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Fターム[4G169DA06]の内容

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Fターム[4G169DA06]に分類される特許

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【課題】酸素吸蔵常温酸化触媒及び水素等に含まれるCO除去方法を得る。
【解決手段】水素に含まれる一酸化炭素を常温において酸化するための酸素吸蔵常温酸化触媒であって、前記酸素吸蔵常温酸化触媒が、Al23等の高比表面積担体を含まず、水に対して分散剤としてポリビニルピロリドンを加えて溶解させて製造したPt担持のセリウム−ジルコニウム−ビスマス複合酸化物からなる酸素吸蔵常温酸化触媒、その製造方法及び前記酸素吸蔵常温酸化触媒による水素または水素を主成分とするガス、あるいはガス消費機器などから廃棄されるガスに含まれる一酸化炭素を常温において酸化除去する方法。 (もっと読む)


【課題】低圧条件下において高収率でアンモニアを製造できる組成物、及び該組成物を用いたアンモニア製造方法の提供。
【解決手段】(1)ルテニウム、ルテニウムを含む合金又はルテニウムを含む化合物、(2)ランタノイドを含む化合物、並びに、(3)塩基性助触媒及び/又は多孔性金属錯体を配合した組成物;前記ランタノイドを含む化合物は、ランタノイド酸化物であることが好ましい;前記塩基性助触媒は、アルカリ金属酸化物、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属酸化物又はアルカリ土類金属水酸化物であることが好ましい;前記多孔性金属錯体が、亜鉛、銅、マグネシウム、アルミニウム、マンガン、鉄、コバルト及びニッケルからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属を有することが好ましい;前記組成物を触媒として用いて、窒素と水素とを反応させてアンモニアを製造する方法。 (もっと読む)


【課題】排ガス浄化性能の向上を図ることができる排ガス浄化システムおよび排ガス浄化方法を提供すること。
【解決手段】排ガス浄化用システム1に、導通開始温度を有する排ガス浄化用触媒2と、排ガス浄化用触媒2に電圧を印加する電圧印加装置4と、導通開始温度から、導通開始温度+500℃の温度範囲において、電圧印加装置4を作動させる制御ユニット6とを備える。そして、導通開始温度を有する排ガス浄化用触媒2に、導通開始温度から、前記導通開始温度+500℃の温度範囲において、電圧印加装置4によって電圧を印加する。 (もっと読む)


【課題】低加湿又は無加湿の条件下でより高い出力を安定的に発揮可能な燃料電池を提供する。
【解決手段】本発明の燃料電池用触媒層の製造方法は、担体1を陽イオン官能基で修飾して第1修飾体を作製する第1修飾工程と、第1修飾体を酸性官能基及び酸性イオンで修飾して第2修飾体を作製する第2修飾工程と、親水性を有する修飾基で第2修飾体を修飾して処理済み触媒を作製する触媒修飾工程と、処理済み触媒を水とともに混合してプレペーストを調製するプレペースト調製工程と、プレペーストを高分子電解質の溶液とともに混合して触媒ペーストを調製する触媒ペースト調製工程とを備えている。 (もっと読む)


【課題】安定性に優れた、特定の金属原子と多孔性金属錯体とを配合した組成物、及び、該組成物を用いたアンモニア製造方法を提供する。
【解決手段】(1)及び(2)を配合した組成物、及び、該組成物を触媒として用いて、窒素と水素とを反応させてアンモニアを製造する方法。(1)スカンジウム、チタン、バナジウム、クロム、マンガン、コバルト、銅、イットリウム、ジルコニウム、ニオブ、モリブデン、テクネチウム、ルテニウム、ロジウム、銀、ハフニウム、タンタル、タングステン、レニウム、オスミウム及びイリジウムからなる群から選ばれる少なくとも1種の金属、該金属を含む合金又は該金属を含む化合物。(2)1atmのアンモニア存在下で、200℃にて構造崩壊を起こさない多孔性金属錯体。 (もっと読む)


【課題】一酸化炭素(CO)、炭化水素(HC)および窒素酸化物(NO)、とりわけ、炭化水素(HC)を効率よく浄化することができる排ガス浄化用触媒を提供すること。
【解決手段】排ガス浄化用触媒に、ニッケルおよび銅からなる合金を含ませる。このような排ガス浄化用触媒は、銅の含有割合が20モル%を超過し80モル%未満である合金を含むので、とりわけ、炭化水素(HC)および窒素酸化物(NO)を効率よく浄化することができる。 (もっと読む)


【課題】 酸素過剰雰囲気下であっても十分に高い触媒活性を有する排ガス浄化用触媒を得ることができる排ガス浄化用触媒担体を提供すること。
【解決手段】 Al、Ti、Zr及びCeからなる群から選択される少なくとも1種の元素を含む酸化物からなる多孔質体(A)と、前記多孔質体(A)に担持されている、Ti、Fe及びAlからなる群から選択される少なくとも1種の添加元素を含むSi系複合酸化物粒子(B)とを備えており、
800℃で空気中において5時間焼成後の比表面積が100m/g以上であり且つ前記焼成後の細孔半径1〜5nmの細孔の細孔容積の割合が細孔半径1〜100nmの細孔の細孔容積に対して8〜50%であること、
を特徴とする排ガス浄化用触媒担体。 (もっと読む)


【課題】大面積のグラフェンを高品質かつ低コストで生産可能なグラフェン製造用銅箔及びそれを用いたグラフェンの製造方法を提供する。
【解決手段】表面粗さRzが0.5μm以下であり、表面において(111)面の割合が60%以上を占めるグラフェン製造用銅箔10である。 (もっと読む)


【課題】触媒構造体の高強度である点を生かしたまま、流路中心部のガス流れを効率良く乱せる触媒構造体を実現すると共に、連続製造に適した該構造体の製造法を提供する。
【解決手段】平板上に山状部及び谷状部からなるスペーサ部が一定間隔でガス流れ方向に線条に形成された平板状触媒エレメントを多数積層してなる触媒構造体であって、山状部及び谷状部に凹部が所定間隔で形成され、かつ該凹部に棒状のガス攪拌体が、前記スペーサ間に形成される流路の中心に位置するように配置されていることを特徴とする排ガス浄化用触媒構造体。 (もっと読む)


【課題】貴金属排ガス浄化触媒を用いても排ガス浄化触媒の劣化を正確に検出できる方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明に係る劣化検出方法は、強制リッチ制御と、該強制リッチ制御における酸素放出量の検知と、強制リーン制御と、該強制リーン制御における酸素吸収量の検知と、排ガス浄化触媒の酸素吸蔵能の算出を包含している。そして、この劣化検出方法は、排ガス浄化触媒中の貴金属触媒の含有量を、排ガス浄化触媒の容量1Lあたり2g以下に設定することと、OSC材を含む担体への添加物としてバリウム化合物を用いること、強制リッチ制御における混合ガスの空燃比をA/F<14.7に制御し、強制リーン制御における混合ガスの空燃比をA/F=14.7±0.05の範囲内の値に制御すること、算出した酸素吸蔵能に基づいて排ガス浄化触媒の劣化判定を行うこと、をさらに包含することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】白金族金属を使用せず、低温下において、炭化水素および/または炭素を酸化できる触媒を提供すること。
【解決手段】プロトン導電体を含む炭化水素及び炭素の酸化触媒であって、
該プロトン導電体が、Sn1−a(0<a≦1、Mは、In3+および/またはA13+および/またはFe3+である)で表されるピロリン酸スズであり、
該プロトン導電体が、Co1−b(bは、0<b<1のモル比であり、c=(Coの価数×b+Xの価数×(1−b))/2であり、Xは、ランタノイドから選択された1種または2種以上の元素である)をさらに担持してなる、炭化水素および炭素の酸化触媒。 (もっと読む)


【課題】グラビアコート法等の塗布速度の速いコート法に使用できる程度の流動性と速乾性を併せ持つ、経時的に安定な酸化チタン塗布液であって、塗布・乾燥することにより長期間に亘って優れた接着性を発揮できる光触媒塗膜を形成することができる酸化チタン塗布液を提供する。
【解決手段】本発明の酸化チタン塗布液は、下記成分を少なくとも含有する。下記(C)キレート化剤としては、炭素数3〜6のジケトン、ジオール、トリオール、又はテトラオールが好ましい。
(A)酸化チタン粒子
(B)バインダー成分としてのペルオキソチタン酸
(C)キレート化剤
(D)水
(E)アルコール (もっと読む)


【課題】廃ガス排出制御用電気触媒管の提供。
【解決手段】排ガス排出制御用電気触媒管は、富酸素燃焼排ガスの浄化に用いられ、電気触媒管は、管体、アノード層及びカソード層を包含し、該管体は固体酸化物層で構成され、該固体酸化物層は密封チャンバ、密封チャンバの内壁面及び外壁面を具え、該アノード層と該カソード層は該内壁面と該外壁面に設置される。該密封チャンバは還元性環境を具え、該富酸素燃焼排ガスの酸化性環境が、該アノード層とカソード層の間に電動勢を発生させ、該カソード層における該富酸素燃焼排ガス中の窒素酸化物を浄化する触媒分解反応を促進する。本発明は既存の電気化学触媒変換器と比べて、よりシンプルで小体積であり、製造コストが低い。 (もっと読む)


【課題】エタノールを原料として、効率よく水素を製造することのできるエタノール改質触媒を提供する。
【解決手段】下記工程を含む複合酸化物型エタノール改質触媒の製造方法。
工程(1):Ni前駆体(A)、ケイ酸アルカリ金属塩(B)及び水溶性高分子(C)を含む混合溶液をゲル化させてゲル状体を形成する工程
工程(2):前記ゲル状体を乾燥した後、400℃〜700℃にて焼成してNi酸化物とシリカからなる複合酸化物を得る工程 (もっと読む)


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