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Fターム[4G146NB11]の内容

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【課題】
電磁波照射を用いた炭化ケイ素合成における上記の問題を解決するためになされたものであり、投入原料全体にわたり均一に反応を生じさせ、反応温度の制御や管理も容易であり、しかも、省エネルギー、高効率かつ短時間で高純度・高品質の炭化ケイ素微粉末を製造する方法と、そのための製造装置を提供する。
【解決手段】
電磁波照射を利用するシリカの炭素熱還元による炭化ケイ素粉末の製造方法において、副生ガス通気孔14を有するとともに外周部に自己発熱材料13が、さらに、該自己発熱材料13の周囲に耐熱性多孔質断熱材料6が配置された耐熱性反応器5内に、シリカ源と炭素源を含む原料4を充填した後、電磁波を照射することにより、自己発熱材料13を介して原料4を非酸化雰囲気中で加熱して炭化ケイ素微粉末を得ることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、ナノシリコンカーバイドコーティングを用いる炭素材料の界面を強化するための方法を提供する。
【解決手段】 本発明の方法は、Si−C共有結合を形成するための方法であり、前記方法が:(a)シリコンナノ粒子と炭素材料を混合してシリコン−炭素材料混合物を製造するステップ;及び(b)前記シリコン−炭素材料混合物を、高周波誘導加熱処理するステップを含む。本方法で製造された炭素材料−アルミニウム複合体は、軽量かつ高動的強度を有し、従って、現在使用されている自動車及びアルミニウムホイールに適用可能なものである。さらに、前記複合体は航空機、宇宙船、船などの高強度が求められる材料として使用することができる。 (もっと読む)


【課題】 苛酷な使用環境下で使用される切削工具や金型や自動車部品等の部材において、耐摩耗性と摺動特性が優れる被覆部材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 スパッタリング法によって被覆した硬質皮膜を表面に有する被覆部材であって、該硬質皮膜は原子比でSiよりもCが多いSiC皮膜であり、該硬質皮膜の組織は六方晶の結晶構造相を含む耐摩耗性と摺動特性に優れた被覆部材である。
そして、スパッタリング法によって被覆した硬質皮膜を表面に有する被覆部材の製造方法であって、0を超え25体積%以下のC相を含んだSiC複合ターゲットを用い、該SiC複合ターゲットに印加する平均電力を2kW以上でスパッタし、原子比でSiよりもCが多く、六方晶の結晶構造相を含むSiC皮膜を被覆する耐摩耗性と摺動特性に優れた被覆部材の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】反応基質として有機溶媒を使用することなく、化合物ナノ粒子を十分に高度な収率で製造することが可能な化合物ナノ粒子の製造方法を提供すること。
【解決手段】レーザー光Lを発生させるためのレーザー発振器10と、溶媒13を保持するための処理容器12と、処理容器12内に保持されている溶媒13と、処理容器12内に配置したターゲット14とを備える液相レーザーアブレーション装置を用い、ターゲット14として、レーザー光Lを吸収する材料を2種類以上含有するものを用い、ターゲット14の密度が前記溶媒の密度よりも大きくなるようにターゲット14及び溶媒13を選択して用い、ターゲット14を処理容器12の底部Bに沈殿させて配置し、ターゲット14に対してレーザー光Lを照射して液相レーザーアブレーションを行い、発生させた各微粒子同士を反応た化合物からなるナノ粒子を形成することを特徴とする化合物ナノ粒子の製造方法。 (もっと読む)


【課題】連続した試薬流のレーザ熱分解によりナノメートルサイズまたはサブミクロンサイズの粉体を高いエネルギー収率で製造するシステム及び方法を提供する。
【解決手段】第1の軸に沿ってレーザ光線11を照射するレーザ10と、第1の軸と垂直な方向から試薬流13を流し第1の相互作用ゾーン15でレーザ光線と交差するように構成された第1の注入装置と、第1の軸に沿って第1の相互作用ゾーンの下流側に第2の相互作用ゾーン15’を形成する第2の試薬流13’を与える第2の注入装置と、レーザ光線のエネルギーをレーザ光束の幅及び高さを独立して変更可能な光学部材12を備え、レーザ光密度が第1の相互作用ゾーンと第2の相互作用ゾーンにおいて同一の水準にすることが可能なシステムを用い、試薬流のレーザ熱分解によりナノメートルサイズまたはサブミクロンサイズの粉体を高いエネルギー収率で製造する。 (もっと読む)


【課題】還元法による高純度シリコンの製造方法を提供する。
【解決手段】炭化珪素とシリカとを粉砕し、洗浄した後、各々を所定の比率の割合で混合し、これをルツボ7に収容し、これを加熱手段により加熱して反応させ、炭化珪素をシリカで酸化し、さらにシリカを炭化珪素で還元することにより、シリコン55を製造・抽出するとともに、加熱反応時に生成される活性ガス56、57を原料として、気相成長、エピタキシャル成長により、シリコンカーバイド膜10を形成し、これを回収することによりシリコンカーバイド59を作製するシリコンとシリコンカーバイドとを同時に製造する製造方法及び装置である。 (もっと読む)


【課題】ホウ素含有量が高く、炭化ケイ素および炭化ホウ素相が良好に分散し、組成が制御された、炭素、ケイ素およびホウ素を含む粉末を得ることができる方法を提供すること。
【解決手段】本発明は、炭素、ケイ素およびホウ素を含む粉末を調製するための方法に関し、このケイ素は炭化ケイ素の形態であり、ホウ素が、炭化ホウ素および/または遊離ホウ素の形態である。本発明の方法は、炭素系前駆体、ケイ素系前駆体およびホウ素系前駆体BX(Xがハロゲン原子である)を、これらの3つの前駆体の混合物を得るために接触させる工程と、得られた混合物をレーザー熱分解に供する工程と、を含み、ホウ素系前駆体BXは、接触工程の前におよび/または接触工程と同時に、この前駆体の縮合温度よりも高い温度に加熱される。 (もっと読む)


【課題】飛散等が無い安全なナノファイバー及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に高分子薄膜を形成し、高分子薄膜に対して、飛跡が基板に到達可能なイオンビームを複数の方向から照射し、高分子薄膜内に、3次元的に相互接続され、かつ一端が基板表面に固定されている複数個の円筒架橋部を形成した後、これを溶媒で洗浄する工程を経てナノファイバーを製造する。 (もっと読む)


【課題】不純物の含有量が低い炭化ケイ素単結晶を安価に製造し、且つ、炭化ケイ素原料を高密度に充填し、且つ、炭化ケイ素単結晶の成長を安定的に制御する。
【解決手段】低窒素フェノールをプリカーサー法により合成することにより製造されたホウ素含有量が0.5ppm以下又は窒素含有量が10ppm以下のα型炭化ケイ素粉末を炭化ケイ素原料2として開口部を有する坩堝3の内部に供給し、種結晶4と炭化ケイ素原料2とが対向するように裏面に種結晶4が取り付けられた蓋体5により坩堝3の開口部を覆い、坩堝3を加熱炉7内に配置し、不活性ガス雰囲気下で坩堝3を加熱することにより、炭化ケイ素原料2を昇華させて種結晶4の表面上に炭化ケイ素単結晶を結晶成長させる。 (もっと読む)


【課題】
炭化チタンの製造方法を提供する。
【解決方法】
少なくともチタン化合物と炭素化合物および/又は元素状炭素を含有する顔料配合物を使用して炭化チタンを製造する方法であって、顔料配合物がレーザー照射によって反応してTiCを生成する方法。 (もっと読む)


【課題】気相中で合成したナノ粒子の表面を改質して凝集を防止することができ、或いは、粒子表面に電荷を付加することなく他物質を被覆することができるナノ粒子の表面処理装置および方法を提供する。
【解決手段】内部にマイクロ波2が共鳴可能な共鳴空間9を有し、マイクロ波の吸収が少ない材料からなる中空共鳴容器10と、中空共鳴容器内に所定の周波数のマイクロ波を供給して共鳴空間にマイクロ波の共鳴状態を形成するマイクロ波供給装置12と、中空共鳴容器の外部から、共鳴空間を通って、その外部まで連続して延びる連続中空管20と、連続中空管の内側を通してその一端から他端に向けて、ナノ粒子を含む混合ガスを連続的に供給するナノ粒子供給装置22と、連続中空管の他端から排出された混合ガスからナノ粒子1を分離するナノ粒子分離装置26とを備える。 (もっと読む)


【課題】本発明は、室温・常圧という穏やかな条件下で特別な雰囲気制御を要せず、高純度な中性子捕捉療法用として用いることのできる炭化ホウ素ナノ粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】溶媒中に分散させたアモルファスのホウ素粒子に、レーザー光を照射して、平均粒径が1〜500nmで結晶性のホウ素ナノ粒子またはホウ素を10原子%以上含有するホウ素含有ナノ粒子を作製するナノ粒子の製造方法。およびこの製造方法で製造されたナノ粒子の表面を有機分子または高分子により修飾するナノ粒子の表面修飾方法 (もっと読む)


本発明は、反応流(14)とエネルギー流(15)の間の相互作用がある気相において、粒子製造用リアクター(11)中でナノメータ粒子(10)を製造する気相法に関する。この方法は、以下の工程を含む:
−該リアクター(11)と気体の塩化物(12)を製造するための装置を連結する工程
−粉末の形態の塩基前駆物質(20)から気体の塩化物を製造する工程、及び
−前記反応流(14)をリアクター(11)内に注入する工程。
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本発明は、それぞれの割合がn+1±ε、1±ε及びn±εである少なくとも1つの要素M、少なくとも1つの要素A及び少なくとも1つの要素Xを含む粉末であって、Aは、Cd、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、P、As及びSから選択され、Mは、遷移金属であり、Xは、B、C及びNから選択され、nは、1、2または3に等しい整数であり、ε、ε及びεは、独立して0から0.2の範囲の数を表し、500nm未満の平均粒径を有する粉末に関する。
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【課題】任意形状を持つダイヤモンドおよび立方晶窒化ホウ素(c−BN)の合成方法を提供する。
【解決手段】パルスレーザーを多方向からグラファイトおよび六方晶窒化ホウ素(h−BN)に照射し、瞬間かつ局所的に高温高圧環境を作り出し、グラファイトおよびh−BN上の集光点の位置を移動させることにより、合成点5が移動し、ミリオーダーの任意形状ダイヤモンドおよびc−BNが合成される。またレーザー照射によりダイヤモンドおよびc−BNを合成し、ダイヤモンドおよびc−BNのコーティングが可能となる。 (もっと読む)


【課題】 コイルのピッチが実質的に0である中空状カーボンマイクロコイル、及び、これらを金属化処理等をしてなる中空状セラミックマイクロコイル又は中空状セラミックマイクロファイバーを提供する。
【解決手段】本発明は、アセチレンの触媒活性化熱分解によりマイクロコイル状炭素を合成する際、反応条件を厳密に制御し、ファイバーの成長につれて基板を下げてゆくことを特徴とする、コイルが極めて密に規則正しく巻いた中空状カーボンマイクロコイルに関する。また、本発明は、これらを原料として、種々の金属成分、ケイ素、ホウ素、炭素、窒素及び/又は酸素原子などを含むガス中、800〜1700℃で高温反応/拡散処理を行うと、原料ガス成分が炭素と反応あるいは置換し、一方繊維軸中の空洞は完全に保持された中空状のセラミックス系マイクロコイル又はマイクロファイバーに関する。
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本発明は、レーザ(10)によって発せられる光線(11)と注入装置(14)によって放出される反応剤の流れ(13)との少なくとも1つの相互作用ゾーンにおいて、熱分解性レーザの作用により、連続流の中でナノメートルサイズ又はサブミクロンサイズの粉体を製造するためのシステムに関し、本システムでは、レーザの後に光学手段(12)が設けられており、レーザによって発せられた光線のエネルギーを、各反応剤の流れの軸に対して垂直な軸に沿って、前記少なくとも1つの相互作用ゾーン内で寸法が調節可能な細長い断面に分布させることができる。本発明は、前記粉体の製造方法にも関する。
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【解決手段】金属カーバイドと、該金属カーバイドをワンステップのプロセスによって合成する方法に関するものである。各種金属(例えば、Si、Ti、W、Hf、Zr、V、Cr、Ta、B、Nb、Al、Mn、Ni、Fe、Co及びMoであり、これらに限定されるものではない)の酸化物を、球状又は繊維状のナノ構造カーボン前駆物質と物理的に混合し、900〜1900℃の温度まで誘導加熱して、金属酸化物をカーボンと反応させて、異なる金属カーバイドを生成するものである。このプロセスでは、得られた金属カーバイドの中でカーボン前駆物質は元の形態が維持される。得られたナノサイズの金属カーバイドは、高結晶性である。金属カーバイド製品は、高温熱電装置、量子井戸、光電子装置、半導体、防護服、装甲車、触媒等の用途に用いられ、アルミニウム及びその他合金に不連続補強材として用いられる。 (もっと読む)


【課題】
【解決手段】本発明は、籾殻又は稲藁のようなシリコン含有植物からカーボン−シリカ生成物を生成する方法であり、硫酸で浸出することによって、非シリカ無機物及び金属を除去し、その一方、残った生成物内の固定カーボン対シリカのモル比を調整する。カーボンとシリカは、ミクロン又はサブミクロンスケールで密接に混合され、高純度と高い反応性、小さな粒子サイズ、高い空隙率を特徴とし、カーボン−シリカ生成物からシリコン含有生成物を生成するエネルギー源として用いられる揮発性カーボンを含む。本発明のカーボン−シリカ生成物から作られる高純度のシリコン含有物もまた開示される。 (もっと読む)


【課題】細長いカーバイドナノ構造を製造する方法において、基材に複数の空間的に離隔した触媒粒子を施工する。
【解決手段】空間的に離隔した触媒粒子及び基材の少なくとも一部を、予め選択された温度で、基材と触媒粒子の少なくとも1個との間に無機ナノ構造を形成させるのに十分な時間にわたって、含金属蒸気に曝露する。無機ナノ構造を、予め選択された温度で、無機ナノ構造を炭化するのに十分な時間にわたって、含炭素蒸気源に曝露する。 (もっと読む)


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