマの分布及び流れを好適化できるプラズマ発生体を提供する。
【解決手段】誘電体３の貫通孔９は、放電空間９ａと、放電空間９ａとは反対側を拡径させる傾斜面３ｅを内周面の一部とする導入空間９ｂとを含む。第１対向電極５Ａは、ｚ方向の正側から放電空間９ａに面し、放電空間９ａ側が誘電体３により覆われている。第２対向電極５Ｂは、第１対向電極５Ａと放電空間９ａを挟んで対向している。第１イオン風用電極７Ａは、第１対向電極５Ａ側の傾斜面３ｅに位置している。プラズマ発生体１は、第１対向電極５Ａ及び第２対向電極５Ｂの間に電圧が印加されることにより放電空間９ａにプラズマを発生可能であり、第１対向電極５Ａ及び第１イオン風用電極７Ａの間に電圧が印加されることにより導入空間９ｂから放電空間９ａへ流れるイオン風を発生可能である。 （もっと読む）

【課題】 プラズマ放電部を複数並べて任意の大きさの試料に対応できるように放電面積を拡大する場合であっても、単位あたりの電力コストを増加することなく、均一なプラズマ生成が可能なプラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】 高周波信号回路１３及び高周波電力回路１１を有する高周波電源と筐体２１と放電電極２とを備えたプラズマ処理装置において、筐体２１内に設置された放電電極２と高周波電力回路１１とでプラズマモジュールを構成し、複数個並列接続されたプラズマモジュールに高周波信号回路１３からの周波数信号を入力する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、工程チャンバと真空ポンプの間に位置し、低圧プラズマを生成して工程チャンバから排出される汚染物質を除去するプラズマ反応器を提供する。
【解決手段】プラズマ反応器３１０は、内部にプラズマ生成空間を形成する少なくとも１つの誘電体３０と、誘電体３０の少なくとも一端に連結する接地電極４１，４２と、誘電体３０の外周面に固定され、交流電源部６０と連結して交流駆動電圧が印加される少なくとも１つの駆動電極５０と、を含み、接地電極４１，４２は、プラズマ反応器３１０の長さ方向に沿って非均一直径を有する。 （もっと読む）

【課題】駆動メカニズム（ＥＷＯＤまたはＤＥＰ）を、任意の時点にてアレイ素子に含まれる各列に応じて個別に選択可能なように構成されたアクティブマトリクス駆動回路を提供する。
【解決手段】マイクロ流体装置は、アレイ上の１個または複数の液滴４を操作するように構成されている複数のアレイ素子４３と、アクティブマトリクス駆動回路８４とを備えており、各アレイ素子は、上部基板３６上に形成されている上部基板電極２８と、下部基板７２上に形成されている駆動電極３８Ａ、３８Ｂとを含んでおり、上記上部基板電極および上記駆動電極の間に上記１個または複数の液滴を配置可能であり、上記アクティブマトリクス駆動回路は、上記複数のアイレ素子の、上記上部基板電極および上記駆動電極に駆動信号を与え、上記複数のアレイ素子の間で、上記１個または複数の液滴を操作するように構成されている。 （もっと読む）

【課題】ナノストラクチャまたはマイクロストラクチャ表面に置かれた小滴の移動が、ナノストラクチャ・フィーチャ・パターンの少なくとも１つの特性または小滴の少なくとも１つの特性によって決定される方法および装置を提供する。
【解決手段】小滴の横方向の移動が、ナノストラクチャ・フィーチャ・パターンの少なくとも１つの特性によって、小滴がナノストラクチャ・フィーチャ・パターンに沿って所望の方向に移動するように決定される。他の実施形態では、小滴の移動が、ナノストラクチャ・フィーチャ・パターンの少なくとも１つの特性または小滴の少なくとも１つの特性によって、小滴が所望の領域のフィーチャ・パターンに侵入し、そこで実質的に不動化するように決定される。 （もっと読む）

【課題】誘電体の表面に汚れなどが付着した場合においても汚れを容易に除去することができる気流発生装置を提供する。
【解決手段】実施形態の気流発生装置１０は、固体からなる誘電体２０と、誘電体２０の表面に設けられた第１の電極３０と、第１の電極３０と誘電体２０を介して離間して設けられた第２の電極４０とを備え、第１の電極３０と第２の電極４０との間に電圧を印加して気流を発生させる。第１の電極３０側の誘電体２０の表面２０ａにおける水に対する接触角が８０度以上である。 （もっと読む）

【課題】大気圧下で長時間プラズマを生成することができるプラズマ生成装置を提供する。
【解決手段】プラズマ生成装置は、第１導電体と、第２導電体と、第１導電体と第２導電体との間に備えられた少なくとも１層の絶縁層とを備えたプラズマ生成部を有し、第１導電体と第２導電体との間に電圧を印加することによってプラズマを生成するプラズマ生成装置であって、プラズマ生成部は、第１導電体と第２導電体とは絶縁層を介して互いに接触する接触部を有するとともに、接触部の周囲における、第１導電体と絶縁層との間、第２導電体と絶縁層との間、絶縁層同士の間のいずれか１つ以上に、プラズマを生成するための流体に晒された隙間を有し、絶縁層はセラミック層からなる。このプラズマ生成装置は、絶縁層をセラミック層とするため、長時間プラズマを生成させることができる。 （もっと読む）

【課題】放射導体の先端近傍を内包する空間内での放電用ガスの流れをより均一にする。
【解決手段】筒体１１ａの一方の端部が閉塞板１１ｂで閉塞されて筒体１１ａの他方の端部側が開放端に形成された筐体１１と、閉塞板１１ｂに立設された放射器１４とを備え、筐体１１の内部には、閉塞板１１ｂ側の内部空間ＳＢ１と、放射器１４の先端近傍を内包して筒長方向に沿って延び、かつ内部空間ＳＢ１に供給された放電用ガスＧを筒長方向に沿って放射器１４の先端近傍を経由して筐体１１の他方の端部から外方へ放出する内部空間ＳＢ２と、筒体１１ａに設けられたガス放出口２２ｃから放出された放電用ガスＧを筒長方向に沿って内部空間ＳＢ１に誘導する誘導流路ＳＡとが形成されて、放電用ガスＧの供給状態において、内部空間ＳＢ２から放出される放電用ガスＧの気流に乗って放射器１４の先端近傍から筐体１１の開放端を越えて伸びるプラズマＰを発生させる。 （もっと読む）

【課題】対向させた電極間で発生する放電を利用した水処理装置において、簡易な構成で、消費電力を抑えつつ、水処理能力の向上が可能な水処理装置を提供することを目的とする。
【解決手段】被処理水の流入口２と流出口３を有する水処理槽４内に、複数の貫通孔を有する１対の対向させた電極で構成する電極部を、水面近傍に、かつ水面に対して平行に設置し、前記電極部に気泡を供給するための気泡供給手段５を有し、前記１対の電極６間に気泡供給手段５から供給された気泡を含む気液混合体を強制的に導入させる構成とすることにより、低い電圧でプラズマ放電を発生させることができ、安定した活性種を含んだ気体を供給できる。 （もっと読む）

【課題】ワーク幅に合わせて放電管長を調節する必要が無く、省電力化が可能であり、紫外線ランプの本数でワークの幅寸法に対応可能であり、一部の紫外線ランプの交換作業を簡単化できるとともに、外部配線を簡略化する。
【解決手段】直管状の紫外線ランプ５を複数有する紫外線照射装置１００であって、各紫外線ランプ５の長手方向が互いに平行であり、各紫外線ランプ５の長手方向がワーク搬送方向と平行に配置され又はワーク搬送方向に対して所定角度で傾斜して配置されており、複数の紫外線ランプ５がユニット化された紫外線照射ユニット１０を有する。 （もっと読む）

【課題】従来の放電によりＶＯＣを分解する揮発性有機化合物処理装置は、全てのＶＯＣ吸着体を一度に処理するので、放電電流ひいては電源容量を大きくする必要が有り、装置コストが高くなる、放電発生時も放電が発生してない時と同じ量のガスを流しているため、ガス中の窒素と酸素が放電により反応して、大量の有害な窒素酸化物（ＮＯｘと略す）を発生する、という課題がある。
【課題を解決するための手段】この発明に係る揮発性有機化合物処理装置は、処理対象ガスに触れ揮発性有機化合物を吸着する吸着体１Ｃと、吸着体１Ｃを間に挟んで配置された放電を発生させる電極の対１Ａと、処理対象ガスの流れとは逆方向に放電発生後の所定期間に吸着体１Ｃにガスを流すガス返送機構とを備えたものである。 （もっと読む）

【課題】流動するガスを効率よく加熱することができるとともに、熱分解させることができ、さらに、単独であるいは他のガス分解装置と組み合わせて用いることができる多孔質発熱体、多孔質発熱素子及びガス分解素子を提供する。
【解決手段】連続気孔１ｂを有する金属多孔質体からなる多孔質発熱体１であって、
少なくとも表面に、Ｎｉ−Ｗ合金層１０ａを備えて構成される。 （もっと読む）

【課題】反応器の給電において、封止部を破壊する漏れ電流ないしはアークを検出して早期に遮断できるようにすると同時に、導電性の汚染物があっても、次の分解および洗浄を行うまでの反応器の動作時間を可能な限り長く維持できるようにすること。
【解決手段】電気エネルギー網の絶縁不良を監視し、所定の絶縁抵抗値を下回ることにより、電気エネルギー供給の遮断がトリガされる、ただし、前記電気エネルギー供給の遮断を行うスイッチング閾値は、前記封止部の幾何学的形状と、該封止部の材料と、給電電圧と、該封止部に流れる最大可能なクリープ電流によってトリガされ前記遮断直前に該封止部に入力可能な最大電気エネルギーとから成る群のうち、少なくとも１つのパラメータを考慮して求める。 （もっと読む）

【課題】排気通路においてプラズマを生成するプラズマ生成装置において、プラズマ領域から活性種を拡散させて、活性種の効果が得られる範囲を拡大する。
【解決手段】プラズマ生成装置２０は、排気通路３０に露出し、近接した状態で間隔を隔てて配置された第１電極２３及び第２電極２４を有する電極部２１と、電極部２１に高周波を出力する高周波発生器２２と、第１電極２３と第２電極２４との間に電位差を付与するプラズマ側電源２９とを備えている。プラズマ生成装置２０は、高周波発生器２２が電極部２１へ高周波を出力して電極部２１の近傍にプラズマを生成し、電極部２１の近傍にプラズマが形成されている期間に、プラズマ側電源２９が第１電極２３と第２電極２４との間に電位差を付与する。 （もっと読む）

【課題】ＮＯ_２ガスを生成するプラズマ発生ノズルにおいて、電極交換を容易にする。
【解決手段】同心状に配置される内側電極３５および外側電極３６を有し、導波管６２を介して伝搬されるマイクロ波を内側電極３５で受信することで電極３５，３６間にグロー放電を発生させ、電極３５，３６間に供給される空気をプラズマ処理してＮＯ_２ガスを生成するプラズマ発生ノズル３１において、損耗する内側電極３５を交換可能にするために、該内側電極３５を、絶縁性を有する材料から成り、円筒状に形成される保持部材３７によって保持する。そして、保持部材３７の外周面と外側電極３６の内周面との間を、処理されたガスが漏れないようにＯリングなどの無端環状のシール部材３７３でシールするにあたって、そのシール部材３７３を保持部材３７側の周方向に形成した凹溝３７１１に嵌め込むようにする。したがって、保持部材３７ごとシール部材３７３を取り外せる。 （もっと読む）

【課題】放電プラズマによる気流誘起現象により高温下や含塵環境下においても安定して気流を発生させることができ、空気力学的特性の制御などを行うことが可能な気流発生装置、気流発生方法および気流発生ユニットを提供する。
【解決手段】気流発生装置４０は、固体からなる誘電体２０の表面と同一面に露出された一つの電極２１と、電極２１から誘電体２０の表面と水平な方向にずらして電極２１と離間され、かつ誘電体内に埋設された一つの電極２２と、電極２１と電極２２との間に、（１）交番電圧の印加、または（２）断続的な電圧の印加および／または電圧値を調整しながらの電圧の印加が可能な放電用電源２４とを備える。電極２１と電極２２との間における誘電体バリア放電により、誘電体２０の表面に沿って、流れる方向が所定の時間間隔で反転して振動する気流を発生させる。 （もっと読む）

【課題】被処理体以外の部位への成膜を抑制した大気圧プラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】プラズマ処理装置は、誘電体内にアンテナとアースが形成された面放電型の誘電体バリア放電方式のプラズマ源において、被処理体を前記プラズマ源に略接触させ、被処理体に対してプラズマ源を設置した面とは反対の面にプラズマを生成するようにした。 （もっと読む）

【課題】マイクロ流路と同一の基体に配置した抵抗体を加熱し、抵抗体の抵抗値変化によって、マイクロ流路内の温度を制御するマイクロ流体デバイスにおいて、流路内の流体に温度分布が生じてしまうこと。
【解決手段】基体内部に設けられた流体を流通させる流路と、前記流路内の流体を主として加熱するための第一の抵抗体とが配置されたマイクロ流体デバイスにおいて、前記第一の抵抗体と異なる位置に配置された、前記流路内の流体を補助的に加熱するための第二の抵抗体を複数個配置する。このマイクロ流体デバイスを動作させるマイクロ流体装置は、前記流路内の流体の温度と前記第一の抵抗体の抵抗値との関係式と、前記第一の抵抗体に投入する熱エネルギーと前記第二の抵抗体に投入する熱エネルギーとの比の固定値と、記憶し、前記関係式と前記固定値とに従い、前記流路内の流体の温度を制御する。 （もっと読む）