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Fターム[4G169AA02]の内容

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Fターム[4G169AA02]に分類される特許

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【課題】低コストで効率的に炭化水素油を軽質化することができる炭化水素油分解用触媒および炭化水素油の分解方法を提供する。
【解決手段】水の存在下で炭化水素油を分解する際に用いられ、ペロブスカイト型構造の酸化物または擬ブルッカイト型構造の酸化物、或いは、それらの混合物からなることを特徴とする炭化水素油分解用触媒である。また、水の存在下で、炭化水素油と、炭化水素油分解用触媒とを接触させて、炭化水素油を分解することを特徴とする炭化水素油の分解方法である。 (もっと読む)


【課題】比較的穏和な条件下で反応を行っても、目的とする環状トリチオカーボネートを高収率で製造することができ、種々の反応基質にも適用できる当該環状トリチオカーボネートの製造方法を提供する。
【解決手段】(1)エピスルフィド(チイラン)と二硫化炭素とを、第二級又は第三級アミン性基で修飾されたシリカ触媒の存在下で反応させることを特徴とする、環状トリチオカーボネートの製造方法、(2)エポキシド(オキシラン)と、チオ尿素とチオシアン酸アンモニウムとから選ばれる少なくとも一方とを反応させてエピスルフィド(チイラン)を得る第1の工程と、上記エピスルフィド(チイラン)と二硫化炭素とを、第二級又は第三級アミン性基で修飾されたシリカ触媒の存在下で反応させる第2の工程と、を含んでなり、上記第1の工程と上記第2の工程とが、連続的に行われることを特徴とする、環状トリチオカーボネートの製造方法、並びに(3)第二級又は第三級アミン性基で修飾されたシリカを含有する、エピスルフィド(チイラン)と二硫化炭素とを反応させることにより、環状トリチオカーボネートを製造する際に用いられる触媒。 (もっと読む)


【課題】本発明は、NOxの浄化性能に優れ、ハニカムユニットに水が吸着又はハニカムユニットに吸着した水が脱離しても、ハニカムユニットが収縮又は膨張することによる破損を抑制することが可能なハニカム構造体及び該ハニカム構造体を有する排ガス浄化装置を提供することを目的とする。
【解決手段】ハニカム構造体10は、β型ゼオライト、リン酸塩系ゼオライト及び無機バインダを含み、複数の貫通孔が隔壁を隔てて長手方向に並設されているハニカムユニット11を有し、β型ゼオライトは、二次粒子の平均粒径が0.5μm以上5μm以下であり、リン酸塩系ゼオライトは、一次粒子の平均粒径が0.5μm以上5μm以下であり、β型ゼオライト及びリン酸塩系ゼオライトの総質量に対するリン酸塩系ゼオライトの質量の比が5%以上35%以下である。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、触媒担体や吸着剤の基材として、イオン交換サイト数や固体酸量の観点からAl含有量が高く、かつ高い耐久性及び耐熱性を有するチャバザイト型ゼオライト及びその製造方法を提供することを目的としている。更に本発明は、銅が担持されている新規なチャバサイト型ゼオライトを提供する。
【解決手段】
本発明のチャバザイト型ゼオライトは、SiO/Alモル比が15未満であって、平均粒子径が1.0μm以上8.0μm以下である。本発明のチャバザイト型ゼオライトは、耐久性及び耐熱性に優れ、また、銅が担持されているチャバザイト型ゼオライトは、従来の銅が担持されているチャバザイト型ゼオライトに比べて、低温での窒素酸化物の還元率が向上した。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、土壌又は地下水中に含まれる脂肪族有機ハロゲン化合物、芳香族有機ハロゲン化合物、重金属等を効率よく、持続的に、しかも経済的に分解・不溶化できる浄化剤を提供するものである。
【解決手段】 土壌・地下水の浄化処理に用いる浄化剤であって、該浄化剤はα−Feとマグネタイトとからなる鉄複合粒子を含有する水懸濁液を凍結させた固形物であって、前記鉄複合粒子は平均粒子径が0.05〜0.50μmであってS含有量が3500〜10000ppmであってAl含有量が0.10〜1.50重量%である土壌・地下水浄化処理用浄化剤である。 (もっと読む)


【課題】コンクリートから発生するアンモニアガスを抑制する有効な方法を提供する。
【解決手段】コンクリートからなる基材の表面に下塗層、及びアクリル系樹脂層を順次配設するコンクリートからのアンモニアガス放散の抑制方法であって、前記アクリル系樹脂層は、アクリル系樹脂と、架橋剤と、水膨潤性合成無機層状珪酸塩とを含有するアクリル系樹脂組成物を用いて形成され、前記水膨潤性合成無機層状珪酸塩の含有量は、前記アクリル系樹脂の質量を100質量部としたときに、1〜50質量部であることを特徴とするコンクリートからのアンモニアガス放散の抑制方法。 (もっと読む)


【課題】洗浄水や硫酸を活性炭層から速やかに排出できる排気脱硫装置を提供する。
【解決手段】二酸化硫黄と酸素と水とを反応させて硫酸を生成する活性炭層20と、活性炭層20に洗浄水を供給する洗浄水供給手段41〜46と、硫酸回収管60とを備え、硫酸回収管60は、活性炭層20内に設けられ、活性炭層20に含まれる洗浄水や硫酸を回収し、排出するものである。活性炭層20から洗浄水や硫酸を速やかに排出できる。活性炭層20から短時間で洗浄水や硫酸を洗い出すことができ排気ガス処理能力が高い。活性炭層20を通る排気ガスの流量を保つことができ、排気ガス処理能力の低下を防止することができる。 (もっと読む)


【課題】低圧条件でhBNからcBNを合成する低圧合成方法及びcBN原料粉末を用いたcBN焼結体の製造方法を提供する。
【解決手段】金属触媒として、CrおよびMoのいずれか1種又は2種を、Cr:10〜55質量%、Mo:10〜50質量%、(Cr+Mo):10〜50質量%の範囲内において含有するとともに、V:1〜50質量%、Al:1.5〜8質量%を含有し、残部はFe、NiおよびCoのいずれか1種又は2種以上の成分組成からなる合金粉末あるいは混合粉末を用いて、低圧(4GPa以上)かつ1200〜1700℃でhBNからcBNを合成し、また、cBNを原料粉末とし、金属触媒として用いた上記合金粉末あるいは混合粉末を焼結助剤として原料粉末に含有させて焼結し、cBN焼結体を得る。 (もっと読む)


【課題】目的生成物を高収率で製造できる触媒の製造方法を提供する。
【解決手段】触媒成分の原料化合物を含む混合溶液又はスラリーを乾燥して乾燥物を製造する工程と、前記乾燥物の一部又は全部と液体と有機バインダーとを混練りして混練り物Aを製造する工程と、前記乾燥物の残り又は他の乾燥物と液体と有機バインダーと前記混練り物Aとを混練りして混練り物Bを製造する工程と、前記混練り物Bを押出し成形して触媒成形体を製造する工程と、前記触媒成形体を乾燥する工程と、を含む触媒の製造方法。 (もっと読む)


【課題】本発明は、窒素酸化物を高効率で除去する事ができる。また、窒素酸化物を高効率で除去しながら、SO発生による配管腐食などの問題を解消するものである。
【解決手段】本発明は、チタン酸化物およびバナジウム酸化物を含む脱硝触媒であって、当該触媒をX線光電子分光法によって測定したとき、触媒表面のバナジウム量が、触媒内部のバナジウム量に比べ1.1〜3.0倍であることを特徴とする脱硝触媒である。また、当該触媒を用いた排ガスの脱硝方法である。 (もっと読む)


【課題】イオン性不純物の分離効率に優れ、濾過膜への負荷及び洗浄水の使用量を低減することができる微粒子の精製方法であって、イオン性不純物の含有量が著しく低減され、且つ、高分散性を有する微粒子を簡便且つ効率よく得ることができる微粒子の精製方法を提供する。
【解決手段】本発明の微粒子の精製方法は、微粒子中に含まれるイオン性不純物を分離除去する微粒子の精製方法であって、微粒子濃度が0.1〜40重量%の微粒子水分散液をクロスフロー方式により膜濾過し、イオン性不純物を透過液と共に分離除去して濃縮された微粒子水分散液を得、該濃縮された微粒子水分散液に水を加えて、微粒子濃度が上記範囲となるように希釈し、再びクロスフロー方式により膜濾過する操作を繰り返す循環膜濾過方式により微粒子を精製すると共に、定期的に濾過膜を逆洗浄することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、高価な貴金属を少量しか用いず、触媒の材料コストを低減するとともに、熱凝集に伴う触媒活性の低下を抑制することができる金属触媒構造体及びその製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】空洞部25cと、空洞部25cに連通する孔部22とが設けられた殻状体25からなり、空洞部25cの内表面に高触媒活性の遷移金属又はその合金からなる触媒活性層23が設けられている金属触媒構造体11を用いることによって前記課題を解決できる。 (もっと読む)


【課題】
ナフタレンとアルキル化成分を、アルキル化触媒を用いてアルキル化しアルキルナフタレンを製造する際、ナフタレン原料に含まれる触媒毒を、反応前の簡便な方法により無毒化することにより、高いアルキル化反応を実現する製造方法を提供する。
【解決手段】
触媒毒を含むナフタレンにアルキル化触媒を添加する前に、酸性吸着剤を添加することにより窒素化合物の触媒毒を吸着除去し、アルキル化触媒の被毒を未然に防止して高いアルキル化反応を実現させる。 (もっと読む)


【課題】酸が触媒として作用し、水が生成する有機化合物の反応において、高い反応比表面積と親水性と疎水性の複合した表面性状による高活性の反応場を与え、水が触媒の反応活性を低下せしめる影響を抑え、転化率を向上、維持し、後処理工程での精製に消費するエネルギーを軽減することを可能とする固体酸触媒と、該固体酸触媒を用いた反応器を提供する。
【解決手段】スルフォン酸基を含む荷電性ポリマーと非荷電性ポリマーの混合物を電界紡糸した繊維よりなる不織布状の固体酸触媒。この固体酸触媒をスペーサと積層して巻回してなる固体酸触媒反応器。 (もっと読む)


【課題】光触媒を用いて被処理空気中の有害ガス成分を効果的に低減し、且つ、有害ガス成分の分解過程で生成される高揮発性有機物の再放出をも抑制することができる有害物質除去装置を提供する。
【解決手段】有害物質除去装置1は、有害ガス成分を含む被処理空気が流れる経路中に配置された前段処理部2と、前段処理部2の下流側に配置された後段処理部3を備え、前段処理部は、被処理空気中の有害ガス成分を吸着する多孔質吸着剤12と、光触媒13と、光触媒に紫外線を照射する紫外線照射ランプ8を有し、後段処理部は、前段処理部により処理された被処理空気と水を接触させる気液接触部16と、気液接触部にて被処理空気と接触した水を電気化学的に処理する電極21を備えた電解処理部17を有する。 (もっと読む)


【課題】 酸化効率を向上させることにより小型化を可能としつつ、長期にわたって性能を発揮することが可能な水質分析用の酸化装置を提供する。
【解決手段】 有機物、窒素化合物またはリン化合物を有する試料液中のTOC、全窒素、および全リンの含有量を分析するための水質分析用酸化装置であり、前記試料液が一方向に流動する反応容器内に、185nm及び254nmの波長の紫外線を発する紫外線ランプと、光触媒機能を有する繊維からなる不織布の成形体とを有し、前記試料水が前記光源からの光の照射下、前記成形体を通過するように構成されており、前記有機物、窒素化合物またはリン化合物が酸化される機能を有する水質分析用酸化装置。 (もっと読む)


【課題】反応速度を速くできる酸化チタン粒子を提供する。
【解決手段】酸化チタン粒子10は、アモルファス相1と、多結晶相2と、TiZrOとを備える。アモルファス相1および多結晶相2の各々は、TiOからなる。そして、アモルファス相1は、欠陥を有する。酸化チタン粒子10は、ジルコニアからなる粉砕ボールと、多結晶からなる酸化チタンと、メタノールとを粉砕容器に入れ、粉砕容器を自転および公転させて酸化チタンを粉砕することによって製造される。製造された酸化チタン粒子10の粒径は、約400nmである。酸化チタン粒子10をメチレンブルー水溶液の脱色反応における光触媒として用いた場合、アモルファス相1に含まれる欠陥を介してメンチレンブルー水溶液の還元反応が促進される。そして、酸化チタン粒子10を光触媒として場合ときの脱色反応の反応速度は、従来の酸化チタンに比べ、約132倍になる。 (もっと読む)


【課題】 被処理ガスと触媒との接触面積の不足や、被処理ガスが触媒に接触する際の触媒自体の温度の不足を補うとともに、温度を上昇させた際の線状もしくはコイル状の触媒の断線を防止し、分解効率、応答特性及び耐久性の点で優れるガス分解素子を提供する。
【解決手段】連続気孔を有する金属多孔体を備えたガス分解素子であって、金属多孔体は、一体的に連続した三次元網目構造を有し、金属多孔体は、少なくともNiとCrとを含む合金からなり、合金に占めるCrの比率が25wt%以上32wt%以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】炭化水素(HC)を選択的に酸化することができる炭化水素選択酸化触媒及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】炭化水素を選択的に酸化する炭化水素選択酸化触媒1及びその製造方法である。炭化水素選択酸化触媒1は、3d遷移金属の酸化物2と5価又は6価の遷移金属の酸化物3、又は3d遷移金属の酸化物の3d遷移金属の一部に5価又は6価の遷移金属が置換固溶してなる固溶体4を含有する。炭化水素選択酸化触媒の製造にあたっては、溶解工程と水溶液乾燥焼成工程とを行う。溶解工程においては、3d遷移金属の塩と、5価又は6価の遷移金属の塩とを水に溶解させて遷移金属水溶液を得る。水溶液乾燥焼成工程においては、遷移金属水溶液を乾燥させ、焼成する。 (もっと読む)


【課題】メタクリル酸の製造に使用された使用済触媒の触媒活性および触媒寿命を効果的に回復させることのできるメタクリル酸製造用触媒の再生方法と、この方法により得られた再生触媒を用いて、良好な転化率、選択率でメタクリル酸を製造する方法とを提供する。
【解決手段】リン及びモリブデンを含むヘテロポリ酸化合物からなるメタクリル酸製造用触媒の再生方法であって、メタクリル酸の製造に使用された使用済触媒、アンモニウム根、硝酸根及び水を含む水性スラリーを乾燥して触媒前駆体を得、該触媒前駆体を0.1容量%以上2.0容量%未満の水分を含む酸化性ガスの雰囲気下に360〜410℃で第一段焼成した後、非酸化性ガスの雰囲気下に420〜500℃で第二段焼成する。 (もっと読む)


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