Fターム[4G169HC02]の内容
Fターム[4G169HC02]に分類される特許
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炭素ドープ酸化チタン層を有する基体の製造方法
耐久性(高硬度、耐スクラッチ性、耐磨耗性、耐薬品性、耐熱性)に優れ且つ可視光応答型光触媒として機能する炭素ドープ酸化チタン層を有する基体の製造方法を提供する。少なくとも表面層がチタン、チタン合金、チタン合金酸化物又は酸化チタンからなる基体の表面をその表面温度が900〜1500℃となるように炭化水素を主成分とするガスの燃焼ガス雰囲気中で、或いは炭化水素を主成分とするガス雰囲気中で加熱処理するか、又は該基体の表面に炭化水素を主成分とするガスの燃焼炎を直接当ててその基体の表面温度が900〜1500℃となるように加熱処理して炭素ドープ酸化チタン層を形成することにより炭素ドープ酸化チタン層を有する基体が得られる。 (もっと読む)
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