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Fターム[4G146AA05]の内容

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Fターム[4G146AA05]に分類される特許

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【課題】ダイヤモンドライクカーボン膜を備えた摺動部材において、せん断に対するダイヤモンドライクカーボン膜の密着性(耐引っ掻き性)を向上することで摺動部材の耐摩耗性の向上および長寿命化が可能な摺動部材を提供する。
【解決手段】基材の上に、第一層を含むDLC膜を配置した摺動部材であって、前記基材が、V,Cr,Nb,Mo,Ta,Wから選ばれる少なくとも1種を含む合金鋼であり、前記第一層がV,Cr,Nb,Mo,Ta,Wから選ばれる少なくとも1種を含み、前記基材から第一層に向けて同一の結晶構造が連続することを特徴とする摺動部材。 (もっと読む)


【課題】耐熱サイクル特性、耐熱応力特性に優れたアモルファス状炭素皮膜の形成を可能とするアモルファス状炭素皮膜の形成方法及びアモルファス状炭素皮膜を提供する。
【解決手段】基材表面に、アモルファス状炭素皮膜を形成させる方法であって、前記基材のアモルファス状炭素皮膜形成面に、前記基材よりも炭化物生成自由エネルギーの小さい物質からなる粒子を分散させ、化学蒸着法又は物理蒸着法により前記粒子上にアモルファス状炭素を成長させて、柱状のセグメントの集合体からなるアモルファス状炭素皮膜を形成することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】極めて電気抵抗の低いホウ素ドープ導電性ダイヤモンドライクカーボン薄膜の製造方法及び金属基板上に薄膜を一体構成した電極材料を提供する。
【解決手段】炭素源として炭化水素を、ホウ素源として有機ホウ素化合物を用い、反応調整ガスとしてアルゴンガスを混在させ、高周波プラズマCVDにより基板上にホウ素ドープダイヤモンドライクカーボンを形成させる。 (もっと読む)


【課題】白金等の触媒金属を使用せずに水素の酸化還元及び酸素の貴電位における還元を行うことができる炭素を基体とする電極材料の製造方法、炭素を基体とする電極材料並びにこれを使用した燃料電池及び二次電池を提供する。
【解決手段】カルバミン酸を含む水溶液を電解酸化することにより、電極として使用した炭素材料の表面の炭素原子に含窒素官能基を共有結合させ、表面に含窒素官能基を共有結合させた炭素材料を強酸中で電解還元処理することにより、白金等の触媒金属を使用せずに水素の酸化還元及び酸素の貴電位における還元を行うことができる炭素を基体とする電極材料を製造する。 (もっと読む)


【課題】容易に且つ膜の特性を損なうことなく特性が向上したダイヤモンド様薄膜を実現できるようにする。
【解決手段】ダイヤモンド様薄膜は、基材11の上に形成され、炭素と結合した水素を含むダイヤモンド様材料からなる第1の層13と、第1の層13の上に形成され且つ炭素と結合した水素の少なくとも一部が引き抜かれ、第1の層13と比べて水素の含有率が低いダイヤモンド様材料からなる第2の層14と、第1の層13と基材11との間に形成され、第1の層13と比べて水素の含有率が低いダイヤモンド様材料からなる第3の層15とを備えていている。 (もっと読む)


【課題】CNM等の難溶解性粉体の表面修飾処理を高速化して、大量の表面修飾処理を低コストで行うことのできる粉体可溶化方法及びその粉体可溶化方法に基づき粉体可溶化処理を行える粉体可溶化装置を提供することである。
【解決手段】攪拌部材4の終端部5を液中電極14の対向電極として、両電極間に高電圧高周波パルス発生装置17の合成電圧Vが印加される。合成電圧Vの印加により、水面32近傍のCNTあるいは水面32に浮遊するCNT11が粉体電極となって、液中電極14との間で液中プラズマ放電27を発生させる。液中プラズマ放電27により液中電極14の周囲が沸騰状態に達し、HやOH等のラジカルを含む活性水蒸気28が生ずる。活性水蒸気28及び液中プラズマに接触することにより、浮遊CNT粉体はCNT周囲に水和層が形成され親水化される。 (もっと読む)


【課題】保護膜の膜厚を薄くしつつ、耐久性および耐食性を向上させると同時に潤滑膜に対する保護膜表面の結合力を増加させる。さらに、該保護膜を備えた良好な電磁変換特性を有する磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】磁気記録媒体のための保護膜であって、該保護膜がフッ素と窒素とを含んでいることを特徴とする保護膜である。磁気記録媒体のための保護膜を製造する方法であって、基体と該基体上に形成される金属膜層とを含む積層体の上に該保護膜を形成する工程と、フッ素含有ガスおよび窒素含有ガス中で該保護膜をプラズマ処理する工程とを含むことを特徴とする方法である。 (もっと読む)


【課題】 切刃における被覆層のチッピングや剥離を抑制できるとともに耐溶着性を向上した切削工具を提供する。
【解決手段】 棒状で、外周に切刃2と、切刃2よりも内側に凹んだ位置に形成される切屑排出溝3とを備えた基体4の表面に1層以上の被覆層5を被覆してなり、切刃2の表面には基体4の全周にわたって被覆される第1被膜層5aに加えて基体4側に別途第2被覆層4bが形成されているツイストドリル1等の回転工具である。 (もっと読む)


【課題】基材への接着を促進するような中間層を使用しないで硬質被覆層をかみそり刃先基材に被覆する方法を提供する。
【解決手段】金属でドープ塗装されたグラファイトを有するターゲットをスパッタリングすることにより、金属ドープされたダイヤモンド状炭素からなる被覆層16をかみそり刃の研がれた刃先ならびにその近接部の基材12に直接蒸着形成し、次いでポリ四フッ化エチレンからなる外側層18を前記金属でドープ塗装されたダイヤモンド状炭素の被覆層上へ被覆形成する。 (もっと読む)


【課題】ダイヤモンド半導体の不純物の新しい混入状態を実現する。
【解決手段】ダイヤモンド半導体は、ダイヤモンド10とダイヤモンド10内にドーピングされる不純物で構成される。不純物のドーピングにより、ダイヤモンド10内に複数の高濃度ドープ領域20が形成される。各高濃度ドープ領域20は、ダイヤモンド10内において空間的に局在化されており、そして、ダイヤモンド10内において複数の高濃度ドープ領域20が分散的に配置されている。不純物のドーピングによりキャリア生成のための活性化エネルギーを低下させつつ、各高濃度ドープ領域20の局在化によりキャリア移動度の低下を抑えることが可能になる。 (もっと読む)


【課題】 有毒な薬剤や、プラズマ処理などの真空大型装置を使用することなく、また、加熱処理や、煩雑な操作を施すことなく、安全、かつ簡便にカーボン材料表面上に含酸素官能基を導入する方法を提供し、また、得られた酸素官能基化カーボン材料から、水酸基のみで化学修飾したカーボン材料を得る方法を提供する。
【解決手段】 過酸化水素水存在下において、カーボン材料に、好ましくは波長が170〜300nmの紫外光を照射することにより、カーボン材料の表面に含酸素官能基を化学結合させる。また、得られた含酸素官能基化カーボン材料に、水素化剤を作用させることにより、表面が水酸基のみで化学修飾されたカーボン材料が得られる。 (もっと読む)


【課題】集束イオンビームを用いて作製したダイアモンドライクカーボンによる微小構造体で、ピエゾ抵抗特性が得られるようにする。
【解決手段】基板の上に原料ガスを供給した状態で集束イオンビームを照射し、集束イオンビームの照射箇所にダイアモンドライクカーボンからなる微小構造体を形成する(ステップS101)。次に、形成した微小構造体を加熱して微小構造体より集束イオンビームのイオンを除去して微小構造体にピエゾ抵抗特性を発現させる(ステップS102)。 (もっと読む)


【課題】容易かつ高精度に膜硬度を計測する膜硬度計測方法及び成膜装置を提供する。
【解決手段】QMS20により、放電中のプラズマにおけるイオン種を計測し、計測された電流値からH=1、C=12という事実を用いてイオン種の質量と定義し、この質量を、水素流量比0、パルス周波数20kHzという条件での値で除することでイオン種の総質量比として算出した。上記水素流量比及びパルス周波数の条件下でDLC膜が生成されると、チャンバ11内を大気圧に戻し、この生成されたDLC膜に対して、ラマン分光分析装置30によりレーザー光を照射し、散乱したラマン散乱光を検出することで生成膜中の規則性六員環の多さを示すDピークとGピークの積分強度比ID/IGを算出した。生成された各々のDLC膜の硬度を、QMS20により算出されたイオン種の総質量比と、ラマン分光分析装置30により算出された積分強度比と、に基づいて計測した。 (もっと読む)


【課題】保護膜として機能し得る硬度と高い可視光透過性とを兼ね備えたDLC膜を樹脂基材上に有するDLC膜付基材の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の製造方法は、RF電源16を用いた平行平板型プラズマCVDによりCHとHとの混合ガスからDLC膜を形成する工程を包含する。この工程では、上記プラズマCVDを、(a)上記混合ガスのHガス分圧をCHガス分圧の0.8倍以上とする;(b)上記混合ガスの合計圧力を20Pa〜40Paとする;および(c)RF電源16のパワーを15W〜20W/225πcmとする;を満たすように行うことにより、(A)膜厚200nmのとき、波長400nmにおける光透過率が70%以上;および、(B)硬度が5GPa以上;を満たすDLC膜を樹脂基材3上に形成する。 (もっと読む)


【課題】従来よりも小型軽量化または省エネルギー化を図れる排気ガス制御装置を提供する。
【解決手段】
本発明の排気ガス制御装置(3)は、燃焼機関の排気ガスの経路に配設され排気ガスの流れを制御する制御弁(24)と、この制御弁と一体的に可動する可動軸(27)と、可動軸を摺動させつつ支承し可動軸の摺動面に摺接する摺受面を有する軸受(34、39)とを備える。前記摺動面または前記摺受面の少なくとも一方は、Si、Hおよび残部であるCからなる非晶質炭素膜(DLC−Si膜)を有し、このDLC−Si膜は付着する界面に臨む臨界部とこの臨界部に連なり表面側へ延びる表面部とからなる。その表面部はSi濃度が8〜30原子%である部分を有し、臨界部は表面部よりもSi濃度が低い。このようなDLC−Si膜が摺動部に存在することで、常温域および高温域における摩擦係数を長期にわたり低減できる。 (もっと読む)


組織化された粒子の層を基材上に付着させる方法。本方法は、少なくとも50体積%のエタノールから形成された溶媒の混合物と前記粒子とを少なくとも含む浴の制御撹拌のステップと、前記撹拌浴中への前記基材の浸漬のステップと、前記撹拌浴から前記基材の除去のステップとを含む。 (もっと読む)


【課題】より高性能なフッ素含有炭素材料(CF材料)を製造する方法および/またはより生産性の高いCF材料製造方法を提供する。
【解決手段】以下の工程:(A)所定の雰囲気ガス中において、基材60に向けて加速されたガス粒子を衝突させつつ、FとCを含む原料ガスを基材60上に堆積させて堆積物を形成する工程;および、(B)所定の雰囲気ガス中において、FとCを含む被処理材の表面に、該表面に向けて加速されたガス粒子を衝突させる処理を施す工程;の少なくとも一方を包含するCF材料製造方法が提供される。上記所定の雰囲気ガスは、HOを添加して調製された雰囲気ガスおよび/またはHOを主成分とする雰囲気ガスである。 (もっと読む)


【課題】DLC膜をコストアップにならずに、導電性と耐食性の両方を備えた導電性基材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基材2と、基材2上に設けられた、ニッケル及びクロムを合計成分割合で30〜76モル%含有するダイヤモンドライクカーボン膜3とを有する導電性基材1により上記課題を解決する。ニッケルとクロムがモル比で1:1〜3:1であることが好ましい。このダイヤモンドライクカーボン膜3は、プラズマ化した昇華ガスをニッケル及びクロム原料に照射してニッケル及びクロムをイオン化し、且つ、前記昇華ガスに炭化水素ガスを接触させて該炭化水素ガスをイオン化し、イオン化したニッケル及びクロムと炭化水素ガスとを基材2上に堆積させて成膜する。 (もっと読む)


【課題】DLC膜の諸性質を、それぞれの用途における要求特性などに応じて、成膜後に改質し用途適正を向上させてなるDLC被覆部材とそれの有利な製造方法を提供する。
【解決手段】基材の表面に、膜厚3μm超の厚膜DLCを被覆してなる部材において、この部材表面における厚膜DLCを、水素が13〜30原子%で残部が炭素からなり、かつ共析金属微粒子を含む微粒子堆積層とし、この層の残留応力が1.0GPa以上、硬さ(Hv)が700〜2800の熱処理DLCの膜にて形成する。 (もっと読む)


本発明は、CrN層と、Me(C)層と、DLC層とを内側から外側に有するコーティングを備えた、好ましくは鋳鉄または鋼鉄製のスライド素子、特にピストンリングであって、DLC層が、金属を含まないかまたは金属含有下部構造と金属を含まないDLC上部層とから構成されている、スライド素子に関する。本発明はさらに、このようなスライド素子と鉄系かみ合い作動素子との組み合わせに関する。 (もっと読む)


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