Fターム[4G169AA02]の内容
Fターム[4G169AA02]に分類される特許
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ガス浄化装置、排煙脱硫システム、排ガス処理方法
【課題】各段の浄化槽に常時きれいな水の供給可能な前記排ガス中の微粒子、SO2等の除去効率を向上させたガス浄化部材、ガス浄化装置、排煙脱硫システムを提供する。
【解決手段】第一のガス浄化装置10Aは、排ガス11中のSO3ミストを捕集すると共に、SO2を除去する活性炭素繊維からなる浄化槽12と、浄化槽12の上方側から浄化槽12に硫酸生成用の水13を供給する散水ノズル14とを具備してなるガス浄化装置において、浄化槽12が、ガス浄化装置10Aの本体15内に縦方向に第一の浄化槽12−1、第二の浄化槽12−2、第三の浄化槽12−3を三段配設してなり、散水ノズル14が、第一の浄化槽12−1〜第三の浄化槽12−3の各段の上方側にそれぞれ設けられ、第一の浄化槽12−1〜第三の浄化槽12−3のガス導入側の下端面が、全て同一方向に傾斜してなる。
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触媒の再生方法
【課題】有機ハイドロパーオキサイドとオレフィンを反応させてエポキシドを得るために使用したシリル化していないチタン含有酸化ケイ素触媒の再生方法を提供する。
【解決手段】有機ハイドロパーオキサイドとオレフィンを反応させてエポキシドを得るために使用したシリル化していないチタン含有酸化ケイ素触媒を、酸素を含むガスの存在下で焼成することにより、再生触媒を得るという方法。酸素を含むガスとして好ましいのは空気である。焼成時の温度は、通常300〜900℃で行われる。好ましくは400〜800℃、さらに好ましくは500〜700℃で行われる。焼成は通常0.1〜10時間の範囲で行われる。
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有機ケイ素官能性相間移動触媒
有機ケイ素官能性相間移動触媒(PTC)及び、有機ケイ素官能性(PTC)を使用するケイ素官能性相への非混和性分子の移動方法が提供される。
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形式的にアルカリ金属酸化物および/またはアルカリ土類金属酸化物、酸化アルミニウムおよび二酸化珪素を有する触媒の製造法、この種の触媒、および4〜6個の炭素原子を有するイソオレフィンの製造法
【課題】目的生成物に関連して僅かな選択率、分解の際のよりいっそう高い温度、部分的に500℃を上廻る温度の使用、触媒の僅かな可使時間ならびに触媒の費用がかかる、ひいては高価な製造という欠点を有しない分解触媒を提供する
【解決手段】形式的にアルカリ金属酸化物および/またはアルカリ土類金属酸化物0.1〜20質量%、酸化アルミニウム0.1〜99質量%および二酸化珪素0.1〜99質量%を有する触媒の製造法の場合に、この方法は、a)アルミノ珪酸塩をアルカリ金属塩水溶液および/またはアルカリ土類金属塩水溶液で酸性条件下で処理する工程およびb)アルカリ金属塩水溶液および/またはアルカリ土類金属塩水溶液で処理されたアルミノ珪酸塩をか焼する工程を有する。
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低いシリカ対アルミナ比の触媒を使用する、アルキル化触媒の失活の減少法
本明細書にはアルキル化触媒の再生を最少化するアルキル化システムおよび方法が記載されている。該アルキル化システムは一般的に、アルキル芳香族炭化水素を含む投入ストリームを受け入れ、該投入ストリームを、その中に配置された予備的アルキル化触媒と接触させて第1の排出ストリームを形成するようになっている予備的アルキル化システムを含む。予備的アルキル化触媒は一般的に、約25未満のSiO2/Al2O3比を有するゼオライト触媒を含む。該アルキル化システムは更に、第1の排出ストリームを受け入れ、該第1の排出ストリームを、その中に配置された第1のアルキル化触媒およびアルキル化剤と接触させて第2の排出ストリームを形成するようになっている第1のアルキル化システムを含む。
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ナノコロイド粒子及びその製造方法、共役ジエンのジアセトキシ化反応用触媒、及び不飽和グリコールのジカルボン酸ジエステルの製造方法
【課題】元素周期表の第9族及び第10族から選択される元素と第16族から選択される元素とを共に含有する、新規なナノコロイド粒子を提供する。
【解決手段】第16族元素を含有するアルコキシド化合物及びハロゲン化合物のうち少なくとも一方を原料として用いる。
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強酸カチオン交換樹脂
式(I):
(式中、R1は、各々の出現において独立に水素またはC1-4アルキル基であり、R2は、各々の出現において独立に水素、アルキルまたはアリールであり、R3は、各々の出現において独立に水素もしくはアルキルであり、または2つの隣接するR3基が、芳香環を共に形成し、mは、1,2,3,4,5または6であり、nは、1,2,3または4であり、oは、1または2であり、そしてpは、1,2または3である。)のカチオンで部分的に中和されている複数の酸基を含む強酸カチオン交換樹脂は、ビスフェノールの製造において有用である。
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金属酸化物触媒
【課題】反応初期過程において、ターゲット分子を確実かつ迅速に触媒表面上に乖離吸着させる、高効率の触媒を提供する。
【解決手段】金属酸化物触媒の、表面にある構造(MOx)における金属イオン(Mn+)と酸素イオンの平均距離が2.2オームストロング以下である酸素イオンの一部を除去する。この際に、(MOx)のxが6の8面体である場合、除去する酸素イオンを5個以下とする。また、(MOx)のxが4の4面体である場合、除去する酸素イオンを3個以下とする。金属イオンは、In,Ga,Al,B,Si,Ge,Sn,Ti,Zr,Hf,V,Nb,Ta,Sb,Bi,W,Mo,Cr、または、これらの組み合わせであることを特徴とする。
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ジメチルエーテルの製造方法
【課題】ジメチルエーテルの製造方法を提供する。
【解決手段】開示されるものは、ジメチルエーテルの製造方法であって、
a)脱水触媒の存在下で、0ないし80モル%の水を含むメタノールを反応させる段階;b)反応生成物を単一分離カラムに移動し、それによりジメチルエーテル、水及び未反応メタノールを分離する段階;c)ジメチルエーテルを取り出し、前記単一分離カラムの側流から未反応メタノールを取り出す段階;及びd)メタノールを反応させる前記段階a)に未反応メタノールを再循環させる段階を含む方法である。ジメチルエーテルは水を含むメタノールから製造され得、ジメチルエーテル、水および未反応メタノールの分離及び取り出しは、単一カラムを用いて実現され得、そのため、投資費及び運転費が節減される。
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チタノシリケート及びその製法
【課題】 アルミノシリケートMCM−68(特表2002-535227(WO00/43316))のAlをTiに置き換えることによりチタノシリケートを合成する。従来アルミノシリケートMCM−68のAlを外の元素に置き換えた例は無かった。
【解決手段】 MCM−68に酸処理を行い、その後気相の塩化チタンやチタンアルコキシドで処理することにより、アルミノシリケートMCM−68のAlをTiに置き換えてチタノシリケートを製造する。このチタノシリケートは酸化触媒としてチタノシリケートTS−1と同等以上の触媒性能を持つ。
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窒素酸化物を浄化する触媒、方法、及び装置
【課題】耐熱性に優れ、窒素酸化物を効率よく浄化することができる触媒、それを用いた浄化方法、及び、前記触媒を備える装置等を提供すること。
【解決手段】酸化セリウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タングステン、及び硫酸根(硫酸イオン:SO42−)を含み、酸化セリウムの濃度が15〜30重量%、酸化タングステンの濃度が5重量%以上である複合酸化物は、触媒活性(アンモニアの存在下で窒素酸化物を浄化する能力)及び耐熱性に優れている。従って、酸化セリウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タングステン、及び硫酸根を含み、酸化セリウムの濃度が15〜30重量%、酸化タングステンの濃度が5重量%以上である触媒は、窒素酸化物の浄化に有用である。
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窒素酸化物を浄化する触媒、方法、及び装置
【課題】耐熱性に優れ、窒素酸化物を効率よく浄化することができる触媒、それを用いた浄化方法、及び、前記触媒を備える装置等を提供すること。
【解決手段】酸化セリウムが10〜30重量%、酸化タングステンが5〜14重量%それぞれ含まれているタングステン、ジルコニウム、及びセリウムからなる複合金属酸化物は、耐熱性に優れ、アンモニアの存在下で窒素酸化物を効率よく浄化することができる。従って、酸化タングステン、酸化ジルコニウム、及び酸化セリウムからなる複合金属酸化物を含み、前記酸化セリウムを10〜30重量%、前記酸化タングステンを5〜14重量%含む触媒は、窒素酸化物の浄化に有用である。
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メタノールからの低級オレフィンの製造過程における再生熱の回収方法
本発明は、流動床プロセスによるメタノールからの低級オレフィンの製造過程において、再生熱を回収する方法を提供する。この方法において、再生後の高温触媒を、メタノールに接する前に分解反応吸熱領域に導入して、この吸熱領域内で炭化水素に接触させ、該炭化水素の分解反応により、再生後の触媒が有する熱を回収し、触媒の温度をメタノールの転化に必要する温度までに下降させる。 (もっと読む)
イミダゾリン配位子及びそれを用いた触媒
【課題】新規でより収率の高い触媒及びそれに用いられる配位子を提供すること。
【解決手段】
下記式(1)で示される配位子とする。
(ここでR1、R2は、水素、アルキル基、フェニル基、若しくはナフチル基である(R1とR2は、結合を介して環を形成しても良い)。R3は、水素、トシル基、メシル基又はアルキル基である。R4は水素、アルキル基、又はフェニル基である。R5は水素、アルキル基、フェニル基、ハロゲン基、ニトロ基、アルコキシル基の少なくともいずれかであり、複数置換されていても良い。)
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酸化珪素膜で被覆された光触媒を含有する無機硬化体
【課題】 従来の光触媒を使用した場合と比較し、光触媒活性の高い、すなわち、有害物質の除去性能及び浄化性能に優れる無機硬化体を提供すること。
【解決手段】 光触媒活性を有する基体と、
該基体を被覆する、実質的に細孔を有しない酸化珪素膜とを有し、
アルカリ金属含有量が1ppm以上1000ppm以下である、光触媒を含有することを特徴とする無機硬化体を製造する。
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酸化珪素膜で被覆された光触媒を含む抗菌消臭噴霧液
【課題】 脱臭、抗菌作用等という要求を満足できる光触媒機能を保持しながら、光触媒と接触するバインダー、樹脂板や繊維等の有機重合体でできた基材の分解、劣化を抑制した光触媒を含有した抗菌消臭噴霧液を提供する。
【解決手段】 光触媒活性を有する基体と、該基体を被覆する、実質的に細孔を有さない酸化珪素膜とを有しアルカリ金属含有量が1ppm以上、1000ppm以下である光触媒を使用する。
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ミクロ孔及びメソ孔の構造を有するSAPO−34分子篩及びその合成方法
本発明は、メソ孔の口径範囲が2〜10nmであり、メソ孔容積が0.03〜0.3cm3/gである、ミクロ孔及びメソ孔構造を同時に有するSAPO−34分子篩及びその合成方法に関する。前記合成方法においては、トリエチルアミンをテンプレートとして用いるとともに合成ゲル中に孔道調節剤を添加することにより、製造される分子篩結晶粒中にミクロ孔の以外に、メソ孔分布も存在するようにした。本発明により合成されるSAPO−34分子篩は、酸素含有化合物の低炭素オレフィンへの転化反応において触媒として用いられる。 (もっと読む)
水素貯蔵材料の製造方法
【課題】水素放出温度の低い水素貯蔵材料の製造方法を提供する。
【解決手段】MgH2と金属Mgのいずれか一方または両方とLiNH2とを、MgとLiのモル比がMg:Li=1:1.2〜2.4となるように秤量し、さらにこれにLiHを加えたときの全体のMgとLiのモル比がMg:Li=1:2.2〜6となるようにLiHを秤量し、これらを粉砕混合する。次いで、この混合粉砕処理により得られた試料を、水素雰囲気下において所定温度に加熱し、所定時間保持することで、水素貯蔵材料を得る。好ましくは、この加熱処理によって得られる試料をさらに粉砕混合する。
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水素リッチなオレフィン含有気体混合物から酸素、酸化窒素、アセチレン及び/又はジエンを除去する方法
本発明は、酸素、酸化窒素、アセチレン及びジエンからなる群から選択される少なくとも1種の成分と、更には水素と、ジエンではない1種以上のオレフィンと、必要により他の気体成分とを含む気体混合物から少なくとも1種の成分を除去する方法であって、気体混合物を、反応領域において、硫化銅(I)を含む触媒と接触させることを特徴とする除去方法に関する。 (もっと読む)
光触媒含有体
【課題】光触媒内における電子・正孔の再結合速度を遅くする。
【解決手段】平面的形状の結晶粒子と立体的形状の結晶粒子とが結合している。前記各粒子のいずれかは、赤外線、可視光線、又は紫外線が照射された場合に触媒作用が得られる。前記各粒子の平均サイズが同じである。塗布乾燥後の光触媒の気孔率が50%以下である。
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