説明

Fターム[4G077JB01]の内容

結晶、結晶のための後処理 (61,211) | 単結晶成長プロセス、装置 (181) | 成長プロセス、装置 (181)

Fターム[4G077JB01]の下位に属するFターム

Fターム[4G077JB01]に分類される特許

1 - 9 / 9


【課題】本発明は、Bi−2212結晶粉末等を短時間、且つ容易に作製可能な方法を創案すると共に、Bi−2212結晶等の配向性が良好な超伝導線材を短時間、且つ容易に作製可能な方法を創案することを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の超伝導結晶粉末の製造方法は、超伝導結晶物を用意する工程と、前記超伝導結晶物を破断する工程と、前記超伝導結晶物の破断面に粘着シートを貼り付ける工程と、前記粘着シートを前記超伝導結晶物から剥がす工程と、前記粘着シートから超伝導結晶粉末を採取する工程とを含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】単結晶ダイヤモンド基板上にグラフェンを積層又はグラフェンナノリボンを形成する方法及びそれにより得られたグラフェン・ダイヤモンド積層体の提供を目的とする。
【解決手段】ダイヤモンド基板上にグラフェンを積層した、又はダイヤモンド基板上にグラフェンのナノリボン膜を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】低温で結晶半導体を形成可能な結晶半導体の製造方法を提供する。
【解決手段】80〜240nmの膜厚を有するa−Ge膜2が基板1上に形成される(工程(b)参照)。そして、約10nmの膜厚を有するSiO膜3がa−Ge膜2上に形成される(工程(c)参照)。その後、約90nmの膜厚を有するPt薄膜4がスパッタリングまたは蒸着によってSiO膜3上に形成される(工程(d)参照)。そして、Pt薄膜4は、水素リモートプラズマによって処理される(工程(e)参照)。 (もっと読む)


【課題】従来にない極めて高品質で大面積の単結晶SiCを安定してエピタキシャルに連続成長させることが可能な単結晶SiC製造方法及びその結果得られる高品質な単結晶SiCを提供する。
【解決手段】SiC種結晶が固定されたサセプタ5及び原料供給管6を坩堝2内に配置する配置工程、並びに、高温雰囲気とした坩堝2内に単結晶SiC製造用原料を不活性ガスAと共にSiC種結晶4上に供給してSiC単結晶9を成長させる成長工程を含み、単結晶SiC製造用原料として、SiC粒子、SiO2粒子及びカーボン粒子の原料3成分を供給する工程を含み、原料供給管6先端の内径がSiC種結晶4の結晶径の80%以上となるように加工されている単結晶SiCの製造方法。 (もっと読む)


【課題】高品質な単結晶SiCをエピタキシャルに安定して連続成長させる単結晶SiC製造方法、及び、その方法で得られる高品質な単結晶SiCを提供する。
【解決手段】高温加熱保持することができる坩堝内にSiC単結晶を成長させるためのSiC種結晶3及び単結晶SiC製造用原料を供給するための原料供給管を配置する配置工程、並びに、高温雰囲気とした坩堝内に単結晶SiC製造用原料を不活性ガスと共に原料供給管を通してSiC種結晶上に供給して単結晶SiCを成長させる成長工程を含み、配置工程において、SiC種結晶をSiC種結晶に応力がかからないように保持手段1、2により原料供給管の末端近傍に配置し、かつ、成長工程において、単結晶SiC製造用原料としてSiC粒子、SiO2粒子及びカーボン(C)粒子の原料3成分を供給する単結晶SiCの製造方法。 (もっと読む)


【課題】十分に結晶配向度の高い金属酸化物膜を、簡易、低コスト、かつ、基材及び金属酸化物膜に損傷を殆ど与えずに得ることが可能な金属酸化物膜の製造方法、積層体、及び電子デバイスを提供することを目的とする。
【解決手段】基材10上に(111)結晶面を有する金属膜14を形成する工程と、金属膜14の(111)結晶面に金属酸化物膜20を形成する工程と、金属膜14の(111)結晶面に形成された金属酸化物膜20の温度を25〜600℃に維持し、金属酸化物膜20に対して紫外線を照射する工程と、を備える。 (もっと読む)


【課題】 構造欠陥密度が低減され、真空紫外光照射時の透過率低下が少ないフッ化物単結晶の製造方法であって、結晶成長段階での精密制御を必要としない製造方法の提供を課題とする。
【解決手段】 ルツボに充填したフッ化物を真空炉内で加熱してフッ化物融液とする融解工程と、フッ化物融液から一酸化炭素(CO)を除去する一酸化炭素除去工程と、一酸化炭素除去工程を経たフッ化物融液を冷却して結晶化する結晶化工程と、を有する製造方法によりフッ化物単結晶を製造する。 (もっと読む)


【課題】 結晶内のサブバウンダリの発生を抑制し、内部透過率などの光学特性に優れた結晶を製造することができる結晶製造方法及び装置を提供する。
【解決手段】 坩堝に収納された結晶性物質の原料から単結晶を製造する結晶製造方法であって、前記坩堝を移動させることで溶融した前記原料の結晶を成長させるステップと、前記成長ステップで成長させた結晶から単結晶を切り出すステップとを有し、前記切り出しステップは、前記原料から所定の結晶方位を有する母結晶を成長させる際に、前記所定の結晶方位とは異なる結晶方位を有するグレインバウンダリから切り出すことを特徴とする結晶製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】 内部欠陥を低減し、内部透過率などの光学特性に優れた結晶を製造することができる結晶製造方法及び装置を提供する。
【解決手段】 結晶性物質の原料が収納された坩堝を引き下げることで単結晶を成長させる結晶製造方法であって、前記原料を溶融するステップと、前記坩堝を引き下げるにつれて、前記坩堝の底部の温度が高くなる温度分布を形成するステップとを有することを特徴とする結晶製造方法を提供する。 (もっと読む)


1 - 9 / 9