Fターム［4G077FG00］の内容
結晶、結晶のための後処理 (61,211) | 後処理−エッチング、機械加工 (857)
Fターム［4G077FG00］の下位に属するFターム
気相でのエッチング (90)
液相でのエッチング (146)
機械的な粗面化、研削、研磨、切断 (358)
加工の際の結晶面方位、角度の設定、制御 (115)
エッチング量、加工量の制御 (42)
局部的にエッチング、研削、研磨するもの (79)
その他 (27)
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