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Fターム[4G077MB06]の内容

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【課題】紫外線放射に対して高い耐放射線性を有するフッ化物結晶、特にフッ化カルシウム結晶を製造する方法を提供する。
【解決手段】アルカリ金属フッ化物又はアルカリ土類金属フッ化物を含有する結晶粉末6を供給して結晶原料塊を形成するステップと、結晶原料塊を結晶成長ユニット内で溶融するステップと、溶融した結晶原料塊を冷却により凝固させるステップと、を含む方法。複合フルオロ酸のアンモニウム塩7及び脂肪族アルコール8を前記結晶粉末6又は前記結晶原料塊に添加して、酸化物系不純物を減らす。この方法により製造したフッ化物結晶、及び該フッ化物結晶から形成した光学コンポーネント。 (もっと読む)


【課題】単位面積あたりのエッチピット密度(EPD)で評価した結晶性の値が低く良好な結晶性を有するSiドープGaAs単結晶インゴット、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】GaAs化合物原料を別の合成炉で合成し、当該原料中にSiドーパントを挟み込んで、Siドーパントを収納したGaAs化合物原料31Bとした。当該Siドーパントを挟み込む位置は、当該GaAs化合物原料を溶融したとき、その平均温度より低くなる位置とした。単結晶成長装置のるつぼに種結晶を挿入した後に、Siドーパントを収納したGaAs化合物原料31B、液体封止剤32をるつぼに投入し、単結晶成長装置1にセットして加熱溶融後、当該液体封止剤を攪拌しながら、縦型温度傾斜法により融液を固化、結晶成長させてSiドープGaAs単結晶インゴット33を得る。 (もっと読む)


結晶を成長させるという様な、材料を加工するのに使用される真空炉での無用の副次的反応を最小限にするための方法である。プロセスは、炉室環境で施行され、ヘリウムが炉室へ、不純物を洗い流す流量で、且つ加熱ゾーンに熱安定性を実現し、熱流の変化を最小限にし、加熱ゾーンの温度勾配を最小限にする所定の圧力で投入される。冷却中は、冷却率を上げることを目的に、ヘリウム圧力を使用して熱勾配の縮小が図られる。 (もっと読む)


【課題】 シリコン粒子を安定的かつ高効率に単結晶化するとともに、単結晶の結晶シリコン粒子を一括的にかつ低コストに製造することができる結晶シリコン粒子の製造方法を提供すること。
【解決手段】 結晶シリコン粒子の製造方法は、シリコン粒子101をその形状を保持したままシリコンの融点Tm以上の温度T1に加熱して内部のシリコンを溶融させて、温度T1から融点Tm未満であって1383℃以上の温度T2まで過冷却する工程1と、次に溶融したシリコン粒子101が全て凝固するまでTm未満であって1383℃以上の範囲内の所定の温度に保持する工程2とを具備する。 (もっと読む)


約30W/m・K以下の面内熱伝導率、および約2W/m・K以下の面間熱伝導率を有する熱分解窒化ホウ素材料が開示される。その密度は、1.85g/cc未満である。 (もっと読む)


【課題】アルミニウムを含む原料シリコン融液(2)から、いわゆる方向凝固法により、シ
リコン方向凝固物(4)を得、これ(4)から粗シリコン領域(45)を切除して、歩留率の目標値
(Y0)で、目標最大アルミニウム濃度(C10max)以下の精製シリコン(1)を得ることのでき
る方法を提供する。
【解決手段】本発明の製造方法は、C10maxと、Y0とから、あらかじめ、下式(1)を満
足する基準温度勾配(T0)および基準凝固速度(R0)を求める。
k={K1×Ln(R0)+K2
×{K3×exp[K4×R0×(K5×C2+K6)]}
×{K7×T0+K8}−K9…(1)
〔kは、式(2)
10max=k'×C2×(1−Y0k'-1…(2)
(k'はアルミニウム実効分配係数、C2は原料シリコン融液のアルミニウム濃度)
を満足するように求めたアルミニウム実効分配係数k'の0.9倍〜1.1倍の範囲から選ばれる係数。〕 (もっと読む)


光起電力電池および他の用途のシリコンを鋳造するための方法および装置が提供される。これらの方法により、鋳造時に種結晶材料の断面積を増やすように結晶成長が制御される炭素分が低いインゴットを成長させることができる。
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【課題】良質のランガテイト単結晶を効率的に育成することができるランガテイト単結晶の製造方法を提供すること。
【解決手段】坩堝3の内部にランガサイト種結晶5を充填すると共に、ランガサイト種結晶5上に原料を積み重ねて充填する充填工程と、坩堝3の垂直方向に温度勾配を有する炉の内部に坩堝3を配置し、ランガテイト原料6を融解して融液を形成する融解工程と、融液を下方から上方に向けて漸次固化させて単結晶を育成する育成工程とを備え、ランガサイト種結晶5が、ランガサイトによって構成されている。 (もっと読む)


【課題】 結晶多形の変態を制御し、所望の4H−炭化珪素単結晶を得ることができる方法を提供する。
【解決手段】 SiとCを含む原料を融解した融液に炭化珪素単結晶基板を接触させ、前記基板上に炭化珪素単結晶を成長させることを含む炭化珪素単結晶の製造方法において、
a)前記種結晶基板を前記融液表面と接触させて単結晶を成長させた後に、この種結晶基板を前記融液表面から離して単結晶の成長を中断させる工程、及び
b)再び前記種結晶基板を前記融液表面と接触させて単結晶を成長させる工程
からなるサイクルを少なくとも1回以上行うことを含み、前記種結晶が6H−炭化珪素単結晶又は15R−炭化珪素単結晶であり、得られる単結晶が4H−炭化珪素単結晶であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 1度に多数の結晶シリコンインゴットを製造することができる生産性の高い結晶シリコン製造装置とその製造方法とを提供するものである。
【解決手段】 受台18に複数の坩堝16を載せ、その複数の坩堝16の隣合う側面同士を接触させる。この状態で加熱融解や冷却を行うことで、四隅の角部にのみクラックが発生し、坩堝16同士が接合する角部にはクラックが発生しない。この結果、本発明は1個の坩堝のみで製造する従来のものと比べて、均質な結晶シリコンインゴットを複数製造することができる。 (もっと読む)


単結晶スピネルブール、ウェハ、基板およびそれらを含む能動デバイスが開示される。機械的応力および/またはひずみが減少した、このような物品は改良された収率により表される。 (もっと読む)


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