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Fターム[4G146BC31]の内容

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【課題】前駆体熱処理法の第一工程においてスラグ状堆積物が生成しないようにすると同時に、生成するフラーレン煤中に内包カーボンナノカプセル前駆体が大量に含まれる製造方法を提供すること。
【解決手段】放電容器内に導入したヘリウム雰囲気中において、二次元または三次元に配置された3つ以上の放電電極にそれぞれ位相差のある多相交流を印加して、アーク放電を発生させ、このアーク放電により形成されたプラズマ領域を用いて複合炭素原料を蒸発せしめ、蒸発した全量を当該プラズマ領域内で凝縮させて前記放電容器内壁にフラーレン煤として付着させる製造方法であって、前記放電容器内のヘリウム圧力を15〜90Torrとすることによって、被内包物質を内包した微小な内包カーボンナノカプセル状物質を内包カーボンナノカプセル前駆体として前記容器内壁に付着する煤中に生成させる。 (もっと読む)


【課題】カーバイド誘導炭素(CDC)を、穏やかな条件下で環境にやさしい態様で合成すること。
【解決手段】CDCは、Mn+1AX相(n=1、2または3)中のM及びA元素を選択的にエッチングすることによって製造される。ここで、Mは遷移金属、AはA族元素、またXは炭素である。形成されたCDCは、乱層状微小構造、樽状、リボン状、玉葱状、棒状等々の多様な種類の形態を有する。本プロセスは塩素ガスを使用しないため、従来技術によるプロセスよりもはるかに環境にやさしい。 (もっと読む)


【課題】効率的に、かつ低コストで、優れた物性値をもち、表面が平滑な、グラフェン/高分子積層体を製造する方法を提供する。
【解決手段】金属基板上に形成された、グラフェンを複数層有する多層グラフェン10のうち少なくとも1層を、多層グラフェン10の層間で剥がして、高分子フィルム3に貼り付ける、グラフェン転写工程を含む。 (もっと読む)


【課題】500℃以下の低温で、カーボンナノ構造体を製造できるカーボンナノ構造体形成用基板、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基材表面に、Fe、Co、およびNiよりなる群から選ばれる少なくとも1種の元素を含有するAl合金膜を有し、前記Al合金膜に含まれる前記元素の合計量は0.10〜20原子%であり、前記基材側とは反対側のAl合金膜表面に、前記元素の少なくとも一部を含む析出物を有しており、その析出物の平均粒径が5〜100nmであるカーボンナノ構造体形成用基板。 (もっと読む)


【課題】パーティクルの発生を抑えつつ、カーボンナノチューブの成長速度の低下を抑制できるカーボンナノチューブの形成方法、及びカーボンナノチューブの形成装置を提供する。
【解決手段】アセチレンガスを熱分解してカーボンナノチューブ33を形成する際に、コバルトから構成される触媒金属層32に対して、窒素プラズマによる窒化処理を行い、窒化金属層32Nを形成する。次いで、アセチレンガスを熱分解する温度以下まで窒化金属層32Nを加熱して窒化触媒金属を微粒子化して微粒子膜32Pを形成する。その後、微粒子膜32Pをアセチレンガスが熱分解される温度にまで昇温して且つ該温度に維持することによって、アセチレンガスを熱分解して微粒子層32P上にカーボンナノチューブ33を形成する。 (もっと読む)


【課題】アルミニウム基材に対し簡単な方法で密着性の高い炭素薄膜を積層できる炭素薄膜付アルミニウム材の製造方法を提供する。
【解決手段】 炭素薄膜付アルミニウム材(10)の製造方法は、アルミニウム基材(1)を、鉄、ニッケルおよびコバルトのうちのいずれか1種以上の金属を含む処理液を用いて化成処理を行い、該アルミニウム基材(1)の表面に前記金属を含む化成皮膜からなる下地層(2)を形成する下地層形成工程と、前記工程により下地層(2)を形成したアルミニウム基材(1)を炭化水素ガスが存在する雰囲気中で450℃〜アルミニウム基材の融点未満に加熱し、下地層(2)上に炭素薄膜(3)を形成する炭素薄膜形成工程、とを含む。 (もっと読む)


【課題】保護膜として機能し得る硬度と高い可視光透過性とを兼ね備えたDLC膜を樹脂基材上に有するDLC膜付基材の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の製造方法は、RF電源16を用いた平行平板型プラズマCVDによりCHとHとの混合ガスからDLC膜を形成する工程を包含する。この工程では、上記プラズマCVDを、(a)上記混合ガスのHガス分圧をCHガス分圧の0.8倍以上とする;(b)上記混合ガスの合計圧力を20Pa〜40Paとする;および(c)RF電源16のパワーを15W〜20W/225πcmとする;を満たすように行うことにより、(A)膜厚200nmのとき、波長400nmにおける光透過率が70%以上;および、(B)硬度が5GPa以上;を満たすDLC膜を樹脂基材3上に形成する。 (もっと読む)


【課題】浸炭による強度および寿命の低下を防ぐことができるとともに、カーボンナノ構造物の製造に適した流動状態を確保することが可能なカーボンナノ構造物の製造装置および製造方法を実現する。
【解決手段】反応管を加熱し、原料ガスと触媒担持粒子とを流動させながら前記反応管内で反応させることによってカーボンナノ構造物を製造するカーボンナノ構造物の製造装置であって、前記反応管は金属からなり、かつ内表面に金属の酸化物層を備えているカーボンナノ構造物の製造装置を用いる。 (もっと読む)


【課題】炭素同位体比率を任意に制御してなる単層カーボンナノチューブ、多層カーボンナノチューブまたはカーボンファイバーからなる炭素材料、及びその炭素材料を用いた識別マークを提供する。
【解決手段】単層カーボンナノチューブ、多層カーボンナノチューブまたはカーボンファイバーからなる炭素材料であって、該炭素材料が12C及び13Cの同位体比率を人為的に制御した炭素を含む気体を原料として合成してなる炭素同位体比率が制御された単層カーボンナノチューブ、多層カーボンナノチューブまたはカーボンファイバーからなることを特徴とする炭素材料、及びその炭素材料を用いた識別マーク。 (もっと読む)


約300℃超の温度である高温原料を用いて、付着汚染制御を行いながらカーボンブラックを作製するための方法を提供する。これらの方法に従ってカーボンブラックを作製するための装置も提供する。
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【課題】新規の構造を有し、高い導電性を示す配向性の非晶質炭素膜およびその形成方法を提供する。
【解決手段】配向性非晶質炭素膜は、Cを主成分とし、Nを3〜20原子%、Hを0原子%を超え20原子%以下含み、かつ、Cの全体量を100原子%としたときにsp混成軌道をもつ炭素(Csp)が70原子%以上100原子%未満であって、グラファイトの(002)面が厚さ方向に沿って配向する。この膜は、Cspを含む炭素環式化合物ガスならびにCspと窒素および/または珪素とを含む含窒素複素環式化合物ガスから選ばれる一種以上の化合物ガスと窒素ガスとを含む反応ガスを1500V以上で放電させる直流プラズマCVD法により形成できる。 (もっと読む)


【課題】エンジン部品等の高負荷条件で使用可能な良好な耐摩耗性を備えた水素含有非晶質硬質炭素被覆部材を提供する。また、高負荷条件での使用においても耐摩耗性に優れた水素含有非晶質硬質炭素被覆部材の製造方法を提供する。
【解決手段】比較的平滑な表面が得られる水素含有非晶質炭素被膜において、この水素含有非晶質炭素被膜中に同じ非晶質の炭素微粒子を分散して、平滑な表面と被膜全体の硬度を維持したまま耐欠け性を向上させる。具体的には、アーク放電によってアーク式蒸発源の炭素カソードより放出される微粒子を被膜中に取り込むことによって、水素含有非晶質炭素被膜に同じ非晶質の炭素微粒子を分散する。 (もっと読む)


【課題】引張強度が高いCNT繊維、及び糸切れが生じにくいCNT繊維の製造方法を提供すること。
【解決手段】複数のCNTを含み、前記CNTの表面に微粒子を担持していることを特徴とするCNT繊維。基板上に複数形成されているCNTの一部を引き出すとともに、引き出されたCNTの表面に前記微粒子を担持させることを特徴とするCNT繊維の製造方法。基板上に複数形成されているCNTの表面に前記微粒子を担持させる工程と、前記微粒を担持するCNTの一部を引き出す工程と、を有することを特徴とするCNT繊維の製造方法。 (もっと読む)


【課題】二層カーボンナノチューブを主体に構成された炭素質材料、特には膜状に形成された二層カーボンナノチューブに富む炭素質材料の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明によって提供される二層カーボンナノチューブを主体に構成された炭素質材料の製造方法は、減圧可能な容器内に配置された一対の電極間にアーク放電を発生させて該電極の少なくとも一方からカーボンを蒸発させて行う製造方法であって、該アーク放電の発生領域に近接する外側領域であって900Kを下回らない温度領域内において前記一対の電極の少なくとも一方からの蒸発物を回収することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】フィラメント状のカソード電極の寿命を高めると共に、高硬度で緻密な炭素膜を形成することを可能とした炭素膜の形成方法を提供する。
【解決手段】減圧した成膜室101内に炭素を含む原料の気体Gを導入し、この気体Gを通電により加熱されたフィラメント状のカソード電極104と、その周囲に設けられたアノード電極105との間で放電によりイオン化し、このイオン化した気体Gを加速して基板Dの表面に照射することによって、基板Dの表面に炭素膜を形成する炭素膜の形成方法であって、カソード電極104を回転させながら炭化処理した後に、この炭化処理されたカソード電極104を用いて、炭素膜の形成を行う。 (もっと読む)


【課題】簡単且つ安価な装置で熱損失を抑えながら高品質且つ均一な粉末炭を連続的に製造する。
【解決手段】原料を、加熱気体が循環する循環路101に導入し、加熱気体により加熱し乾燥させながら粉砕機20に搬送し、加熱気体の存在下で粉砕し乾燥させて粉末原料を得る。次いで、粉末原料を加熱気体とともに循環路に沿って炭化器30に搬送し、加熱気体の存在下で粉末原料を加熱し炭化させて粉末炭を得る。次いで、粉末炭を加熱気体とともに循環路に沿って粉末炭回収装置50に搬送し、加熱気体から粉末炭を回収する。粉末炭が回収された後の加熱気体は循環路に沿って原料が導入される地点P10に送られる。 (もっと読む)


【課題】高硬度で緻密な炭素膜を均一な厚みで形成することが可能な炭素膜の形成方法を提供する。
【解決手段】減圧された成膜室101内に炭素を含む原料の気体Gを導入し、この原料の気体Gを、通電により加熱されたフィラメント状のカソード電極104と、その周囲に設けられたアノード電極105との間で放電によりイオン化し、このイオン化した気体を基板Dの表面に加速照射するときに、マグネット109によって成膜室101内の励起空間に磁場を印加すると共に、この励起空間の周囲に配置されたマグネット109を周方向に回転させながら、炭素膜の形成を行う。 (もっと読む)


【課題】一酸化炭素を主たる炭素源とした気相成長法による微細な炭素繊維の製造において、残留金属成分が少なく効率的な製造方法を提供する。
【解決手段】マグネシウムが置換固溶したコバルトのスピネル型酸化物を含む触媒に、CO及びHを含む混合ガスを供給して反応させ、微細な炭素繊維を成長させるにあたり、内表面がBoudouard平衡に基づく炭素析出反応に触媒活性を有する成分を含まない材料で構成された、攪拌流動式反応装置を使用することを特徴とする微細な炭素繊維の製造方法。 (もっと読む)


【課題】黒鉛は、良導電体であり且つ熱伝導性にも優れる物質として知られているが、更に熱伝導性を高めた黒鉛、その製造方法および黒鉛の熱伝導性を高める方法を提供する。
【解決手段】炭素の安定同位体純度を高めた黒鉛、炭素の安定同位体純度を高めた炭素化合物を黒鉛の原料として用いることを特徴とする黒鉛の製造方法および黒鉛の炭素の安定同位体純度を高めることにより黒鉛の熱伝導性を高める方法。 (もっと読む)


本発明のあるいくつかの例示的な実施形態は、透明導電層(TCC)としてのグラフェンの使用に関する。本発明のあるいくつかの例示的な実施形態において、グラフェン薄膜は、広い領域上に、例えば触媒薄膜上に、炭化水素ガス(例えば、C22、CH4などといった)からヘテロエピタキシャル成長する。あるいくつかの例示的な実施形態のグラフェン薄膜は、ドープされていてもアンドープであってもよい。あるいくつかの例示的な実施形態において、一旦形成されたグラフェン薄膜は、それらのキャリア基板をリフトオフされていても、例えば中間および最終生成物を含め、受電基板に転写されていてもよい。この方法で成長させ、リフトされかつ転写されたグラフェンは、低いシート抵抗(例えば、150オーム/スクウェア未満でかつドープされているときより低い)および高い透過係数(transmission value)(例えば、少なくとも可視および赤外線スペクトルにおいて)を示してもよい。 (もっと読む)


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