Fターム[4H003AB13]の内容

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【課題】種々の用途において好適であり、洗浄力等の点で高い性能を発揮することができるポリアルキレングリコール親水化物、その製造方法及び用途を提供するものである。
【解決手段】下記一般式(1)で表されることを特徴とするポリアルキレングリコール親水化物。[化1]


式中、X及びYは、互いに異なって、水素原子、−SOM、−S−CH−CH−SOM、−PO又は−S−(CH−COOMを表す。R〜Rは、水素原子又はアルキル基を表す。Rは、水素原子、アルキル基、アリール基、多価アルコール基等を表す。p、q、r及びsは、価数を表す。 (もっと読む)


【課題】半導体基板や金属配線の腐食や酸化を起こすことなく、基板表面の微細粒子や金属不純物を除去し得、金属腐食防止剤-Cu皮膜の除去せずに基板表面のカーボン・ディフェクトをも同時に除去し得る処理方法。
【解決手段】ベンゾトリアゾール又はその誘導体含有スラリーで処理された半導体基板を、〔I〕カルボキシル基を少なくとも1個有する有機酸0.05〜50重量%、〔II〕ポリホスホン酸類、アリールホスホン酸類、及びこれらのアンモニウム塩又はアルカリ金属塩からなる群より選ばれる少なくとも1種の錯化剤0.01〜30重量%、〔III〕炭素数1〜5の飽和脂肪族1価アルコール、炭素数3〜10のアルコキシアルコール、炭素数2〜16のグリコール、炭素数3〜20のグリコールエーテル、炭素数3〜10のケトン及び炭素数2〜4のニトリルからなる群より選ばれる少なくとも1種の有機溶媒0.05〜50重量%を含んでなる洗浄剤。 (もっと読む)


【課題】新規なサブチラーゼ変異体の提供。
【解決手段】本発明は、洗浄性能、熱安定性、貯蔵安定性及び触媒活性を包含する1又は複数の性質において、親サブチラーゼに対する改良性を示す新規サブチラーゼ変異体に関する。本発明の変異体は、例えば洗浄又は洗剤組成物、例えば洗濯洗剤組成物及び皿洗い洗浄組成物、例えば自動皿洗い組成物への使用のために適切である。 (もっと読む)


上質なグリース洗浄性と手穏やかさとを組み合わせて提供するために、特定のアニオン性界面活性剤系と、真珠光沢剤と、レオロジー変性剤と、を含む、食器手洗い用洗剤組成物。 (もっと読む)


【課題】洗濯後の被洗物に柔軟性を付与しながら、洗濯時の再汚染を防止することが可能な、保存安定性に優れた衣料用液体洗浄剤組成物を目的とする。
【解決手段】本発明の衣料用液体洗浄剤組成物は、下記一般式(1)で示される非イオン性界面活性剤(A)と、第3級アミン(B)と、水不溶性シリコーン化合物(C)と、SO基又はSO基を有する陰イオン性界面活性剤(D)とを含有することを特徴とする。
[化1]


[式中、Rは炭素数8〜22の疎水基であり、Rは水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基もしくは炭素数2〜6のアルケニル基であり、−X−は連結基を示し、EOはエチレンオキサイド基を示し、POはプロピレンオキサイド基を示す。n及びmはこれらの基の平均付加モル数を表し、nは3〜20の整数であり、mは0〜6の整数である。] (もっと読む)


【課題】 ガラス又はシリコン基板表面の平坦性を損ねることなく、優れたパーティクルの除去性を実現し、低起泡性かつ経時安定性に優れた電子材料用洗浄剤及び洗浄方法を提供する。
【解決手段】アニオン成分が一般式(1)で示されるアニオン性界面活性剤(A)と、炭素数6〜18のアルケン及び一般式(2)で示される有機溶剤からなる群から選ばれる1種以上の有機溶剤(B)と、アルカリ成分(C)とを含有してなり、前記(B)のSP値が6〜13であり、有効成分濃度0.1〜15%における25℃でのpHが10〜14であることを特徴とする電子材料用洗浄剤。
1[−(OA1a−Q-b (1)
3[−(OA2c−OH]d (2) (もっと読む)


【課題】半導体基板の表面に吸着している微小なパーティクルを効果的に除去することが可能な半導体基板洗浄方法を提供すること。
【解決手段】半導体基板洗浄方法は、ガスが飽和濃度まで溶解している酸性の溶液であって、界面活性剤を入れたことにより半導体基板及び吸着粒子のゼータポテンシャルをマイナスにする溶液、或いは、ガスが飽和濃度まで溶解しているアルカリ性の溶液であって、pHが9以上である溶液のいずれかの溶液に前記ガスの気泡を含ませた洗浄液を用いて半導体基板1を洗浄する。 (もっと読む)


【課題】インゴットからウエハをスライシングするとき、あるいはウエハをバックグラインディングするときに、加工熱を速やかに取り除くことと、切削屑を完全に除去することが可能な冷却液を提供する。
【解決手段】冷却液に界面活性剤または界面活性剤混合物を添加する。界面活性剤の濃度は脱塩水からなる溶液に0重量%超〜1重量%以下、特に好ましくは0.1重量%〜0.25重量%以下とし、界面活性剤の分子量は1500(g/mol)以下である。 (もっと読む)


【課題】冷間圧延鋼板等の鋼帯の製造工程における洗浄工程、好ましくはpHが5以上、更に好ましくはアルカリ洗浄工程後のリンス工程において、汚れ成分の残留・蓄積を抑止し、低温でもリンス性に優れたリンス剤組成物を提供する。
【解決手段】(a)臨界ミセル濃度(25℃)が0.07%以下の界面活性剤、(b)アニオン性水溶性高分子及び(c)水とを含有する鋼帯用リンス剤組成物であって、組成物中、(a)及び(b)の合計量が特定範囲にあり、(a)及び(b)を特定濃度で含有するリンス剤として用いるための鋼帯用リンス剤組成物。 (もっと読む)


当該用品は、繊維性不織布ウェブを含み、このウェブに関連付けられたパーソナルケア組成物を有する。本発明は、皮膚、毛髪、若しくは他の同様のケラチン含有表面をクレンジング且つ/又は処置するのに有用な、使い捨てパーソナルケア用品に関する。これらの用品は、乾燥した状態の用品を水で濡らし、次いで当該用品を皮膚、毛髪、若しくは他の同様のケラチン含有表面に擦り付けることによって、又は、濡れた状態の使い捨てパーソナルケア用品を取り、皮膚、毛髪、若しくは他の同様のケラチン含有表面に擦り付けることによって、又は、湿った状態の使い捨てパーソナルケア用品を取り、皮膚、毛髪、若しくは他の同様のケラチン含有表面に擦り付けることによって、消費者に使用される。
(もっと読む)


本発明は、コバルト基触媒を用い比較的高圧で行って通常液体及び通常固体の炭化水素を生成するフィッシャー・トロプシュ法の炭化水素質生成物流を、洗剤炭化水素を含有する中間フラクションよりも低沸点の軽質フラクション、洗剤炭化水素を含有する中間沸点のフラクション、及び洗剤炭化水素を含有する該中間沸点フラクションよりも高沸点の重質フラクションに分離した後、該中間沸点フラクション中に存在する洗剤炭化水素を洗剤に転化する、比較的少量のイソパラフィンを含有する洗剤の製造方法。 (もっと読む)


本発明は、水性の洗浄剤または洗剤溶液において使用したときに洗浄剤または洗剤の発泡性の減少に寄与する、セルロースのアルキル化およびヒドロキシアルキル化によって得られるセルロース誘導体に関する。 (もっと読む)


本発明は、複数個の基材層を含有する使い捨て物品を対象とする。この物品は、パッドサイズの物品、グリップサイズの物品、シートサイズの物品、及び組み合わせから成る群から選択される。これらの物品は、基材層に結合した洗浄組成物を有する。この物品は、有効な洗浄の効果を、皮膚及び毛髪に、使いやすく、安価で、衛生的な方式で提供する。本発明の物品はまた優れた厚さを有する。更に、この物品は、可撓性であると同時に増加した剛性を有する。剛性及び厚さの増加は、使用中に破砕したり又はしわくちゃになったりしない物品を提供する。本発明の物品はまた、治療的又は審美的効果を、別個の効果提供製品を必要とせずに提供することができる。 (もっと読む)


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