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Fターム[4G169AA10]の内容

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Fターム[4G169AA10]に分類される特許

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【課題】結晶性の高い良質なグラフェンを、極力低い温度で効率よく成長させる方法を提供する。
【解決手段】グラフェンの成長に先立ち、前処理を行う。前処理は、排気装置99を作動させて処理容器1内を減圧排気しながら、シャワーリング57から処理容器1内に希ガスを導入するとともに、シャワープレート59から処理容器1内に還元性ガス及び窒素含有ガスをそれぞれ導入する。この状態で、マイクロ波発生部35で発生したマイクロ波を、導波管47及び同軸導波管49を介して所定のモードで平面アンテナ33に導き、平面アンテナ33のマイクロ波放射孔33a、透過板39を介して処理容器1内に導入する。このマイクロ波により、還元性ガス及び窒素含有ガスをプラズマ化し、ウエハW表面の触媒金属層に活性化処理を施す。 (もっと読む)


【課題】低濃度から高濃度のパラジウムイオンを含有する溶液から短時間で、且つ、高選択率でパラジウムイオンが分離できるパラジウム分離剤、及びパラジウムの分離方法を提供する。
【解決手段】一般式(1)で示される官能基が担体に結合しているパラジウム分離剤を用いる。


(1)(式中、Rは炭素数1〜18の鎖式炭化水素基、炭素数3〜10の脂環式炭化水素基、炭素数6〜14の芳香族炭化水素基、カルボキシメチル基、又はカルボキシエチル基を表し、nは1〜4の整数を表す。Zはアミド結合を表す。) (もっと読む)


【課題】
パラジウム化合物、還元性基を有する化合物(例えば、アミン化合物)および溶媒を含有する溶液から、還元性基を有する化合物の酸化を伴わず、安全、簡便、且つ効率的にパラジウム化合物を除去する方法を提供する。
【解決手段】
パラジウム化合物、還元性基を有する化合物(例えば、アミン化合物)および溶媒を含有する溶液と特定のゼオライトとを接触させることにより、当該溶液中のパラジウム化合物を効率よく除去することができる。 (もっと読む)


【課題】使用済みエチレンオキシド製造用触媒を利用し、再度、高効率、高選択率でエチレンオキシドを製造するためのエチレンオキシド製造用触媒の製造方法、使用済み触媒を再利用して得られた該エチレンオキシド製造用触媒を用いて、エチレンオキシドを高選択率で製造しうるエチレンオキシド製造方法を提供する。
【解決手段】使用済み触媒から回収した担体に銀および促進剤等の触媒活性元素を担持した触媒で、新鮮な担体を用いた触媒よりも初期選択率が高く、高効率、高選択率でエチレンオキシドを製造するための触媒である。 (もっと読む)


【課題】脱硝触媒に付着したシリカ等の阻害要因を除去する脱硝触媒のSO2酸化率上昇低減方法を提供する。
【解決手段】燃焼排ガス中の窒素酸化物除去に用いられている脱硝触媒において、SO2酸化率の上昇要因の阻害物質であるシリカ(Si)成分が、その触媒表面に蓄積した場合、触媒表面に蓄積したシリカ成分を溶解し、触媒を再生させる。これにより、脱硝触媒の表面を覆うシリカ成分等の阻害物質を除去でき、再生脱硝触媒のSO2酸化率の上昇がない、触媒を提供できる。 (もっと読む)


【課題】3−ヒドロキシカルボン酸又はそのエステルの脱水用触媒上に付着した炭素状物質を除去する触媒の再生方法、及び、長期間にわたり安定的に(メタ)アクリル酸又はそのエステルを製造する方法を提供する。
【解決手段】3−ヒドロキシカルボン酸又はそのエステルの脱水用触媒上の炭素状物質を除去することによって触媒を再生する方法であって、該再生方法は、脱水用触媒に酸化剤を接触させて炭素状物質を除去することを特徴とする3−ヒドロキシカルボン酸又はそのエステルの脱水用触媒の再生方法。また、上記3−ヒドロキシカルボン酸又はそのエステルの脱水用触媒の再生方法を含むことを特徴とする(メタ)アクリル酸又はそのエステルの製造方法。 (もっと読む)


【課題】廃CMB触媒からコバルト及びマンガンを選択的に回収した抽出液を使用してCo−Mn−CH3COOH(CMA)液状触媒を製造する方法を提供する。
【解決手段】(a)廃CMB触媒試料に硫酸を添加して浸出させるステップ、(b)上記(a)ステップの浸出液を濾過して1段浸出液を収得するステップ、(c)上記1段浸出液に新しい廃CMB触媒試料を添加して浸出させるステップ、(d)上記(c)ステップの浸出液を濾過して2段浸出液を収得するステップ、(e)上記(d)ステップの2段浸出液に溶媒を加えて抽出するステップ、及び(f)上記(e)ステップで収得した抽出液に対してCHCOOH溶液を添加し、逆抽出してCo−Mn−CHCOOH脱去溶液を収得するステップを含む廃CMB触媒からCo−Mn−CHCOOH液状触媒を製造する。 (もっと読む)


【課題】性能が高く、硫化処理時及び触媒使用時において触媒活性の低下の少ない良好な使用済みの水素化処理触媒の再生方法を提供する。
【解決手段】水素化処理触媒の再生方法では、第1工程にて使用済みの水素化処理触媒を酸素が存在する雰囲気中で焼成して焼成触媒を得た後、第2工程では焼成触媒をキレート剤と水分とを含むキレート剤含有水溶液に含浸させて含浸触媒を得る。第3工程では、含浸触媒について、下記(1)式で計算される前記キレート剤含有水溶液の含液量を50%以上の状態に保ちながら、80℃以上150℃以下で熟成させて、熟成触媒を得た後、第4工程では熟成触媒を、300℃以下で乾燥させて再生触媒を得る。
含液量[%]={(W2−W1)/W1}×100・・・(1)
但し、W1は、第3工程終了後の水素化処理触媒を500℃で乾燥させた後の触媒の質量であり、W2は、第3工程終了時の触媒の質量である。 (もっと読む)


【課題】多成分混合溶解液などの溶液への溶解性が高い易溶解性三酸化モリブデンを提供する。
【解決手段】酸化物、硝酸塩、硫酸塩、炭酸塩および無機複合酸塩からなる群より選ばれた少なくとも1種の金属化合物および/または有機酸化合物とともに溶媒に溶解して多成分混合溶解液を形成した場合において、該多成分混合溶解液が高清澄度である。溶解性が高いので、例えば、脱硫触媒等の製造などに使用される多成分混合溶解液の原料として使用すれば、本発明の易溶解性三酸化モリブデンを高濃度で添加しても多成分混合溶解液に溶解させることができる。したがって、多成分混合溶解液における各成分を広い範囲の調整することが可能となり、各成分が所定の割合となった溶解液を簡単に形成することができる。 (もっと読む)


【課題】燃料である炭化水素系化合物に含まれる硫黄含有化合物による被毒、燃料電池システムの稼動停止の繰り返しでの温度や雰囲気変化による触媒成分変質や炭素析出に対して長期耐久性を有する非貴金属系の水蒸気改質触媒、および該触媒を用いた水素製造方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、炭化水素系化合物の改質により水素を製造する水蒸気改質触媒であって、ニッケルが酸化セリウム上に分散担持されている触媒組成物をハニカム担体に被覆してなり、触媒組成物における酸化アルミナの含有率が20質量%未満であることを特徴とする水蒸気改質触媒である。 (もっと読む)


【課題】一層脱硫活性に優れた炭化水素油の水素化処理触媒を提供するために、使用済み水素化処理触媒の脱硫活性を一層十分に復活できる再生方法を提供すること。
【解決手段】炭化水素油の水素化処理に使用して活性の低下した使用済みの、周期律表第6族金属、周期律表第8族金属、及びリンを担持した水素化処理触媒を、
油分除去処理する工程、
400〜550℃で焼成する工程、
その焼成物に、有機物を、〔有機物〕/〔周期律表第8族金属〕のモル比率が0.2〜1.2となるように、前記有機物の溶液を用いて、担持させる工程、
及び担持後の焼成物を200℃以下で乾燥させる工程を含む炭化水素油の水素化処理触媒の再生方法。 (もっと読む)


【課題】チタノシリケート含有触媒と併用することにより、酸素、水素及びオレフィンからアルキレンオキサイドを製造するための反応において、結果としてアルキレンオキサイドの高い生成量を与えるような製造方法及びそれに用いられる新たな触媒等を提供すること。
【解決手段】パラジウムと担体とを含むパラジウム含有組成物を、アセチレン、エチレンおよび一酸化炭素からなる群から選ばれる化合物と接触させて得られる、含炭素ガス処理されたパラジウム含有触媒と、チタノシリケート含有触媒との存在下において、酸素、水素及びオレフィンを反応させる工程を含むことを特徴とするアルキレンオキサイドの製造方法、及び、それに用いられる含炭素ガス処理されたパラジウム含有触媒等。 (もっと読む)


【課題】メタクリル酸の製造に使用された使用済触媒の触媒活性及び触媒寿命を良好に回復させることができるメタクリル酸製造用触媒の再生方法、及びこの方法により得られた再生触媒を用いて、メタクリル酸を製造する方法を提供する。
【解決手段】リンと、モリブデンと、銅とを含むヘテロポリ酸化合物からなるメタクリル酸製造用触媒の再生方法であって、使用済触媒、硝酸根、アンモニウム根及び水を混合し、モリブデンに対する銅の原子比が所定割合である水性スラリーAを得る工程(1)と、モリブデンに対する銅の原子比が所定割合である水性スラリーBを得る工程(2)と、工程(1)で得られた水性スラリーAと工程(2)で得られた水性スラリーBとを混合して得られた水性スラリーCを、乾燥、焼成する工程(3)とを含み、ヘテロポリ酸化合物におけるモリブデンに対する銅の原子比が0.05/12〜0.25/12であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】二酸化チタンの分散触媒を用いた水処理装置において、水中の有機不純物を分解する光触媒反応の効率と、ハイドロサイクロンによる固液分離の効率を両立させること。
【解決手段】二酸化チタン超微粒子23は石英から成る担持微粒子21の表面上に固定化することにより複合化されているため、ハイドロサイクロンを用いて複合化二酸化チタンの大部分を水中から再利用できる形で回収することができる。 (もっと読む)


【課題】活性低下までの運転時間を長くするアルキル化プロセス用固体酸触媒を提供する。
【解決手段】アルキル化プロセスに用いられる固体酸触媒が記載されている。固体酸触媒は、水素の存在下で触媒の再活性化(または再生)のための水素化機能を果たす多元金属(例えば二元金属、三元金属または四元金属)成分を含む。多元金属触媒は、白金またはパラジウムなどの貴金属を含む。本発明は、水素化のための多元金属成分を有する多元金属固体酸触媒を用いるアルキル化プロセスにも関する。 (もっと読む)


【課題】アンモニア分解反応に使用することで劣化した場合に、再度、触媒性能を再生できるアンモニア分解用触媒を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のアンモニア分解用触媒は、希土類、アルカリ金属及びアルカリ土類金属よりなる群から選ばれる少なくとも一種の元素(A成分)の酸化物と、Co、Ni及びFeよりなる群から選ばれる少なくとも一種の元素(B成分)の金属微粒子とを含有する触媒であって、前記A成分と前記B成分とで形成されるペロブスカイト構造を有する酸化物を、還元処理して得られたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】Cuを含むNOx浄化触媒のCu粒子の凝集に起因するNOx浄化性能の低下を抑制することができる内燃機関の排気浄化装置を提供する。
【解決手段】内燃機関の排気通路内に配置されたNOx浄化触媒と、NOx浄化触媒の劣化度合を推定するための劣化度合推定手段と、NOx浄化触媒に流入する排気ガスの空燃比を制御するための空燃比制御手段とを備え、劣化度合推定手段によって推定されるNOx浄化触媒の劣化度合が所定の劣化度合に達するまでは、空燃比制御手段によってNOx浄化触媒に流入する排気ガスの空燃比をリッチな空燃比に制御し、劣化度合推定手段によって推定されるNOx浄化触媒の劣化度合が所定の劣化度合を超えた場合には、空燃比制御手段によってNOx浄化触媒に流入する排気ガスの空燃比をリッチな空燃比からリーンな空燃比に切り換えることでNOx浄化触媒の再生処理を行うようにした内燃機関の排気浄化装置が提供される。 (もっと読む)


【課題】多環芳香族炭化水素を含む原料油から高い収率で炭素数6〜8の単環芳香族炭化水素を製造できる、単環芳香族炭化水素の製造方法を提供する。
【解決手段】原料油を触媒に接触、反応させて生成物を得る分解改質反応工程と、分解改質反応工程から導出される、生成物とこれに同伴される触媒とからなる混合物から、触媒を生成物中に含まれる3環芳香族炭化水素とともに分離除去する触媒分離工程と、触媒分離工程から導出された導出物より少なくとも炭素数6〜8の単環芳香族炭化水素と炭素数9以上の重質留分とを分離する分離工程と、分離工程で分離された炭素数6〜8の単環芳香族炭化水素を精製し、回収する精製回収工程と、分離工程で分離された炭素数9以上の重質留分を前記分解改質反応工程に戻すリサイクル工程と、を有する。 (もっと読む)


【課題】装置規模をコンパクトにするとともに制御も容易にした、触媒再生方法および触媒再生装置を提供する。
【解決手段】芳香族製造触媒を再生する触媒再生方法である。仕切り壁22によって底部側を低温ゾーン23と高温ゾーン24とに区画した単段式の触媒再生器21の低温ゾーン23に、廃触媒Cを導入する廃触媒導入工程と、低温ゾーン23に酸素含有ガスを供給し、廃触媒のコーク中の水素分を燃焼させる第1燃焼工程と、第1燃焼工程を経た廃触媒Cを低温ゾーン23から高温ゾーン24にオーバーフローさせるオーバーフロー工程と、高温ゾーン24に酸素含有ガスを供給し、廃触媒Cのコーク中の炭素分を燃焼させて二酸化炭素にする第2燃焼工程と、第2燃焼工程を経た再生触媒を高温ゾーン24から導出する再生触媒導出工程と、を備える。 (もっと読む)


【課題】貯蔵槽内の抜き出し口を閉塞することなく、劣化したメタクリル酸製造用触媒のスラリーを、効率よく次の工程に送液する方法を提供すること。
【解決手段】リンおよびモリブデンを含むヘテロポリ酸化合物からなる劣化したメタクリル酸製造用触媒のスラリーの送液方法であって、劣化した前記触媒を350℃以上の温度で熱処理し、得られた熱処理物、水、硝酸根およびアンモニウム根からなるスラリーを貯蔵槽に貯蔵し、貯蔵槽から前記スラリーを次の工程に送液する際に、前記貯蔵槽内における前記スラリーの抜き出し口近傍の流速を0.16m/秒以上に保持する。 (もっと読む)


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